JP5267021B2 - 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路 - Google Patents

半導体装置およびそれを用いたインバータ回路 Download PDF

Info

Publication number
JP5267021B2
JP5267021B2 JP2008252790A JP2008252790A JP5267021B2 JP 5267021 B2 JP5267021 B2 JP 5267021B2 JP 2008252790 A JP2008252790 A JP 2008252790A JP 2008252790 A JP2008252790 A JP 2008252790A JP 5267021 B2 JP5267021 B2 JP 5267021B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
chip
igbt
heat radiating
diode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008252790A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010087111A (ja
Inventor
康嗣 大倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2008252790A priority Critical patent/JP5267021B2/ja
Publication of JP2010087111A publication Critical patent/JP2010087111A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5267021B2 publication Critical patent/JP5267021B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance

Landscapes

  • Inverter Devices (AREA)

Description

本発明は、半導体チップの両面を放熱部材で挟み込んだ両面放熱構造の半導体装置およびそれを用いたインバータ回路に関する。
従来より、チップ状の半導体素子の両面に放熱部材を設けて両面から放熱を行う半導体装置が、例えば特許文献1で提案されている。具体的に、特許文献1では、放熱面を有する一対の放熱部材の間に2つの半導体素子が並列に配置され、各半導体素子が接合部材を介して各放熱部材に熱的かつ電気的に接続されており、各放熱部材の放熱面が露出するように各半導体素子等がモールド樹脂で封止された半導体装置が提案されている。
このような半導体装置では、各半導体素子の一方が例えばIGBTとされ、他方が例えば還流用のダイオード素子とされており、各放熱部材の間にIGBTとダイオード素子とが並列接続されている。このうち、IGBTのゲートにはワイヤを介して制御端子が接続されている。そして、IGBTについては一方の放熱部材から他方の放熱部材に電流が流れ、ダイオード素子については他方の放熱部材から一方の放熱部材に電流が流れる構成となる。
上記構成を有する半導体装置では、制御端子を除いた端子は放熱部材の2接続端子となっている。そして、該接続端子を通じて同構造の半導体装置が直列に接続されることで、3相インバータのうちの上下アームが構成される。この上下アームが3つ並列に接続されることにより、3相インバータ回路が構成される。なお、上下アームの各半導体装置のうち、ハイサイド側が上アームに相当し、ローサイド側が下アームに相当する。
特許第3525832号公報
しかしながら、上記従来の技術では、2つの半導体素子を直列に接続して上下アームを構成している。すなわち、一方の半導体装置のIGBTと他方の半導体装置のダイオード素子との間には、各半導体装置の各接続端子が別部材として介在する。このため、上下アーム間の寄生インダクタンスの低減には限界がある。
また、半導体装置を製品として出荷検査する際には、2つの半導体装置で上下アームを構成して検査することとなる。しかし、上下アームの一方は出荷製品であり、他方は別に用意された検査用の半導体装置である。このため、出荷製品は実際とは異なる半導体装置と上下アームを組まされ、上もしくは下アームの単品として検査されるために、例えば発生するダイオードのリカバリサージが実際にインバータ回路に組みつけられる場合とは異なるという問題がある。したがって、検査条件はインバータ回路の制御時に起こり得る状態を網羅した条件に設定する必要があり、結果的に厳しい試験条件で試験しなければならず、歩留の低下を招くという問題があった。
本発明は、上記点に鑑み、半導体装置がインバータ回路に組み込まれたときに上記寄生インダクタンスが低減されると共に、半導体装置が検査される際にインバータ回路に組み込まれた最終構造での検査が可能となる構造を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成されたIGBTチップ(13)と、還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成されたダイオードチップ(14)と、IGBTチップ(13)の表面(13b)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、ダイオードチップ(14)の裏面(14b)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、IGBTチップ(13)の裏面(13a)およびダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(12)と、第1放熱部材(10)のうちIGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、第2放熱部材(11)のうちダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、第3放熱部材(12)のうちIGBTチップ(13)およびダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、IGBTチップ(13)、ダイオードチップ(14)、および各放熱部材(10〜12)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする。
これによると、上アーム(31)の還流用ダイオード素子と下アーム(32)のIGBT素子とが別部材を介することなく一つの半導体装置内で接続された状態になっている。したがって、IGBT素子と還流用ダイオード素子との間を最小限に接続することができ、ひいてはIGBT素子と還流用ダイオード素子との間の寄生インダクタンスを最小限にすることができる。
また、1つの半導体装置に上アーム(31)の還流用ダイオード素子と下アーム(32)のIGBT素子とが備えられているため、半導体装置の動特性検査時に1サンプルを検査装置にセットすることで、ペアとなる素子が確定した状態で検査を行うことができる。このため、検査用の素子を用いた試験を行う必要がなくなり、最終的にインバータ回路に組み込まれた最終構造での検査を行うことができる。したがって、検査条件に半導体装置の組合せのばらつきを考慮する必要がなくなり、インバータ回路の制御時の条件のみを考慮して半導体装置の検査を行うことが可能となる。
請求項2に記載の発明では、IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成されたIGBTチップ(13)と、還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成されたダイオードチップ(14)と、ダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、IGBTチップ(13)の裏面(13a)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、IGBTチップ(13)の表面(13b)およびダイオードチップ(14)の裏面(14b)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(12)と、第1放熱部材(10)のうちダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、第2放熱部材(11)のうちIGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、第3放熱部材(12)のうちIGBTチップ(13)およびダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、IGBTチップ(13)、ダイオードチップ(14)、および各放熱部材(10〜12)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする。
これにより、上アーム(31)のIGBT素子と下アーム(32)の還流用ダイオード素子とが別部材を介することなく一つの半導体装置内で接続された状態になっている。したがって、請求項1と同様に、IGBT素子と還流用ダイオード素子との間の寄生インダクタンスを最小限にすることができる。また、半導体装置の検査についても、請求項1と同様の効果が得られる。
請求項3に記載の発明では、第3放熱部材(12)のうちIGBTチップ(13)およびダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面には、該面が凹んだ切り込み部(12a)が形成されていることを特徴とする。
これにより、半導体装置において第3放熱部材(12)が設けられた側と第1、第2放熱部材(10、11)が設けられた側との応力の均一化を図ることができる。
請求項4に記載の発明では、請求項1または3に記載の半導体装置を第1半導体装置とし、請求項2または3に記載の半導体装置を第2半導体装置とし、第1半導体装置の第3放熱部材(12)と第2半導体装置の第3放熱部材(12)とが電気的に接続され、第1半導体装置の第1放熱部材(10)と第2半導体装置の第1放熱部材(10)とが電気的に接続され、さらに第1半導体装置の第2放熱部材(11)と第2半導体装置の第2放熱部材(11)とが電気的に接続されることにより、第1半導体装置のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子と第2半導体装置のIGBTチップ(13)のIGBT素子とで上アーム(31)が構成されると共に、第1半導体装置のIGBTチップ(13)のIGBT素子と第2半導体装置のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子とで下アーム(32)が構成されており、上アーム(31)と下アーム(32)とで上下アーム(33)が構成され、この上下アーム(33)が3つ並列に接続されることで回路が構成されていることを特徴とする。
このように、請求項1または3および請求項2または3に記載された半導体装置を用いてインバータ回路を構成することができる。
請求項5に記載の発明では、IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成されたIGBTチップ(13)と、還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成されたダイオードチップ(14)と、IGBTチップ(13)の表面(13b)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、ダイオードチップ(14)の裏面(14b)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、IGBTチップ(13)の裏面(13a)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(21)と、ダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第4放熱部材(22)と、第1放熱部材(10)のうちIGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、第2放熱部材(11)のうちダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、第3放熱部材(21)のうちIGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、第4放熱部材(22)のうちダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、IGBTチップ(13)、ダイオードチップ(14)、および各放熱部材(10、11、21、22)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする。
これによると、第3放熱部材(21)と第4放熱部材(22)とを電気的に接続することで、上アーム(31)の還流用ダイオード素子と下アーム(32)のIGBT素子を備えた半導体装置を構成することができる。逆に、第1放熱部材(10)と第2放熱部材(11)とを電気的に接続することで、上アーム(31)のIGBT素子と下アーム(32)の還流用ダイオード素子を備えた半導体装置を構成することができる。このように、各放熱部材(10、11、21、22)のうちどのペアを電気的に接続するかによって、2種類の半導体装置を構成することができる。したがって、半導体装置の汎用性を高めることができる。
このような半導体装置においては、隣り合う放熱部材を電気的に接続するだけであるので、最小の距離で各放熱部材を接続することができる。したがって、IGBT素子と還流用ダイオード素子との間の寄生インダクタンスを最小限にすることができる。また、1つの半導体装置に上アーム(31)の還流用ダイオード素子またはIGBT素子と下アーム(32)のIGBT素子または還流用ダイオード素子とが備えられているため、半導体装置の動特性検査時に、インバータ回路でペアとなる素子が確定した状態で検査を行うことができる。したがって、最終的にインバータ回路に組み込まれた最終構造での検査を行うことができる。
請求項6に記載の発明では、請求項5に記載された半導体装置において、第1放熱部材(10)および第2放熱部材(11)にシート状の貼付金属(40)が貼り付けられることで第1放熱部材(10)と第2放熱部材(11)とが同電位とされたものを第1半導体装置とし、請求項5に記載された半導体装置において、第3放熱部材(21)および第4放熱部材(22)にシート状の貼付金属(40)が貼り付けられることで第3放熱部材(21)と第4放熱部材(22)とが同電位にされたものを第2半導体装置とし、第1半導体装置に設けられた貼付金属(40)と第2半導体装置に設けられた貼付金属(40)とが電気的に接続され、第1半導体装置の第1放熱部材(10)と第2半導体装置の第4放熱部材(22)とが電気的に接続され、さらに第1半導体装置の第2放熱部材(11)と第2半導体装置の第3放熱部材(12)とが電気的に接続されることにより、第1半導体装置のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子と第2半導体装置のIGBTチップ(13)のIGBT素子とで上アーム(31)が構成されると共に、第1半導体装置のIGBTチップ(13)のIGBT素子と第2半導体装置のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子とで下アーム(32)が構成されており、上アーム(31)と下アーム(32)とで上下アーム(33)が構成され、この上下アーム(33)が3つ並列に接続されることで回路が構成されていることを特徴とする。このように、汎用性の高い半導体装置を用いてインバータ回路を構成することができる。
請求項7に記載の発明では、IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成された2つのIGBTチップ(13)と、還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成された2つのダイオードチップ(14)と、一方のIGBTチップ(13)の表面(13b)および一方のダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、他方のダイオードチップ(14)の裏面(14b)および他方のIGBTチップ(13)の裏面(13a)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、一方のIGBTチップ(13)の裏面(13a)、一方のダイオードチップ(14)の裏面(14b)、他方のIGBTチップ(13)の表面(13b)、および他方のダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(12)と、第1放熱部材(10)のうち一方のIGBTチップ(13)およびダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、第2放熱部材(11)のうち他方のダイオードチップ(14)およびIGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、第3放熱部材(12)のうち各IGBTチップ(13)および各ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、各IGBTチップ(13)、各ダイオードチップ(14)、および各放熱部材(10〜12)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする。
これによると、各放熱部材(10〜12)を共通化させて半導体装置を構成できる。したがって、1つの半導体装置で上アーム(31)と下アーム(32)とが組み合わされたものを得ることができる。この場合においては、IGBT素子と還流用ダイオード素子とは第3放熱部材(12)を介して半導体装置内で接続されるため、配線を最小限にすることができ、ひいては寄生インダクタンスを最小にすることができる。また、1つの半導体装置で上下アーム(33)が構成されているため、インバータ回路に組み込まれた最終構造として検査することができる。
請求項8に記載の発明では、請求項7に記載された半導体装置において、一方のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子と他方のIGBTチップ(13)のIGBT素子とで上アーム(31)が構成されると共に、一方のIGBTチップ(13)のIGBT素子と他方のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子とで下アーム(32)が構成され、さらに上アーム(31)と下アーム(32)とで上下アーム(33)が構成されており、半導体装置が3つ備えられ、各半導体装置の各上下アーム(33)が3つ並列に接続されることでインバータ回路が構成されるようにすることもできる。
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。本実施形態で示される半導体装置は、例えば3相インバータ回路に適用されるものである。
図1は、本実施形態に係る第1半導体装置を示した図であり、(a)は断面図、(b)は等価回路図である。また、図2は、本実施形態に係る第2半導体装置を示した図であり、(a)は断面図、(b)は等価回路図である。そして、図3は、図1および図2に示された第1半導体装置1および第2半導体装置2を用いたインバータ回路の回路図である。以下、図1〜図3を参照して説明する。
図1に示されるように、第1半導体装置1は、第1〜第3放熱部材10〜12と、IGBTチップ13と、ダイオードチップ14と、第1、第2ヒートシンク15、16と、モールド樹脂17とを備えて構成されている。
第1〜第3放熱部材10〜12および第1、第2ヒートシンク15、16は、各チップ13、14で発生した熱を第1半導体装置1の外部に放出するヒートシンクとしての役割と、各チップ13、14を外部と電気的に接続するための電極としての役割を果たすものである。
これら各放熱部材10〜12および各ヒートシンク15、16は、例えばプレス加工等により形成される。また、各放熱部材10〜12および各ヒートシンク15、16の材質は、少なくとも導電性と熱伝導性に優れた材料であれば良く、例えばCu、Al、またはそれらの合金系が採用される。
IGBTチップ13は、IGBT素子が形成された半導体チップであり、該チップの裏面13a側から表面13b側に電流が流れるように構成されたものである。すなわち、IGBTチップ13の裏面13aがコレクタ面となり、表面13bがエミッタ面となる。
このIGBTチップ13のゲートパッドはワイヤ18を介してリード18aに接続されている。そして、このリード18aを介して外部から制御信号が入力されることで駆動制御されるようになっている。
ダイオードチップ14は、還流用ダイオード素子が形成された半導体チップであり、該チップの表面14a側から裏面14b側に電流が流れるように構成されたものである。すなわち、ダイオードチップ14の表面14aがアノード面となり、裏面14bがカソード面となる。
これら各放熱部材10〜12、各ヒートシンク15、16、IGBTチップ13、およびダイオードチップ14は、はんだなどの接合部材19によって電気的および熱的に接続されている。なお、接合部材19として銀ペースト等を用いても構わない。
具体的には、第1放熱部材10が接合部材19を介して第1ヒートシンク15に熱的および電気的に接続され、該第1ヒートシンク15が接合部材19を介してIGBTチップ13の表面13bに熱的および電気的に接続されている。一方、第2放熱部材11が接合部材19を介してダイオードチップ14の裏面14bに熱的および電気的に接続され、ダイオードチップ14の表面14aが接合部材19を介して第2ヒートシンク16に熱的および電気的に接続されている。そして、第3放熱部材12が接合部材19を介してIGBTチップ13の裏面13aおよび第2ヒートシンク16に熱的および電気的にそれぞれ接続されている。
これによると、IGBTチップ13のコレクタ面とダイオードチップ14のアノード面とが共通の第3放熱部材12に接続され、IGBTチップ13のエミッタ面とダイオードチップ14のカソード面とはそれぞれ別の第1、第2放熱部材10、11に接続される。
したがって、図1(b)に示される回路が形成される。第1放熱部材10がN端子、第2放熱部材11がP端子、そして第3放熱部材12がIGBT素子と還流用ダイオード素子との間の中点端子としてそれぞれ機能する。N端子は後述する電源34のローサイドに接続され、P端子は電源34のハイサイドに接続され、中点端子は後述する負荷30に接続されることとなる。
モールド樹脂17は、第1半導体装置1の外観をなすものである。このモールド樹脂17は、第1放熱部材10のうちIGBTチップ13が接続された面とは反対側の面と、第2放熱部材11のうちダイオードチップ14が接続された面とは反対側の面と、第3放熱部材12のうちIGBTチップ13およびダイオードチップ14が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、各放熱部材10〜12、各ヒートシンク15、16、IGBTチップ13、およびダイオードチップ14をそれぞれ封止している。これにより、第1半導体装置1は両面放熱構造となっている。なお、モールド樹脂17から露出した第1放熱部材10と第2放熱部材11との各放熱面は同一平面上に配置されている。
本実施形態では、上記IGBTチップ13等が積層されてそれぞれ接合されたもののうち、各放熱部材10〜12の放熱面を除いた各部位にコーティング膜20がコーティングされている。これは、金属である各放熱部材10〜12等と樹脂であるモールド樹脂17との密着力を上げるためのものである。コーティング膜20としては、例えばポリアミド樹脂が用いられる。したがって、モールド樹脂17は該コーティング膜20の上に樹脂成形される。
上記構造の第1半導体装置1は、以下のように製造することができる。まず、各放熱部材10〜12を含んだリードフレームを用意する。図1(a)に示されるように各放熱部材10〜12、各ヒートシンク15、16、IGBTチップ13、およびダイオードチップ14を積層して各々を接合部材19にて接合する。また、制御端子となるリード18aと各IGBTチップ13のゲートパッドとをワイヤ18で接続する。さらに、モールド樹脂17にて封止される部位にコーティング膜20を形成する。
この後、上記積層物を金型に配置して該金型内に樹脂を流し込む。ここで、第1放熱部材10と第2放熱部材11とがそれぞれ別部材になっているため、第1放熱部材10と第2放熱部材11との間に空間が設けられている。したがって、金型に樹脂を流し込む際には、該空間に樹脂が流れ込みやすくなり、樹脂の流動性が向上する。そして、金型内に樹脂を流し込んだ後、該樹脂を固めることにより、図1(a)に示される第1半導体装置1が完成する。
図2に示された第2半導体装置2は、第1半導体装置1に対してIGBT素子と還流用ダイオード素子との接続形態が逆になったものになっている。
具体的には、第1放熱部材10が接合部材19を介して第2ヒートシンク16に熱的および電気的に接続され、該第2ヒートシンク16が接合部材19を介してダイオードチップ14の表面14aに熱的および電気的に接続されている。一方、第2放熱部材11が接合部材19を介してIGBTチップ13の裏面13aに熱的および電気的に接続され、IGBTチップ13の表面13bが接合部材19を介して第1ヒートシンク15に熱的および電気的に接続されている。そして、第3放熱部材12が接合部材19を介してダイオードチップ14の裏面14bおよび第1ヒートシンク15に熱的および電気的にそれぞれ接続されている。
なお、図2に示された第2半導体装置2についても、IGBTチップ13等が積層されてそれぞれ接合されたものにおいて、各放熱部材10〜12の放熱面を除いた各部位にコーティング膜20がコーティングされ、モールド樹脂17が成形されている。
このような構造においては、IGBTチップ13のエミッタ面とダイオードチップ14のカソード面とが共通の第3放熱部材12に接続され、IGBTチップ13のコレクタ面とダイオードチップ14のアノード面とはそれぞれ別の第1、第2放熱部材10、11に接続される。
したがって、図2(b)に示されるように、第1放熱部材10がN端子、第2放熱部材11がP端子、そして第3放熱部材12がIGBT素子と還流用ダイオード素子との間の中点端子としてそれぞれ機能する。該中点端子は後述する負荷30に接続される。
なお、上記構造の第2半導体装置2についても、第1半導体装置1と同様の方法によって製造することができる。
そして、上記構造の第1半導体装置1および第2半導体装置2が組み合わされて、図3に示されるインバータ回路が構成される。
具体的には、まず、図1(b)に示されるように、第1半導体装置1にはインバータ回路の上アーム31を構成する還流用ダイオード素子と下アーム32を構成するIGBT素子とが備えられている。一方、図2(b)に示されるように、第2半導体装置2にはインバータ回路の上アーム31を構成するIGBT素子と下アーム32を構成する還流用ダイオード素子とが備えられている。
したがって、第1半導体装置1の中間端子としての第3放熱部材12と第2半導体装置2の中間端子としての第3放熱部材12とが電気的に接続される。また、第1半導体装置1のN端子としての第1放熱部材10と第2半導体装置2のN端子としての第1放熱部材10とが電気的に接続される。さらに、第1半導体装置1のP端子としての第2放熱部材11と第2半導体装置2のP端子としての第2放熱部材11とが電気的に接続される。
これにより、図3に示されるように、第1半導体装置1のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子と第2半導体装置2のIGBTチップ13のIGBT素子とで上アーム31が構成される。同様に、第1半導体装置1のIGBTチップ13のIGBT素子と第2半導体装置2のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子とで下アーム32が構成される。
そして、上アーム31と下アーム32とで構成された上下アーム33が3つ並列に接続され、各上下アーム33のP端子とN端子との間に電源34が接続されることにより、3相インバータ回路が構成されている。各上下アーム33の中間端子がそれぞれ負荷30に接続される。負荷30は、例えば3相モータである。
各半導体装置1、2の各IGBTチップ13は、外部から入力された制御信号に従ってオン/オフを繰り返す。これにより、負荷30に対して3相交流電源を供給できるようになっている。
以上説明したように、本実施形態では、第1半導体装置1に上アーム31の還流用ダイオード素子と下アーム32のIGBT素子とを接続したものを設け、第2半導体装置2に上アーム31のIGBT素子と下アーム32の還流用ダイオード素子とを接続したものを設けていることが特徴となっている。
これにより、各半導体装置1、2では、上アーム31の素子と下アーム32の素子とが半導体装置1、2を離れた他の別部材を介することなく第3放熱部材12を介して接続されている。したがって、IGBT素子と還流用ダイオード素子との間を最小限に接続することができるので、ΔV=Ls・di/dtで表されるサージ電圧の要因である寄生インダクタンスを最小限にすることができる。
また、各半導体装置1、2には上アーム31の還流用ダイオード素子またはIGBT素子と下アーム32のIGBT素子または還流用ダイオード素子とがセットで備えられている。これにより、各半導体装置1、2の動特性検査時に1サンプルを検査装置にセットすることで、上下アーム33の両方の素子を構成できるため、検査用の素子を用意する必要がなくなる。このため、各半導体装置1、2が図3に示されたインバータ回路に組み込まれた最終構造での検査を行うことができる。この場合、最終的にインバータ回路を構成する組合せでの検査となるので、検査条件は組合せのばらつきを考慮する必要がなく、制御時の条件のみを考慮して設定すれば良い。
そして、各半導体装置1、2に特性不良が発生した場合、IGBT素子、還流用ダイオード素子をそれぞれ独立して測定できるため、原因追及を容易に行うことができる。
さらに、各素子の搭載向きやリードフレーム形状が異なる点を除いては、従来と同様の組付け方法にてインバータ回路の構成が可能である。
上記のようにして、IGBT素子と還流用ダイオード素子とを直列に接続した半導体装置2種類を並列に接続した構成とすることで、寄生インダクタンス低減などの特性、検査性、組付け性を向上できる。
(第2実施形態)
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。上記第1実施形態では、第1半導体装置1において第1、第2放熱部材10、11が設けられた側では、第1、第2放熱部材10、11は別部材であるので、第1放熱部材10と第2放熱部材11との間に樹脂が配置されることになる。しかし、第1半導体装置1において第1、第2放熱部材10、11の反対側に設けられた第3放熱部材12はIGBTチップ13およびダイオードチップ14に共通の部材となるため、上記のような隙間がない。このため、第1半導体装置1において第1、第2放熱部材11側と第3放熱部材12側とでは応力のバランスが偏る可能性がある。
そこで、本実施形態では、第3放熱部材12に切り込みを加えることにより、該応力のバランスを向上させたことが特徴となっている。
図4は、本実施形態に係る第1半導体装置1の断面図である。この図に示されるように、第3放熱部材12のうち、IGBTチップ13の裏面13aおよび第2ヒートシンク16が接続された面とは反対側の面に、該面が凹んだ切り込み部12aが設けられている。
これにより、第1半導体装置1の第3放熱部材12側においても、第1、第2放熱部材11側の空間に対応したものを設けることができる。したがって、第1半導体装置1において第1、第2放熱部材10、11が設けられた側と第3放熱部材12が設けられた側との応力の均一化を図ることができる。
なお、図2(a)に示された第2半導体装置2についても、第3放熱部材12に図4に示された切り込み部12aを設けることができる。
(第3実施形態)
本実施形態では、第1、第2実施形態と異なる部分についてのみ説明する。図5は、本実施形態に係る第3半導体装置の断面図である。この図に示されるように、第3半導体装置3は、第1、第2、第4、第5放熱部材10、11、21、22の4つの放熱部材を備えている。
そして、第1放熱部材10が接合部材19を介して第1ヒートシンク15に熱的および電気的に接続され、該第1ヒートシンク15が接合部材19を介してIGBTチップ13の表面13bに熱的および電気的に接続されている。また、IGBTチップ13の裏面13aが接合部材19を介して第4放熱部材21に熱的および電気的に接続されている。IGBTチップ13のゲートパッドはワイヤ18を介してリード18aに接続されている。
一方、第2放熱部材11が接合部材19を介してダイオードチップ14の裏面14bに熱的および電気的に接続され、ダイオードチップ14の表面14aが接合部材19を介して第2ヒートシンク16に熱的および電気的に接続されている。また、第2ヒートシンク16が接合部材19を介して第5放熱部材22に熱的および電気的に接続されている。
このような積層物に第1実施形態と同様にコーティング膜20が形成され、該積層物がモールド樹脂17により封止されている。この場合、第1放熱部材10のうちIGBTチップ13が接続された面とは反対側の面、第2放熱部材11のうちダイオードチップ14が接続された面とは反対側の面、第4放熱部材21のうちIGBTチップ13が接続された面とは反対側の面、および第5放熱部材22のうちダイオードチップ14が接続された面とは反対側の面がそれぞれ露出するように、モールド樹脂17によって封止されている。
なお、モールド樹脂17から露出した第1放熱部材10と第2放熱部材11との各放熱面は同一平面上に配置されている。また、モールド樹脂17から露出した第4放熱部材21と第5放熱部材22との各放熱面は同一平面上に配置されている。
上記のような構造を持った第3半導体装置3によって、図3に示されたインバータ回路を構成することが可能である。このためには、第1、第2半導体装置1、2のように、第3半導体装置3にも中間端子を設ける必要がある。
そこで、本実施形態では、図5に示されたシート状の貼付金属40を用いる。この貼付金属40は、例えば絶縁基板41に設けられた貼付金属面に相当するものである。すなわち、第3半導体装置3をはんだ等を介して絶縁基板41に直接設置することが可能である。
例えば、図5に示されるように、第4放熱部材21および第5放熱部材22に両方に接触するように、第4放熱部材21および第5放熱部材22に貼付金属40が貼り付けられた場合、第4放熱部材21と第5放熱部材22とが同電位となる。したがって、第3半導体装置3は図1(a)に示された第1半導体装置1と同じ構成となる。すなわち、上アーム31と還流用ダイオード素子と下アーム32のIGBT素子とが接続されたものが得られる。
一方、第1放熱部材10および第2放熱部材11に両方に接触するように、第2放熱部材11および第2放熱部材11に貼付金属40が貼り付けられた場合、第1放熱部材10と第2放熱部材11とが同電位となる。したがって、第3半導体装置3は図2(a)に示された第2半導体装置2と同じ構成となる。すなわち、上アーム31のIGBT素子と下アーム32の還流用ダイオード素子とが接続されたものが得られる。
したがって、第1半導体装置1と同じ構成とされた第3半導体装置3と、第2半導体装置2と同じ構成とされた第3半導体装置3とを第1実施形態と同様に電気的に接続される。
これにより、第1半導体装置1と同じ構成とされた第3半導体装置3のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子と第2半導体装置2と同じ構成とされた第3半導体装置3のIGBTチップ13のIGBT素子とで上アーム31が構成される。また、第1半導体装置1とされた第3半導体装置3のIGBTチップ13のIGBT素子と第2半導体装置2とされた第3半導体装置3のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子とで下アーム32が構成される。
そして、上記のようにして構成された上アーム31と下アーム32とで上下アーム33が構成され、この上下アーム33が3つ並列に接続されることで図3に示されたインバータ回路が構成される。
以上のように、各放熱部材10、11、21、22をそれぞれ別部材とすることで、1つの構造から2つのタイプの装置を構成することができる。このため、汎用性の高い半導体装置を提供することが可能となる。また、第3半導体装置3において、第1、第2放熱部材10、11側と第4、第5放熱部材21、22側とが同じ構造となるため、応力のバランスを向上させることもできる。
なお、本実施形態の記載と特許請求の範囲の記載との対応関係については、第4放熱部材21が特許請求の範囲の第3放熱部材に対応し、第5放熱部材22が特許請求の範囲の第4放熱部材に対応する。
(第4実施形態)
本実施形態では、第1〜第3実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、1つの半導体装置で上下アーム33が構成されていることが特徴となっている。
図6(a)は、本実施形態に係る第4半導体装置の斜視図である。この図に示されるように、第4半導体装置4においては、第3放熱部材12の上に2つのIGBTチップ13および2つのダイオードチップ14が配置されている。
第3放熱部材12には、一方のIGBTチップ13の裏面13a、一方のダイオードチップ14の裏面14b、他方のIGBTチップ13の表面13b、および他方のダイオードチップ14の表面14aが熱的および電気的にそれぞれ接続されている。
そして、第1放熱部材10は、一方のIGBTチップ13の表面13bおよび一方のダイオードチップ14の表面14aに熱的および電気的に接続されている。また、第2放熱部材11は、他方のダイオードチップ14の裏面14bおよび他方のIGBTチップ13の裏面13aに熱的および電気的に接続されている。なお、図6(a)では各ヒートシンク15、16やモールド樹脂17を省略してある。
このような構成によると、一方のIGBTチップ13のIGBT素子と他方のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子とのペア23が形成される。また、他方のIGBTチップ13のIGBT素子と一方のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子とのペア24が形成される。
すなわち、図6(a)に示された第4半導体装置4は、ペア23が図1(a)に示された第1半導体装置1に相当するものであり、ペア24が図2(a)に示された第2半導体装置2に相当するものである。言い換えると、第4半導体装置4は、第1半導体装置1と第2半導体装置2との各第3放熱部材12を一体化させたものになっている。
上記ペア23およびペア24により、一方のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子と他方のIGBTチップ13のIGBT素子とで上アーム31が構成され、一方のIGBTチップ13のIGBT素子と他方のダイオードチップ14の還流用ダイオード素子とで下アーム32が構成される。
したがって、図6(b)に示された上下アーム33が3つ並列に接続されることで、図3に示されたインバータ回路が構成されることとなる。
以上のように、各放熱部材10〜12を共通化させて第4半導体装置4を構成することにより、1つの第4半導体装置4であらかじめ上下アーム33が構成されたものを得ることができる。これにより、配線をより簡易化することが可能となる。
(他の実施形態)
上記各実施形態では、コーティング膜20が形成されたものが示されているが、これは一例であって、該コーティング膜20が形成されていなくても良い。
(a)は本発明の第1実施形態に係る第1半導体装置の断面図であり、(b)は(a)の等価回路図である。 (a)は本発明の第1実施形態に係る第2半導体装置の断面図であり、(b)は(a)の等価回路図である。 第1半導体装置および第2半導体装置が用いられて構成されたインバータ回路の回路図である。 本発明の第2実施形態に係る第1半導体装置の断面図である。 本発明の第3実施形態に係る第3半導体装置の断面図である。 (a)は本発明の第4実施形態に係る第4半導体装置の斜視図であり、(b)は(a)の等価回路図である。
符号の説明
10 第1放熱部材
11 第2放熱部材
12 第3放熱部材
12a 切り込み部
13 IGBTチップ
13a IGBTチップの裏面
13b IGBTチップの表面
14 ダイオードチップ
14a ダイオードチップの表面
14b ダイオードチップの裏面
17 モールド樹脂
21 第4放熱部材
22 第5放熱部材
31 上アーム
32 下アーム
33 上下アーム
40 貼付金属

Claims (8)

  1. IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成されたIGBTチップ(13)と、
    還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成されたダイオードチップ(14)と、
    前記IGBTチップ(13)の表面(13b)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、
    前記ダイオードチップ(14)の裏面(14b)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、
    前記IGBTチップ(13)の裏面(13a)および前記ダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(12)と、
    前記第1放熱部材(10)のうち前記IGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、前記第2放熱部材(11)のうち前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、前記第3放熱部材(12)のうち前記IGBTチップ(13)および前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、前記IGBTチップ(13)、前記ダイオードチップ(14)、および前記各放熱部材(10〜12)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする半導体装置。
  2. IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成されたIGBTチップ(13)と、
    還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成されたダイオードチップ(14)と、
    前記ダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、
    前記IGBTチップ(13)の裏面(13a)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、
    前記IGBTチップ(13)の表面(13b)および前記ダイオードチップ(14)の裏面(14b)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(12)と、
    前記第1放熱部材(10)のうち前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、前記第2放熱部材(11)のうち前記IGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、前記第3放熱部材(12)のうち前記IGBTチップ(13)および前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、前記IGBTチップ(13)、前記ダイオードチップ(14)、および前記各放熱部材(10〜12)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする半導体装置。
  3. 前記第3放熱部材(12)のうち前記IGBTチップ(13)および前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面には、該面が凹んだ切り込み部(12a)が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  4. 請求項1または3に記載の半導体装置を第1半導体装置とし、請求項2または3に記載の半導体装置を第2半導体装置とし、
    前記第1半導体装置の第3放熱部材(12)と前記第2半導体装置の第3放熱部材(12)とが電気的に接続され、前記第1半導体装置の第1放熱部材(10)と前記第2半導体装置の第1放熱部材(10)とが電気的に接続され、さらに前記第1半導体装置の第2放熱部材(11)と前記第2半導体装置の第2放熱部材(11)とが電気的に接続されることにより、前記第1半導体装置の前記ダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子と前記第2半導体装置の前記IGBTチップ(13)のIGBT素子とで上アーム(31)が構成されると共に、前記第1半導体装置の前記IGBTチップ(13)のIGBT素子と前記第2半導体装置の前記ダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子とで下アーム(32)が構成されており、
    前記上アーム(31)と前記下アーム(32)とで上下アーム(33)が構成され、この上下アーム(33)が3つ並列に接続されることで回路が構成されていることを特徴とするインバータ回路。
  5. IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成されたIGBTチップ(13)と、
    還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成されたダイオードチップ(14)と、
    前記IGBTチップ(13)の表面(13b)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、
    前記ダイオードチップ(14)の裏面(14b)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、
    前記IGBTチップ(13)の裏面(13a)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(21)と、
    前記ダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第4放熱部材(22)と、
    前記第1放熱部材(10)のうち前記IGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、前記第2放熱部材(11)のうち前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、前記第3放熱部材(21)のうち前記IGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、前記第4放熱部材(22)のうち前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、前記IGBTチップ(13)、前記ダイオードチップ(14)、および前記各放熱部材(10、11、21、22)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする半導体装置。
  6. 請求項5に記載された半導体装置において、前記第1放熱部材(10)および前記第2放熱部材(11)にシート状の貼付金属(40)が貼り付けられることで前記第1放熱部材(10)と前記第2放熱部材(11)とが同電位とされたものを第1半導体装置とし、
    請求項5に記載された半導体装置において、前記第3放熱部材(21)および前記第4放熱部材(22)にシート状の貼付金属(40)が貼り付けられることで前記第3放熱部材(21)と前記第4放熱部材(22)とが同電位にされたものを第2半導体装置とし、
    前記第1半導体装置に設けられた貼付金属(40)と前記第2半導体装置に設けられた貼付金属(40)とが電気的に接続され、前記第1半導体装置の第1放熱部材(10)と前記第2半導体装置の第4放熱部材(22)とが電気的に接続され、さらに前記第1半導体装置の第2放熱部材(11)と前記第2半導体装置の第3放熱部材(12)とが電気的に接続されることにより、前記第1半導体装置の前記ダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子と前記第2半導体装置の前記IGBTチップ(13)のIGBT素子とで上アーム(31)が構成されると共に、前記第1半導体装置の前記IGBTチップ(13)のIGBT素子と前記第2半導体装置の前記ダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子とで下アーム(32)が構成されており、
    前記上アーム(31)と前記下アーム(32)とで上下アーム(33)が構成され、この上下アーム(33)が3つ並列に接続されることで回路が構成されていることを特徴とするインバータ回路。
  7. IGBT素子が形成され、裏面(13a)側から表面(13b)側に電流が流れるように構成された2つのIGBTチップ(13)と、
    還流用ダイオード素子が形成され、表面(14a)側から裏面(14b)側に電流が流れるように構成された2つのダイオードチップ(14)と、
    前記一方のIGBTチップ(13)の表面(13b)および前記一方のダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第1放熱部材(10)と、
    前記他方のダイオードチップ(14)の裏面(14b)および前記他方のIGBTチップ(13)の裏面(13a)に熱的および電気的に接続された第2放熱部材(11)と、
    前記一方のIGBTチップ(13)の裏面(13a)、前記一方のダイオードチップ(14)の裏面(14b)、前記他方のIGBTチップ(13)の表面(13b)、および前記他方のダイオードチップ(14)の表面(14a)に熱的および電気的に接続された第3放熱部材(12)と、
    前記第1放熱部材(10)のうち前記一方のIGBTチップ(13)および前記ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面と、前記第2放熱部材(11)のうち前記他方のダイオードチップ(14)および前記IGBTチップ(13)が接続された面とは反対側の面と、前記第3放熱部材(12)のうち前記各IGBTチップ(13)および前記各ダイオードチップ(14)が接続された面とは反対側の面とがそれぞれ露出するように、前記各IGBTチップ(13)、前記各ダイオードチップ(14)、および前記各放熱部材(10〜12)を封止したモールド樹脂(17)とを備えていることを特徴とする半導体装置。
  8. 請求項7に記載された半導体装置において、前記一方のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子と前記他方のIGBTチップ(13)のIGBT素子とで上アーム(31)が構成されると共に、前記一方のIGBTチップ(13)のIGBT素子と前記他方のダイオードチップ(14)の還流用ダイオード素子とで下アーム(32)が構成され、さらに前記上アーム(31)と前記下アーム(32)とで上下アーム(33)が構成されており、
    前記半導体装置が3つ備えられ、前記各半導体装置の前記各上下アーム(33)が3つ並列に接続されることで回路が構成されていることを特徴とするインバータ回路。
JP2008252790A 2008-09-30 2008-09-30 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路 Expired - Fee Related JP5267021B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008252790A JP5267021B2 (ja) 2008-09-30 2008-09-30 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008252790A JP5267021B2 (ja) 2008-09-30 2008-09-30 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010087111A JP2010087111A (ja) 2010-04-15
JP5267021B2 true JP5267021B2 (ja) 2013-08-21

Family

ID=42250810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008252790A Expired - Fee Related JP5267021B2 (ja) 2008-09-30 2008-09-30 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5267021B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5488196B2 (ja) * 2010-05-20 2014-05-14 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP5733092B2 (ja) * 2011-08-03 2015-06-10 トヨタ自動車株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP5500290B2 (ja) * 2013-04-23 2014-05-21 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP6064928B2 (ja) * 2014-02-13 2017-01-25 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP6344215B2 (ja) 2014-11-21 2018-06-20 株式会社デンソー 半導体装置及びパワーモジュール
JP6689708B2 (ja) * 2016-08-10 2020-04-28 ルネサスエレクトロニクス株式会社 電子装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3129020B2 (ja) * 1992-04-09 2001-01-29 富士電機株式会社 半導体装置
JP3879150B2 (ja) * 1996-08-12 2007-02-07 株式会社デンソー 半導体装置
WO1998012748A1 (fr) * 1996-09-18 1998-03-26 Hitachi, Ltd. Module a semiconducteur de jonction
JP4192396B2 (ja) * 2000-04-19 2008-12-10 株式会社デンソー 半導体スイッチングモジュ−ル及びそれを用いた半導体装置
JP4239580B2 (ja) * 2002-12-13 2009-03-18 株式会社デンソー 半導体装置
JP2005136332A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Toyota Motor Corp 半導体装置
JP2006140217A (ja) * 2004-11-10 2006-06-01 Toyota Motor Corp 半導体モジュール
JP4532303B2 (ja) * 2005-02-08 2010-08-25 トヨタ自動車株式会社 半導体モジュール
JP4581885B2 (ja) * 2005-07-22 2010-11-17 株式会社デンソー 半導体装置
JP4840165B2 (ja) * 2007-01-29 2011-12-21 株式会社デンソー 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010087111A (ja) 2010-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4438489B2 (ja) 半導体装置
JP6065995B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP6665926B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP5267021B2 (ja) 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路
JP2010027814A (ja) 電力用半導体装置
JP5659938B2 (ja) 半導体ユニットおよびそれを用いた半導体装置
WO2005119896A1 (ja) インバータ装置
JP7088132B2 (ja) 半導体装置及び電子装置
JP2015076562A (ja) パワーモジュール
US20130112993A1 (en) Semiconductor device and wiring substrate
JP6945418B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
US11315850B2 (en) Semiconductor device
JP2017123360A (ja) 半導体モジュール
JP2021068783A (ja) 半導体装置
JP4356494B2 (ja) 半導体装置
JP4695041B2 (ja) 半導体装置
JP2013113638A (ja) 半導体装置
JP5083294B2 (ja) 電力用半導体装置
JP2007288044A (ja) 半導体装置
JP5682511B2 (ja) 半導体モジュール
JP4258411B2 (ja) 半導体装置
JP4055700B2 (ja) 半導体装置
JP2017069352A (ja) 半導体装置
JP2023141693A (ja) 半導体装置
JP5494590B2 (ja) 半導体モジュールおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120117

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130409

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130422

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5267021

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees