JP5266908B2 - 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 - Google Patents
液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5266908B2 JP5266908B2 JP2008166918A JP2008166918A JP5266908B2 JP 5266908 B2 JP5266908 B2 JP 5266908B2 JP 2008166918 A JP2008166918 A JP 2008166918A JP 2008166918 A JP2008166918 A JP 2008166918A JP 5266908 B2 JP5266908 B2 JP 5266908B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arrangement
- discharge
- correction
- value
- landing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 89
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 title claims description 73
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 142
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 236
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 58
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 160
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 116
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 38
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 27
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 27
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 9
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
特許文献1には、吐出ノズルごとに着弾位置情報を取得して、主走査方向の位置ずれを補正した配置パターンを作成し、当該パターンに従って吐出を行うことによって、基板上の所定の位置に精度よく液状体を着弾させることができる液状体の吐出方法が開示されている。
最初に、フィルタ膜などの機能膜の形成に用いられる液滴吐出法について説明する。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を精度よく配置できるという利点を有する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
このうち、電気機械変換方式は、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって液状の材料を貯留した空間に可撓性を有する材料で形成された部材を介して圧力を与え、この空間から液状材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。ピエゾ方式は、液状材料を加熱することがないため、材料の組成などへの影響が少なく、駆動電圧を調整することによって液滴の大きさを容易に調整することができるなどの利点を有する。本実施形態では、材料の組成などに影響を与えないため液状材料選択の自由度が高いこと、及び液滴の大きさを容易に調整することができるため液滴の制御性がよいことから、上記ピエゾ方式を用いる。
次に、液滴吐出ヘッド17を備える液滴吐出装置1の全体構成について、図1を参照して説明する。図1は液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図である。
次に、図2を参照して、液滴吐出ヘッド17について説明する。図2は、液滴吐出ヘッドの構成を示す図である。図2(a)は、液滴吐出ヘッドをノズルプレート側から見た外観斜視図であり、図2(b)は、液滴吐出ヘッドの圧力室周りの構造を示す斜視断面図であり、図2(c)は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズル部の構造を示す断面図である。液滴吐出ヘッド17が、吐出手段に相当する。
圧力室プレート51には、液体導入部71から振動板52の液供給孔53を経由して供給される機能液が常に充填される液たまり55が形成されている。液たまり55は、振動板52と、ノズルプレート76と、圧力室プレート51の壁とに囲まれた空間である。また、圧力室プレート51には、複数のヘッド隔壁57によって区切られた圧力室58が形成されている。振動板52と、ノズルプレート76と、2個のヘッド隔壁57とによって囲まれた空間が圧力室58である。
圧電素子59は電極層と圧電材料とを積層した活性部を有し、電極層に駆動電圧を印加することで、活性部が長手方向(図2(b)又は(c)においては振動板52の厚さ方向)に縮む。活性部が縮むことで、圧電素子59の一端が固定された振動板52が圧力室58と反対側に引張られる力を受ける。振動板52が圧力室58と反対側に引張られることで、振動板52が圧力室58の反対側に撓む。これにより、圧力室58の容積が増加することから、機能液が液たまり55から供給口56を経て圧力室58に供給される。次に、電極層に印加されていた駆動電圧が解除されると、活性部が元の長さに戻ることで、圧電素子59が振動板52を押圧する。振動板52が押圧されることで、圧力室58側に戻る。これにより、圧力室58の容積が急激に元に戻る、すなわち増加していた容積が減少することから、圧力室58内に充填されていた機能液に圧力が加わり、当該圧力室58に連通して形成された吐出ノズル78から機能液が液滴となって吐出される。
次に、ヘッド機構部2が備えるヘッドユニット21の概略構成について、図3を参照して説明する。図3は、ヘッドユニットの概略構成を示す平面図である。図3に示したX軸及びY軸は、ヘッドユニット21が液滴吐出装置1に取り付けられた状態において、図1に示したX軸及びY軸と一致している。
次に、上述したような構成を有する液滴吐出装置1を駆動するための電気的構成について、図4を参照して説明する。図4は、液滴吐出装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図である。液滴吐出装置1は、制御装置65を介してデータの入力や、稼働開始や停止などの制御指令の入力を行うことで、制御される。制御装置65は、演算処理を行うホストコンピュータ66と、液滴吐出装置1に情報を入出力するための入出力装置68とを有し、インタフェイス(I/F)67を介して吐出装置制御部6と接続されている。入出力装置68は、情報を入力可能なキーボード、記録媒体を介して情報を入出力する外部入出力装置、外部入出力装置を介して入力された情報を保存しておく記録部、モニタ装置などである。
次に、液滴吐出装置1における吐出制御方法について、図5を参照して説明する。図5は、液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図である。
図5に示すように、ヘッドドライバ17dは、FFCケーブルを介して各液滴吐出ヘッド17と電気的に接続されている。また、液滴吐出ヘッド17は、吐出ノズル78(図2参照)ごとに設けられた圧電素子59に対応して、シフトレジスタ(SL)85と、ラッチ回路(LAT)86と、レベルシフタ(LS)87と、スイッチ(SW)88とを備えている。
次に、圧電素子59に印加する駆動信号の駆動波形、及び当該駆動波形の駆動信号を印加された圧電素子59の動作による吐出動作について、図6を参照して説明する。図6は、駆動波形の基本波形及び駆動波形に対応した圧電素子の動作を示す図である。図6(a)は、圧電素子に印加する駆動信号の駆動波形の基本波形を示す図であり、図6(b)は、駆動波形に対応した圧電素子の動作による液滴吐出ヘッドの吐出動作を示す模式断面図である。
図6(b)に示すように、圧電素子59を中間電位に維持した待機状態では、圧電素子59がわずかに縮んで振動板52が圧電素子59の側に引張られることで、振動板52が圧力室58の反対側に撓んでいる(図6(b)のA)。
高電位の電圧値によって、圧電素子59が縮む量が異なるため、圧力室58の容積が増加する量も異なる。このため、当該高電位の電圧値を変えることによって、圧力室58に充填されて吐出される機能液の量、すなわち液滴吐出ヘッド17からの吐出量を調整することができる。
圧電素子59の機械振動が収まる時間だけ吐出後待機状態を維持した後、圧電素子59に印加する電圧を中間電位に引き上げて(図6(a)のF)、再び待機状態(中間電位)にする。
次に、吐出ノズル78と、それぞれの吐出ノズル78から吐出された液滴の着弾位置と、の関係について説明する。図7は、吐出ノズルと、それぞれの吐出ノズルから吐出された液滴の着弾位置と、の関係を示す説明図である。図7(a)は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図であり、図7(b)は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図7(c)は、液滴を主走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図7(d)は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図である。図7に示したX軸及びY軸は、ヘッドユニット21が液滴吐出装置1に取り付けられた状態において、図1に示したX軸及びY軸と一致している。X軸方向が主走査方向であって、図7に示した矢印aの方向に吐出ノズル78を相対移動させながら、任意の位置において液状体の液滴を吐出することによって、X軸方向の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
図7(b)に示すように、着弾位置を示す着弾点81と、着弾した液滴の濡れ広がり状態を示す着弾円81Aとで、着弾した1滴の液滴の状態を示している。2列のノズル列78Aの全部の吐出ノズル78から、図7(b)に二点鎖線で示した仮想線L上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチPの1/2の中心間間隔で着弾円81Aが連なる直線が形成される。
図7(c)に示すように、一つの吐出ノズル78から連続して液滴を吐出させることによって、X軸方向に着弾円81Aが連なる直線が形成される。X軸方向における着弾点81間の中心間距離の最小値を、最小着弾距離dと表記する。最小着弾距離dは、主走査方向の相対移動速度と、吐出ノズル78の最小吐出間隔との積である。
図7(d)に示すように、二点鎖線で示した仮想線L1,L2,L3上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチPの1/2の中心間間隔で着弾円81Aが連なる直線が、X軸方向に並列した着弾面が形成される。図7(d)に示した仮想線L1,L2,L3間の距離が最小着弾距離dの場合のそれぞれの着弾点81が、液滴吐出装置1によって機能液の液滴を配置可能な位置である。
図7(d)に示したそれぞれの着弾点81の位置について、液滴を配置する位置を定めることによって、機能液を配置する配置表が形成される。当該配置表をビットマップと表記する。ビットマップが、配置パターンに相当する。
次に、液滴吐出装置1を用いて機能膜を形成する対象物の一例である液晶表示パネルについて説明する。液晶表示パネル200(図8参照)は、液晶装置の一例であり、カラーフィルタの一例である液晶表示パネル用のカラーフィルタを備える液晶表示パネルである。
最初に、液晶表示パネル200の構成について、図8を参照して説明する。図8は、液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。図8に示した液晶表示パネル200は、駆動素子として薄膜トランジスタ(TFT(Thin Film Transistor)素子)を用いるアクティブマトリックス方式の液晶装置であり、図示省略したバックライトを用いる透過型の液晶装置である。
次に、マザー対向基板201Aについて、図9を参照して説明する。対向基板220は、分割されることによってガラス基板201となるマザー対向基板201Aの上に上述したCF層208などを形成した後、マザー対向基板201Aを個別の対向基板220(ガラス基板201)に分割して形成される。図9(a)は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面であり、図9(b)は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図である。なお、本実施形態においては、マザー対向基板201Aの上にCF層208などを形成したものや、CF層208などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板201Aと表記する。
次に、対向基板220に形成されているCF層208及びCF層208におけるフィルタ膜205(赤色フィルタ膜205R、緑色フィルタ膜205G、及び青色フィルタ膜205B)の配列について、図10を参照して説明する。図10は、3色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図である。
次に、液晶表示パネル200を形成する工程について、図11、図12、及び図13を参照して説明する。図11は、液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャートである。図12は、液晶表示パネルを形成する過程におけるフィルタ膜を形成する工程などを示す断面図であり、図13は、液晶表示パネルを形成する過程における配向膜を形成する工程などを示す断面図である。液晶表示パネル200は、それぞれ別々に形成した素子基板210と対向基板220とを、貼り合わせて形成する。
ステップS1では、ガラス基板201の上に、フィルタ膜領域225を区画形成するための隔壁部を形成する。隔壁部は、ブラックマトリックス202を格子状に形成し、その上にバンク203を形成して、ブラックマトリックス202とバンク203とで構成された隔壁204を格子状に配置することによって形成する。これにより、図12(a)に示すように、ガラス基板201の表面に、隔壁204によって区画された方形のフィルタ膜領域225が形成される。
次に、図11のステップS4では、対向電極207を形成する。図12(f)に示すように、平坦化膜206の上の、少なくともCF層208のフィルタ膜205が形成された領域の全面を覆う領域に、透明な導電材料を用いて、薄膜を形成する。この薄膜が、上述した対向電極207である。
図13(g)に示すように、対向電極207が形成されたガラス基板201の表面に液滴吐出ヘッド17を対向させて、液滴吐出ヘッド17からガラス基板201の表面に向けて配向膜液242を吐出する。同時に、ガラス基板201に対して液滴吐出ヘッド17を矢印aで示したように相対移動させることによって、ガラス基板201の配向膜228を形成する領域の全面に配向膜液242を配置する。配置された配向膜液242を乾燥させることで、図13(h)に示すように、配向膜228を形成する。ステップS5を実施して、対向基板220が形成される。
ステップS6では、ガラス基板211の上に導電層や絶縁層や半導体層を形成することで、TFT素子215などの素子や、走査線212や、信号線214や、絶縁層216などを形成する。走査線212及び信号線214は、素子基板210と対向基板220とが、貼り合わされた状態で、隔壁204に対向する位置に、即ち画素の周辺の位置に形成する。TFT素子215は、画素の端に位置するように形成し、1画素に少なくとも1個のTFT素子215を形成する。
図13(i)に示すように、画素電極217が形成されたガラス基板211の表面に液滴吐出ヘッド17を対向させて、液滴吐出ヘッド17からガラス基板211の表面に向けて配向膜液242を吐出する。同時に、ガラス基板211に対して液滴吐出ヘッド17を矢印aで示したように相対移動させることによって、ガラス基板211の配向膜218を形成する領域の全面に配向膜液242を配置する。配置された配向膜液242を乾燥させることで、図13(j)に示すように、配向膜218を形成する。ステップS8を実施して、素子基板210が形成される。
次に、液滴吐出装置1が有する液滴吐出ヘッド17から機能液を吐出して、マザー対向基板201AにおけるCF層208のフィルタ膜領域225などに機能液を配置するための工程について、図14、図15、図16、図17、及び図18を参照して説明する。図14は、機能液を配置する工程を示すフローチャートである。図15は、フィルタ膜領域と吐出ノズルとビットマップとの関係を示す説明図である。図16は、走査ずれ量と補正単位係数と、上限閾値及び下限閾値と、の関係を示す説明図である。図17は、着弾位置検査における着弾位置の例を示す説明図である。図18は、ビットマップの例と着弾位置の例とを示す説明図である。図15、図17、及び図18に示したX軸及びY軸は、ヘッドユニット21が液滴吐出装置1に取り付けられた状態において、図1に示したX軸及びY軸と一致している。
図15(a)に示した網目は、X軸方向が最小着弾距離dであり、Y軸方向がノズルピッチPの1/2であり、それぞれの網目にそれぞれ1個の着弾点81が対応する。#51から#80は、吐出ノズル78にそれぞれ付けられた番号を示している。
機能液の液滴を、ビットマップに示された配置点81aの位置に着弾させることによって、機能液の液滴は、着弾点81が着弾点領域225aの範囲に入る位置に着弾する。着弾した機能液の液滴が濡れ広がることによって、図15(c)に示したように、フィルタ膜領域225の全面を埋める膜状のフィルタ膜205が形成される。
なお、図10などを参照して説明した3色カラーフィルタにおいては、同色のフィルタ膜205がY軸方向で隣り合うことはないが、図15では、間を省略して、隣り合うフィルタ膜領域225に同一の機能液を配置するビットマップを示している。
上限閾値SU及び下限閾値SDの説明に先立って、ビットマップにおける配置点81aの位置の修正について説明する。着弾点81の位置が、配置点81aによって規定された位置から大きくずれた場合には、配置点81aの位置を補正することによって、着弾点81の位置が、源配置点810aの位置から大きくずれないように補正する。
配置点81aの位置を補正する補正量を示す値を、補正値Sと表記する。主走査方向における源配置点810aの位置からの着弾点81の位置のずれ量を、走査ずれ量Mと表記する。
補正値Sは、補正単位係数SFと補正単位Dとの積で表す。本実施形態では、補正単位Dとして最小着弾距離dを用いる。補正単位係数SFは、走査ずれ量Mを補正単位D(本実施形態では最小着弾距離d)で除した値より小さい整数の中で最大の数字である。走査ずれ量Mのずれの方向を示すために、主走査方向の一方への走査ずれ量Mを正とし、他方への走査ずれ量Mを負としている。走査ずれ量Mが負の値の場合、走査ずれ量Mの絶対値を最小着弾距離dで除した値より小さい整数の中で最大の数字に負の符号を付けた数字を補正単位係数SFとする。
図16に示したように、上限閾値SU及び下限閾値SDは、以下に示す式に従って算出する。
現補正単位係数SF値=0の場合。
補正単位係数SF値+側の上限閾値SU=最小着弾距離d+ヒステリシス幅w
補正単位係数SF値−側の上限閾値SU=最小着弾距離d−ヒステリシス幅w
現補正単位係数SF値>0の場合。
上限閾値SU=最小着弾距離d×(現補正単位係数SF値+1)+ヒステリシス幅w
下限閾値SD=最小着弾距離d×(現補正単位係数SF値)−ヒステリシス幅w
現補正単位係数SF値<0の場合。
上限閾値SU=最小着弾距離d×(現補正単位係数SF値−1)−ヒステリシス幅w
下限閾値SD=最小着弾距離d×(現補正単位係数SF値)+ヒステリシス幅w
現補正単位係数SF値=0の場合は、0より小さい絶対値はないため、下限閾値SDは存在しない。あるいは、下限閾値SD=現補正単位係数SF値=0である。
上限閾値SUと下限閾値SDとの間の距離は、最小着弾距離dよりヒステリシス幅wの2倍だけ大きくなっており、補正単位係数SF値がN(整数)の上限閾値SUと、補正単位係数SF値がN+1(整数)の下限閾値SDとは、ヒステリシス幅wの2倍の距離を隔てる値に設定される。2倍のヒステリシス幅wは、例えば、液滴吐出装置1の固有着弾位置精度を予め実験的に求めて、当該固有着弾位置精度に設定する。ここで、固有着弾位置精度は、一般的に機械類が必ず持っていて、なくすることができない誤差に起因する着弾位置のばらつきの範囲であって、液滴吐出装置1が正常な(補正の対象とするべきでない)状態でも、着弾位置がばらつく範囲である。
図17(b)、(c)、及び(d)は、着弾位置のずれがある場合の着弾位置の例を示す説明図である。図17(b)、(c)、又は(d)に示すように、主走査方向における飛行曲がりなどによって主走査方向の着弾位置がずれる吐出ノズル78から吐出された液滴は、略一直線状に配列する着弾点81からX軸方向にずれた位置に着弾する。
走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲から外れたずれ量である場合(ステップS26でNO)には、ステップS27に進む。
図17(b)に示した着弾位置の例では、#56及び#72の吐出ノズル78から吐出された液滴の着弾点81の主走査方向における位置が、それぞれ距離d1又はd2だけずれている。#72の吐出ノズル78については、d2<d+wであるため、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲のずれ量であると判定する。#56の吐出ノズル78については、d1>d+wであるため、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲を外れるずれ量であると判定する。
図18(a)に示したビットマップは、#56の吐出ノズル78に対応する配置点81aの位置が、図17(b)に示した着弾点81のずれ方向と反対側に、源配置点810aの位置からdだけ補正されたビットマップである。#72の吐出ノズル78については、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲のずれ量であるため、#72の吐出ノズル78に対応する配置点81aの位置は補正されていない。その他の吐出ノズル78については、着弾点81のずれが殆どないため、対応する配置点81aの位置は補正されていない。ステップS27の次に、ステップS28に進む。
ステップS26又はステップS27の次にステップS28では、補正を必要としなかったビットマップ又はステップS27で生成された配置点81aの位置を補正したビットマップに基づいて、描画吐出を実施する。図17(b)に示したような着弾点81のずれがある吐出ノズル78が存在しても、図18(a)に示したように配置点81aの位置を補正したビットマップに基づいて描画吐出を実施することによって、図18(c)に示したように、適正な着弾点81の位置に略等しい位置に液滴を着弾させることができる。
図18(c)に示した着弾点81は、上述した着弾点領域225aの範囲に収まっている。図18(c)に示した着弾点81に着弾した機能液の液滴が、上述したように、濡れ広がることによって、図15(c)に示したような、フィルタ膜領域225の全面を埋める膜状のフィルタ膜205が形成される。
図17(c)に示した着弾位置の例では、#56及び#72の吐出ノズル78から吐出された液滴の着弾点81の主走査方向における位置が、それぞれ距離d3又はd4だけずれている。#72の吐出ノズル78については、d4<d+wであるため、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲のずれ量であると判定する。
#56の吐出ノズル78については、d3>d+wであるため、現在の補正単位係数SFが0の場合には、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲を外れるずれ量であると判定する。しかし、2d+w>d3>d+wであるため、現在の補正単位係数SFが1の場合には、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲のずれ量であると判定する。したがって、図17(b)に示した着弾位置の例に対応したビットマップを用いて描画吐出を実施している場合には、図17(c)に示したような着弾位置では、ビットマップの更新は実施されない。
#72の吐出ノズル78については、d6>d+wであるため、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲を外れるずれ量であると判定する。
#56の吐出ノズル78については、d5>2d+w>d+wであるため、現在の補正単位係数SFが0の場合には、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲を外れるずれ量であると判定する。さらに、現在の補正単位係数SFが1の場合にも、d5>2d+wであるため、走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲を外れるずれ量であると判定する。
したがって、図17(b)に示した着弾位置の例に対応したビットマップを用いて描画吐出を実施している場合であっても、図17(d)に示したような着弾位置では、ステップS27に進んで、ビットマップの更新を実施する。
この場合のステップS27では、図17(d)に示したような着弾位置に対応して配置点81aの位置を補正したビットマップを生成する。図18(b)は、配置点の位置を補正したビットマップを示す説明図である。図18(b)に示したビットマップは、図17(d)に示した着弾位置に対応した補正を実施したものである。上述したように、図17(d)に示した着弾位置においては、#56の吐出ノズル78の走査ずれ量Mがd5であり、d5>(2d+w)であって、(d5/d)>2であるため、補正単位係数SFは2になり、補正値Sは2dとなる。
#72の吐出ノズル78の走査ずれ量Mがd6であり、(d+w)<d6であり、1<(d6/d)<2であるため、補正単位係数SFは1になり、補正値Sは、dとなる。図18(b)に示したビットマップにおいて、#56の吐出ノズル78に対応する配置点81aの位置が、図17(d)に示した着弾点81のずれ方向と反対側に、源配置点810aの位置から2dだけ補正されている。同様に、図18(b)に示したビットマップにおいて、#72の吐出ノズル78に対応する配置点81aの位置が、図17(d)に示した着弾点81のずれ方向と反対側に、源配置点810aの位置からdだけ補正されている。その他の吐出ノズル78については、着弾点81のずれが殆どないため、対応する配置点81aの位置は補正されていない。
ステップS28の描画吐出においては、図17(d)に示したような着弾点81のずれがある吐出ノズル78が存在しても、図18(b)に示したように配置点81aの位置を補正したビットマップに基づいて描画吐出を実施することによって、図18(c)に示したように、適正な着弾点81の位置に略等しい位置に液滴を着弾させることができる。上述したように、図18(c)に示した着弾点81は、上述した着弾点領域225aの範囲に収まっている。図18(c)に示した着弾点81に着弾した機能液の液滴が、上述したように、濡れ広がることによって、図15(c)に示したような、フィルタ膜領域225の全面を埋める膜状のフィルタ膜205が形成される。
(1)着弾位置検査において求められた走査ずれ量Mが、上限閾値SUと下限閾値SDの間の範囲のずれ量である場合は、ビットマップの補正は実施しない。これにより、走査ずれ量Mが上限閾値SUと下限閾値SDの間で変動してもビットマップの補正は実施しないため、走査ずれ量Mの微小な変動に対してビットマップの補正を実施することを抑制することができる。
形成する膜を有する装置、又は形成過程において膜を形成する必要がある装置も、液晶表示装置に限らない。上述したような膜を有する装置、又は形成過程において上記したような膜を形成する必要がある装置であれば、どのような装置であってもよい。例えば、有機EL表示装置にも適用できる。有機EL表示装置を製造する際に上述した液滴吐出装置を用いて形成する機能膜は、有機EL表示装置の正極電極膜や陰極電極膜、フォトエッチングなどによってパターンを形成するための膜や、フォトエッチングなどのフォトレジスト膜などであってもよい。
吐出ヘッドとマザー基板との主走査方向の相対移動を、吐出ヘッドを主走査方向に移動させることで実施してもよい。吐出ヘッドとマザー基板との副走査方向の相対移動を、マザー基板を副走査方向に移動させることで実施してもよい。あるいは、吐出ヘッドとマザー基板との、主走査方向及び副走査方向の相対移動を、吐出ヘッド、又はマザー基板のどちらか一方を、主走査方向及び副走査方向に移動させることで実施してもよいし、吐出ヘッド、又はマザー基板の両方を、主走査方向及び副走査方向に移動させることで実施してもよい。
Claims (10)
- 液状体を吐出する吐出ノズルを有する吐出手段と前記液状体が吐出される被吐出物とを相対移動させ、前記被吐出物における、配置パターンによって規定された所定の配置位置に、前記液状体を配置する液状体吐出方法であって、
前記配置位置の情報を取得する配置位置情報取得工程と、
前記配置位置情報取得工程において取得された前記配置位置の情報に基づいて、配置パターンを生成する配置パターン生成工程と、
前記相対移動方向における前記液状体の着弾位置を検査する着弾位置検査工程と、
前記着弾位置検査工程による検査結果から、前記配置位置に対する前記着弾位置のずれを検証する位置ずれ検証工程と、
前記位置ずれ検証工程における検証結果に基づいて補正配置パターンを生成する補正配置パターン生成工程と、を有し、
前記位置ずれ検証工程では、前記着弾位置検査工程において取得された前記着弾位置から算出される第一の配置パターンに対応する前記着弾位置の位置ずれ量を、前記第一の配置パターンによって規定された第一の配置位置に対応する閾値と比較し、
前記補正配置パターン生成工程では、前記着弾位置が前記第一の配置位置から前記閾値を超えて乖離している吐出ノズルについて、前記第一の配置パターンに対して前記相対移動方向における前記配置位置を補正した第二の配置パターンを生成し、
補正単位を設け、前記配置位置の補正量値は、前記補正単位の整数倍であり、
前記閾値は、前記補正量値より大きい上限閾値及び前記補正量値より小さい下限閾値であり、前記上限閾値と前記下限閾値との差が前記補正単位より大きいことを特徴とする液状体吐出方法。 - 前記上限閾値と前記下限閾値との差と、前記補正単位と、の差が、前記液状体を配置する際の固有着弾位置精度であることを特徴とする、請求項1に記載の液状体吐出方法。
- 前記上限閾値と当該補正量値との差と、前記下限閾値と当該補正量値との差とが、互いに異なることを特徴とする、請求項1又は2に記載の液状体吐出方法。
- 前記上限閾値と当該補正量値との差が、前記下限閾値と当該補正量値との差より大きいことを特徴とする、請求項3に記載の液状体吐出方法。
- 前記着弾位置の前記配置位置からのずれ量に対応する前記補正量値は、前記ずれ量を前記補正単位で除した数値より小さい整数における最大の整数と、前記補正単位との積であることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液状体吐出方法。
- 前記着弾位置の前記配置位置からのずれ量に対応する前記補正量値は、前記ずれ量に前記補正単位より小さい所定の数値を加えた数値を前記補正単位で除した数値より小さい整数における最大の整数と、前記補正単位との積であることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液状体吐出方法。
- 液状体を吐出する吐出ノズルを有する吐出手段と、前記吐出手段と前記液状体が吐出される被吐出物とを相対移動させる移動手段とを備え、前記被吐出物における、配置パターンによって規定された所定の配置位置に、前記液状体を配置する液状体吐出装置であって、
前記配置位置の情報を取得する配置位置情報取得手段と、
前記配置位置情報取得手段によって取得された前記配置位置の情報に基づいて、配置パターンを生成する配置パターン生成手段と、
前記相対移動方向における前記液状体の着弾位置を検査する着弾位置検査手段と、
前記着弾位置検査手段による検査結果から、前記配置位置に対する前記着弾位置のずれを検証する位置ずれ検証手段と、
前記位置ずれ検証手段による検証結果に基づいて補正配置パターンを生成する補正配置パターン生成手段と、を有し、
前記位置ずれ検証手段は、前記着弾位置検査手段によって取得された前記着弾位置から算出される第一の配置パターンに対応する前記着弾位置の位置ずれ量を、前記第一の配置パターンによって規定された第一の配置位置に対応する閾値と比較し、
前記補正配置パターン生成手段は、前記着弾位置が前記第一の配置位置から、前記閾値を超えて乖離している吐出ノズルについて、前記第一の配置パターンに対して前記相対移動方向における前記配置位置を補正した第二の配置パターンを生成し、
補正単位を設け、前記配置位置の補正量値は、前記補正単位の整数倍であり、
前記閾値は、前記補正量値より大きい上限閾値及び前記補正量値より小さい下限閾値であり、前記上限閾値と前記下限閾値との差が前記補正単位より大きいことを特徴とする液状体吐出装置。 - 前記上限閾値と前記下限閾値との差と、前記補正単位と、の差が、液状体吐出装置が前記液状体を配置する際の固有着弾位置精度であることを特徴とする、請求項7に記載の液状体吐出装置。
- それぞれの前記補正量値に対応する前記上限閾値と当該補正量値との差と、前記下限閾値と当該補正量値との差とが、互いに異なることを特徴とする、請求項7又は8に記載の液状体吐出装置。
- それぞれの前記補正量値に対応する前記上限閾値と当該補正量値との差が、前記下限閾値と当該補正量値との差より大きいことを特徴とする、請求項9に記載の液状体吐出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008166918A JP5266908B2 (ja) | 2008-06-26 | 2008-06-26 | 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008166918A JP5266908B2 (ja) | 2008-06-26 | 2008-06-26 | 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010005523A JP2010005523A (ja) | 2010-01-14 |
JP5266908B2 true JP5266908B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=41586603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008166918A Active JP5266908B2 (ja) | 2008-06-26 | 2008-06-26 | 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5266908B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006224483A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Seiko Epson Corp | 画像処理装置、画像処理方法、制御プログラムおよび記録装置 |
JP4305478B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2009-07-29 | セイコーエプソン株式会社 | 液状体の吐出方法、配線基板の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機el発光素子の製造方法 |
-
2008
- 2008-06-26 JP JP2008166918A patent/JP5266908B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010005523A (ja) | 2010-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4962413B2 (ja) | 液状体吐出装置、及び液状体吐出方法 | |
KR100923262B1 (ko) | 액상체의 묘화 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 및 유기 el소자의 제조 방법 | |
JP2010101933A (ja) | 電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置の製造装置 | |
JP5115400B2 (ja) | 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 | |
KR20080068567A (ko) | 패턴 형성 방법 | |
KR101021550B1 (ko) | 머더 기재, 막 형성 영역의 배설 방법, 및 컬러 필터의 제조 방법 | |
US7753482B2 (en) | Pattern forming method, liquid droplet discharging apparatus, and electrooptical device | |
KR100912642B1 (ko) | 액적 토출 장치, 액상체의 토출 방법, 컬러 필터의 제조 방법 | |
JP2008126175A (ja) | 液状体配置方法、デバイスの製造方法、液状体吐出装置 | |
JP5266908B2 (ja) | 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 | |
JP2009172524A (ja) | 液滴吐出装置、及び液状体の配置方法、並びにカラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2010054774A (ja) | 液状体吐出方法、及び液状体吐出装置 | |
JP2009160541A (ja) | 描画方法、及び描画装置、並びに電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置の製造装置 | |
JP2009233573A (ja) | ヘッドユニット、吐出装置、及び吐出方法 | |
JP4998236B2 (ja) | 基材の被吐出領域配置方法、及びマザーパネルのパネル領域配置方法 | |
JP2009139613A (ja) | 液滴吐出装置、液滴吐出装置の制御方法、電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2008149258A (ja) | 液滴吐出方法、重量測定方法、液滴吐出装置 | |
JP2010279874A (ja) | 液状体吐出ヘッド、液状体吐出装置、液状体吐出方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 | |
JP2010145452A (ja) | 液状体吐出装置、液状体吐出方法、基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2009288278A (ja) | 液状体吐出装置、液状体吐出方法、電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法、電子機器の製造装置、及び電子機器の製造方法 | |
JP2010119960A (ja) | 液状体吐出装置、及び液状体吐出方法 | |
JP5532579B2 (ja) | 電気光学装置、カラーフィルタ及び液晶装置 | |
JP5927997B2 (ja) | 描画方法 | |
JP2009136720A (ja) | 液状体の吐出方法、液滴吐出装置およびカラーフィルタの製造方法 | |
JP2008093570A (ja) | 重量測定方法、液状体の吐出方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110324 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120502 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130131 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5266908 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |