JP5265671B2 - 三次元物体の層状製造方法 - Google Patents
三次元物体の層状製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5265671B2 JP5265671B2 JP2010508750A JP2010508750A JP5265671B2 JP 5265671 B2 JP5265671 B2 JP 5265671B2 JP 2010508750 A JP2010508750 A JP 2010508750A JP 2010508750 A JP2010508750 A JP 2010508750A JP 5265671 B2 JP5265671 B2 JP 5265671B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- particle beam
- focused
- dimensional object
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 16
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 38
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 27
- 229920006260 polyaryletherketone Polymers 0.000 claims description 21
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 17
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 12
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 11
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 229920001652 poly(etherketoneketone) Polymers 0.000 claims description 6
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 5
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 claims description 4
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 claims description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920000110 poly(aryl ether sulfone) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 4
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- 229920008285 Poly(ether ketone) PEK Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 2
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 claims description 2
- 229920001283 Polyalkylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 claims description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 claims 1
- 229920001660 poly(etherketone-etherketoneketone) Polymers 0.000 claims 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 claims 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 abstract 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 33
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 7
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 229920004695 VICTREX™ PEEK Polymers 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000004482 other powder Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N oxobismuth;hydrochloride Chemical compound Cl.[Bi]=O BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N tin(ii) sulfide Chemical compound [Sn]=S AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/141—Processes of additive manufacturing using only solid materials
- B29C64/153—Processes of additive manufacturing using only solid materials using layers of powder being selectively joined, e.g. by selective laser sintering or melting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Description
− 粉末材料の固化が点毎に実行されるため、固化される各位置がレーザーによって個々にアプローチされなければならず、これは時間の浪費である。
本発明の第1の実施形態は、電磁放射又は粒子放射の作用に起因して粉末材料の色を変化させ得ることを利用する。これは初めに、熱可塑性ポリマーについて、一例として、熱安定化していないポリアミド66粉末を構築材料として使用する第1の実施形態において観測された。しかしながら、ポリエチレン(PE、HDPE、LDPE)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド、ポリエステル、ポリエステルエステル、ポリエーテルエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリアルキレンテレフタレート、特にポリエチレンテレフタレート(PET)及びポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリメチル−メタクリレート(PMMA)、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリフェニレンオキシド(PPO)、ポリオキシメチレン(POM)、ポリスチレン(PS)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン、熱可塑性ポリウレタン(TPU)、ポリアリールエーテルケトン、特にポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルケトンケトン(PEKK)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトンケトン(PEEKK)、ポリエーテルエーテルエーテルケトン(PEEEK)又はポリエーテルケトンエーテルケトンケトン(PEKEKK)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリアリーレンスルフィド、特にポリフェニレンスルフィド(PPS)、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリビニリデンフルオリド等の他の全ての熱可塑材及び熱可塑性ゴム、並びにポリアリールエーテルケトン(PAEK)/ポリアリールエーテルスルホン(PAES)コポリマー等のこれらの熱可塑材のコポリマー、混合物及び/又はポリマー配合物も等しく利用可能である。
電磁放射又は粒子放射が適用される際の吸収性の変化を増大させるために、使用されるベース材料を、添加剤と混合していてもよい。これらの添加剤は、混合物の吸収性の顕著な変化が観測され得るような程度に、吸収性を変化させることができる。さらに、添加剤の計画的な添加によって、或る特定の放射(例えば、或る特定の波長を有する放射)に対する感応性を計画的にもたらすことができる。ここで、感応性は、選択的露光用の指向性ビームについて(例えば、或る特定の波長を有するレーザー光について)増大し得る。輻射加熱器に関する感応性の計画的な増大も予想される。添加剤として考えられるものは、
− UV−VIS及び/又は赤外領域で吸収する全ての既成の着色剤(染料及び顔料)、
− BASF AGのLumogen IR765及びLumogen IR788、カーボンブラック、グラファイト、カーボンファイバ又はカーボンナノチューブ等の黒色顔料、(好ましくは酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫化スズ又はそれらの混合物等の酸化物及び硫化物をベースとした)半導体材料、又は半導体材料で被覆された担体(例えば、小さいマイカプレート、小さいSiO2プレート、小さいAl2O3プレート、小さいガラスプレート、小さいアルミニウムプレート、小さいBiOClプレート、SiO2ボール、TiO2ボール、ポリマーボール、シリカゲル、キーゼルグール、ガラスボール、中空ガラスボール、TiO2ニードル、又は担体の混合物)等の特に近赤外領域で最大吸収を有する添加剤であり、
− これらの添加剤は、0.01重量%〜30重量%、好ましくは0.1重量%〜10重量%の量で添加することができ、
− 顔料の粒径は、0.01μm〜150μm、好ましくは0.1μm〜30μmであり、
− また、近赤外領域において主に散乱及び吸収するフィラー及び防炎剤、
− 潤滑剤、安定化剤、又は結晶性に対する影響によって吸収を直接的に又は間接的に変化させ得る成核剤等の加工助剤である。
第3の実施形態において、ポリアリールエーテルケトン粉末を、構築材料として使用する。構築材料としてのポリアリールエーテルケトンは、PAEK粉末から製造される部材が良好な生体適合性、並びに加水分解及び放射に対する高い耐性を特徴とするため、特に興味深い。詳細には、高温における耐熱性及び耐薬品性も、従来のプラスチック粉末に対してPAEK粉末を特徴付けるものである。これらの特性に起因して、PAEK材料は、自動車産業及び電子工学産業、並びに医薬産業において特に需要がある。詳細には、かかるPAEKポリマー粉末は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルケトンケトン(PEKK)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトンケトン(PEEKK)、又はポリエーテルケトンエーテルケトンケトン(PEKEKK)の群からの粉末であってもよい。
0.15kN・s/m2の溶融粘度を有するVictrex社から供給されるPEEK粉末を構築材料として使用し、この粉末を、レーザー焼結装置外部の空気循環炉内で予備熱処理にかけた。
部材の密度が輻射加熱装置による処理によって増大したという証明のために、輻射加熱装置の12秒の相互作用時間(後焼結時間)を省いて上記実施例3aを繰り返した。上記実施例3aにおける場合と同様に、構築空間の半分それぞれに、150×20×4mm(長さ、幅、高さ)のサンプルを作製した。冷却したサンプルの密度の測定は、後焼結時間なしに(実施例3b)1.308g/cm3の密度、及び12秒の後焼結時間を伴って(実施例3a)1.314g/cm3の密度を示した。LM顕微鏡写真を用いて部材の破壊面を検査すると多孔性の減少も光学的に観測することができた(図1及び図2参照)。後焼結時間がないと、サンプルは多くの孔を有したのに対し(図2)、後焼結時間を伴うことで略高密度の部材を得ることができた(図1)。
最終的に、輻射加熱装置を用いて固化を行わない実施形態も可能である。ここでは、粉末表面上に進行し得る指向性ビームを有する照射源(7)に加えて、同様のタイプの第2の放射源が設けられる。初めに塗布された粉末層における吸収性を、照射源(7)を用いて選択的に増大させた後、実際の選択的固化を第2の照射源を用いて行う。このために、第2の照射源(フォトンビーム又は粒子ビーム)の指向性ビームを続けて、照射源(7)によって吸収性が事前に増大され、且つ塗布された粉末層における物体の断面に相当する位置に方向付ける。
Claims (22)
- 三次元物体の層状製造方法であって、
粉末状の材料の層を、支持体上又は選択位置で既に固化した層上に供給する第1の工程と、
集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8’)を選択的に前記層の選択された位置に方向付ける第2の工程とを含み、
前記第2の工程において、前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビームを、前記層に当たると前記材料の吸収性の変化をもたらすように選択し、
前記第2の工程の終了後に、前記材料を、形成される前記三次元物体の断面に相当する前記層の位置で均質に固化するように、該層を電磁放射線(18’)で照射する第3の工程を実行することを特徴とする、三次元物体の層状製造方法。 - 前記第3の工程における前記固化が、前記第2の工程で前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8’)を方向付けた位置において行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記第3の工程における前記固化が、前記第2の工程で前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8’)を方向付けなかった位置において行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8’)がレーザービームである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記レーザービームの波長が300nm〜10600nmである、請求項4に記載の方法。
- 前記第2の工程において、化学反応が、前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8')によって前記材料中で開始される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の工程において、前記材料中の相転移が、前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8')によって開始される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の工程において、前記材料の密度の変化が、前記集束フォトンビーム又は集束粒子ビーム(8')によって為される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 添加剤を粉末状の前記材料に添加し、該添加剤の吸収性を前記第2の工程で変化させる、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記添加剤がナノ粒子である、請求項9に記載の方法。
- 前記第3の工程において使用される前記電磁放射線(18’)の最大値が、1000nm〜6000nmの波長領域内である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第3の工程において、マイクロ波を電磁放射線(18’)として使用する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第3の工程において、第2の集束フォトンビーム又は第2の集束粒子ビームを、前記層の照射のために使用する、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 熱可塑材を材料として使用する、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記熱可塑材が、ポリエチレン(PE、HDPE、LDPE)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド、ポリエステル、ポリエステルエステル、ポリエーテルエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリアルキレンテレフタレート、特にポリエチレンテレフタレート(PET)及びポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリメチル−メタクリレート(PMMA)、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリフェニレンオキシド(PPO)、ポリオキシメチレン(POM)、ポリスチレン(PS)、アクリロニトリル−ブタジエンスチレン(ABS)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン、熱可塑性ポリウレタン(TPU)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリアリーレンスルフィド、特にポリフェニレンスルフィド(PPS)、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミド−イミド(PAI)、ポリビニリデンフルオリド、又はこれらの熱可塑材のコポリマー、混合物及び/又はポリマー配合物の群を含むタイプのものである、請求項14に記載の方法。
- ポリアリールエーテルケトン(PAEK)粉末又はポリアリールエーテルケトン(PAEK)/ポリアリールエーテルスルホン(PAES)コポリマーを材料として使用する、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記材料が、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルケトンケトン(PEKK)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトンケトン(PEEKK)、ポリエーテルエーテルエーテルケトン(PEEEK)、又はポリエーテルケトンエーテルケトンケトン(PEKEKK)の群からの粉末を少なくとも含有する、請求項16に記載の方法。
- 前記第1の工程及び前記第2の工程を、前記第3の工程を実行する前に連続して繰り返し実行する、請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法。
- 放射を用いて形成される三次元物体の断面に相当する位置で粉末状の固化可能な材料の層を連続的に固化することによって三次元物体を製造する装置であって、
形成される前記三次元物体を支持するような実質的に平らな面を有する支持体(4)と、
前記材料の層を前記支持体又は既に少なくとも部分的に固化した層の表面上に塗布するための塗布装置(10)と、
電磁ビーム又は粒子ビーム(8’)を、前記三次元物体の断面に相当する層の位置に、又は代替的に前記三次元物体の断面に相当しない層の位置に選択的に方向付けることができる照射装置(7)と、
前記粉末層を加熱するような1000nm〜6000nmの最大波長を有する放射(18’)を放出することができる輻射加熱装置(18)とを備え、
該装置が、前記層の選択的照射終了後且つ新たな層を塗布する前に前記材料の固化のための待機時間を挿入する動作制御装置(19)を備えることを特徴とする、三次元物体を製造する装置。 - 前記動作制御装置が、前記待機時間中の前記輻射加熱装置(18)の加熱出力を増大させる、請求項19に記載の装置。
- 放射を用いて形成される三次元物体の断面に相当する位置で粉末状の固化可能な熱可塑性樹脂材料の層を連続的に固化させることによって三次元物体を製造する装置であって、
形成される前記三次元物体を支持するような実質的に平らな面を有する支持体(4)と、
前記材料の層を前記支持体又は既に少なくとも部分的に固化した層の表面上に塗布するための塗布装置(10)と、
第1の電磁ビーム又は粒子ビーム(8’)を、前記材料の吸収性を変化させるべく前記層上に選択的に方向付けることができる照射装置(7)とを備え、
第2の電磁ビーム又は粒子ビームを前記層上に選択的に方向付けるための第2の照射源が設けられ、該第2の電磁ビーム又は粒子ビームが、前記第1の電磁ビーム又は粒子ビームよりも高い出力密度を有し、
該装置は更に動作制御装置(19)を備え、該動作制御装置(19)は、
前記第1の電磁ビーム又は粒子ビーム(8’)により前記層における材料の吸収性が選択的に変化するように前記照射装置(7)を制御すると共に、前記第1の電磁ビーム又は粒子ビーム(8’)によって吸収性が事前に増大されており且つ前記層における三次元物体の断面に相当する前記層の位置に、前記第2の電磁ビーム又は粒子ビームを方向付けるように前記第2の照射源を制御することを特徴とする、三次元物体を製造する装置。 - 更に、前記粉末層を加熱するような1000nm〜6000nmの最大波長を有する放射(18’)を送出することができる輻射加熱装置(18)を備え、
前記動作制御装置(19)は、前記第2の電磁ビーム又は粒子ビームによる前記層の選択的照射終了後且つ新たな層を塗布する前に待機時間を挿入する、請求項21に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007024469.1 | 2007-05-25 | ||
DE102007024469A DE102007024469B4 (de) | 2007-05-25 | 2007-05-25 | Verfahren zum schichtweisen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
PCT/EP2008/004149 WO2008145316A2 (de) | 2007-05-25 | 2008-05-23 | Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010527810A JP2010527810A (ja) | 2010-08-19 |
JP5265671B2 true JP5265671B2 (ja) | 2013-08-14 |
Family
ID=39877177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010508750A Active JP5265671B2 (ja) | 2007-05-25 | 2008-05-23 | 三次元物体の層状製造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9011982B2 (ja) |
EP (1) | EP2106337B2 (ja) |
JP (1) | JP5265671B2 (ja) |
CN (1) | CN101932429B (ja) |
AT (1) | ATE540803T1 (ja) |
BR (1) | BRPI0812112A2 (ja) |
DE (1) | DE102007024469B4 (ja) |
HK (1) | HK1147228A1 (ja) |
RU (1) | RU2469851C2 (ja) |
WO (1) | WO2008145316A2 (ja) |
Families Citing this family (113)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9895842B2 (en) | 2008-05-20 | 2018-02-20 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Selective sintering of structurally modified polymers |
US8709330B2 (en) * | 2009-01-06 | 2014-04-29 | The Boeing Company | Manufacturing aircraft parts |
IT1395683B1 (it) * | 2009-08-03 | 2012-10-16 | Dws Srl | Macchina stereolitografica perfezionata |
DE102009040582A1 (de) * | 2009-09-08 | 2011-03-10 | Christoph Heiland | Verfahren zum Herstellen eines lasergesinterten Körpers mit der Eigenschaft einen Stoff zu absorbieren, adsorbieren oder emittieren |
US8795833B2 (en) * | 2009-10-27 | 2014-08-05 | Basf Se | Polyoxymethylene laser sintering powder, process for its production, and moldings produced from this laser sintering powder |
US8725931B1 (en) | 2010-03-26 | 2014-05-13 | Western Digital Technologies, Inc. | System and method for managing the execution of memory commands in a solid-state memory |
US8782327B1 (en) | 2010-05-11 | 2014-07-15 | Western Digital Technologies, Inc. | System and method for managing execution of internal commands and host commands in a solid-state memory |
US9026716B2 (en) | 2010-05-12 | 2015-05-05 | Western Digital Technologies, Inc. | System and method for managing garbage collection in solid-state memory |
US8635412B1 (en) | 2010-09-09 | 2014-01-21 | Western Digital Technologies, Inc. | Inter-processor communication |
US9164886B1 (en) | 2010-09-21 | 2015-10-20 | Western Digital Technologies, Inc. | System and method for multistage processing in a memory storage subsystem |
US9021192B1 (en) | 2010-09-21 | 2015-04-28 | Western Digital Technologies, Inc. | System and method for enhancing processing of memory access requests |
ES2899663T3 (es) | 2010-09-27 | 2022-03-14 | Arkema Inc | Polvos de polímero tratados térmicamente |
WO2012092104A1 (en) | 2010-12-30 | 2012-07-05 | Ticona Llc | Powder containing a polyoxymethylene polymer for coating metallic substrates |
ITVI20110099A1 (it) * | 2011-04-20 | 2012-10-21 | Dws Srl | Metodo per la produzione di un oggetto tridimensionale e macchina stereolitografica impiegante tale metodo |
US9158670B1 (en) | 2011-06-30 | 2015-10-13 | Western Digital Technologies, Inc. | System and method for dynamically adjusting garbage collection policies in solid-state memory |
US10011089B2 (en) | 2011-12-31 | 2018-07-03 | The Boeing Company | Method of reinforcement for additive manufacturing |
EP2746319B1 (en) | 2012-12-21 | 2015-09-09 | Materialise N.V. | Method for manufacturing objects by selective sintering |
WO2014125258A2 (en) | 2013-02-14 | 2014-08-21 | Renishaw Plc | Selective laser solidification apparatus and method |
CN105188993A (zh) * | 2013-03-15 | 2015-12-23 | 麦特法布公司 | 用于增材制造装置的料盒和方法 |
US9669583B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-06-06 | Renishaw Plc | Selective laser solidification apparatus and method |
DE102013205724A1 (de) | 2013-03-28 | 2014-10-02 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
US10335901B2 (en) * | 2013-06-10 | 2019-07-02 | Renishaw Plc | Selective laser solidification apparatus and method |
GB201310398D0 (en) | 2013-06-11 | 2013-07-24 | Renishaw Plc | Additive manufacturing apparatus and method |
DE102013014688A1 (de) * | 2013-09-05 | 2015-03-05 | Mann + Hummel Gmbh | Filterelement und Verfahren zum Herstellen desselben |
TWI624350B (zh) * | 2013-11-08 | 2018-05-21 | 財團法人工業技術研究院 | 粉體成型方法及其裝置 |
WO2015119692A2 (en) | 2013-11-14 | 2015-08-13 | General Electric Company | Layered manufacturing of single crystal alloy components |
WO2015077053A1 (en) | 2013-11-21 | 2015-05-28 | Sabic Global Technologies B.V. | Reduced density article |
DE102014201818A1 (de) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren und Vorrichtung zur verbesserten Steuerung des Energieeintrags in einem generativen Schichtbauverfahren |
WO2015134316A1 (en) | 2014-03-06 | 2015-09-11 | Sabic Global Technologies B.V. | Additive manufactured items with flame resistance, process for making and process for testing their flame performance |
WO2015136277A1 (en) | 2014-03-11 | 2015-09-17 | Bae Systems Plc | Forming a three dimensional object |
GB201404246D0 (en) * | 2014-03-11 | 2014-04-23 | Bae Systems Plc | Sintering particulate material |
WO2015136278A1 (en) * | 2014-03-11 | 2015-09-17 | Bae Systems Plc | Sintering particulate material |
JP6190038B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-08-30 | 株式会社日立製作所 | レーザ粉末積層造形装置及びレーザ粉末積層造形方法及び3次元積層造形装置 |
KR101479900B1 (ko) * | 2014-05-14 | 2015-01-08 | 김석문 | 3d 프린팅 장치 및 방법, 이를 이용한 방파제 단위 유닛 제조 방법 |
JP6469570B2 (ja) * | 2014-05-29 | 2019-02-13 | 日本合成化学工業株式会社 | 積層造形用サポート材及びそれを用いた積層造形物、及び積層造形物の製造方法 |
KR101795994B1 (ko) | 2014-06-20 | 2017-12-01 | 벨로3디, 인크. | 3차원 프린팅 장치, 시스템 및 방법 |
JP7045796B2 (ja) * | 2014-06-23 | 2022-04-01 | カーボン,インコーポレイテッド | 多様な硬化機構を有する材料からの三次元物体製造方法 |
WO2016020150A1 (de) * | 2014-08-05 | 2016-02-11 | Starfort Des Stubenruss Moritz | Granulatkörner/flüssigkeitsflusseinstellvorrichtung für von granulatkörnern und/oder flüssigkeiten gespeiste 3-d druckerköpfe |
CN104191621B (zh) * | 2014-08-28 | 2016-10-05 | 北京智谷技术服务有限公司 | 3d打印辅助方法、装置及3d打印机 |
CN104191623B (zh) * | 2014-08-28 | 2016-10-05 | 北京智谷技术服务有限公司 | 3d打印辅助方法、装置及3d打印机 |
CN104191622B (zh) * | 2014-08-28 | 2016-06-01 | 北京智谷技术服务有限公司 | 3d打印辅助方法、装置及3d打印机 |
CN104260343B (zh) * | 2014-08-28 | 2016-09-28 | 北京智谷技术服务有限公司 | 3d打印辅助方法、装置及3d打印机 |
JP2017536476A (ja) * | 2014-10-01 | 2017-12-07 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニーRenishaw Public Limited Company | 積層造形装置および方法 |
US10730242B2 (en) | 2014-10-03 | 2020-08-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Controlling temperature in an apparatus for generating a three-dimensional object |
CN107075215A (zh) | 2014-11-03 | 2017-08-18 | 阿科玛股份有限公司 | 用于增加聚合物薄片和粉末的密度的方法 |
US10271958B2 (en) | 2015-01-27 | 2019-04-30 | K2M, Inc. | Interbody spacer |
US10028841B2 (en) | 2015-01-27 | 2018-07-24 | K2M, Inc. | Interbody spacer |
CN107223084B (zh) | 2015-01-30 | 2020-03-31 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 生成3d物体 |
DE102015202964A1 (de) | 2015-02-18 | 2016-08-18 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
US9695280B2 (en) * | 2015-03-03 | 2017-07-04 | Ricoh Co., Ltd. | Methods for solid freeform fabrication |
DE102015204630A1 (de) * | 2015-03-13 | 2016-09-15 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes mit verbesserter Oberflächengüte |
GB201505458D0 (en) | 2015-03-30 | 2015-05-13 | Renishaw Plc | Additive manufacturing apparatus and methods |
DE102015111504A1 (de) | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Apium Additive Technologies Gmbh | 3D-Druckvorrichtung |
CN107548347A (zh) * | 2015-07-23 | 2018-01-05 | 惠普发展公司有限责任合伙企业 | 三维(3d)打印方法 |
US11958239B2 (en) | 2015-07-30 | 2024-04-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Three-dimensional object production |
EP3271153A4 (en) * | 2015-07-31 | 2018-12-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Photonic fusing |
US9676145B2 (en) | 2015-11-06 | 2017-06-13 | Velo3D, Inc. | Adept three-dimensional printing |
DE102015222456A1 (de) | 2015-11-13 | 2017-05-18 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
DE102015014964A1 (de) * | 2015-11-20 | 2017-05-24 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung für 3D-Druck mit engem Wellenlängenspektrum |
US20180346372A1 (en) * | 2015-11-30 | 2018-12-06 | The Board Of Regents For Oklahoma State University | Microwave processing of thermoelectric materials and use of glass inclusions for improving the mechanical and thermoelectric properties |
US10071422B2 (en) | 2015-12-10 | 2018-09-11 | Velo3D, Inc. | Skillful three-dimensional printing |
DE102015225344A1 (de) | 2015-12-15 | 2017-06-22 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Pulveraustragseinheit, Vorrichtung und Verfahren zum generativen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
CN108367459B (zh) | 2015-12-28 | 2022-02-18 | 阿科玛股份有限公司 | 生产聚合物粉料的方法 |
DE102016200043A1 (de) | 2016-01-05 | 2017-07-06 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren zum Kalibrieren einer Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
JP6979963B2 (ja) | 2016-02-18 | 2021-12-15 | ヴェロ・スリー・ディー・インコーポレイテッド | 正確な3次元印刷 |
DE102016204905A1 (de) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
DE102016205053A1 (de) * | 2016-03-24 | 2017-09-28 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zum Aufschmelzen/Sintern von Pulverpartikeln zur schichtweisen Herstellung von dreidimensionalen Objekten |
US11248071B2 (en) | 2016-04-01 | 2022-02-15 | Arkema Inc. | 3-D printed fluoropolymer structures |
EP3436524B1 (en) * | 2016-04-01 | 2022-06-15 | Arkema Inc. | 3-d printed fluoropolymer structures |
US10375765B2 (en) * | 2016-04-15 | 2019-08-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | 3-dimensional printed load cell parts |
DE102016209719A1 (de) | 2016-06-02 | 2017-12-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Materialien auf Kunststoffbasis zur Verarbeitung mittels generativer Fertigungsverfahren |
JP6600278B2 (ja) * | 2016-06-07 | 2019-10-30 | 三菱重工業株式会社 | 選択型ビーム積層造形装置及び選択型ビーム積層造形方法 |
WO2017220228A1 (en) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | Sabic Global Technologies B.V. | Polymer composition for selective sintering |
WO2018005439A1 (en) | 2016-06-29 | 2018-01-04 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing and three-dimensional printers |
US11691343B2 (en) | 2016-06-29 | 2023-07-04 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing and three-dimensional printers |
CN109311223B (zh) * | 2016-07-19 | 2021-07-13 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 包括选择性加热的增材制造 |
WO2018017072A1 (en) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Material sets |
US10857727B2 (en) | 2016-07-20 | 2020-12-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Material sets |
US10661341B2 (en) | 2016-11-07 | 2020-05-26 | Velo3D, Inc. | Gas flow in three-dimensional printing |
US20180186080A1 (en) | 2017-01-05 | 2018-07-05 | Velo3D, Inc. | Optics in three-dimensional printing |
EP3348385A1 (en) * | 2017-01-13 | 2018-07-18 | Airbus Operations GmbH | Method and apparatus for manufacturing a three-dimensional object by additive layer manufacturing |
US10442003B2 (en) | 2017-03-02 | 2019-10-15 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing of three-dimensional objects |
DK3576947T3 (da) * | 2017-03-06 | 2021-10-11 | Siemens Mobility GmbH | Materiale til bearbejdning i en selektiv-laser-sinter-fremgangsmåde, deraf fremstillede formlegemer samt anvendelse i SLS-fremgangsmåden |
US20180281237A1 (en) | 2017-03-28 | 2018-10-04 | Velo3D, Inc. | Material manipulation in three-dimensional printing |
EP3582951B1 (en) | 2017-04-21 | 2022-06-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Additive manufacturing machine heat flux |
EP3415108A1 (en) | 2017-05-25 | 2018-12-19 | Stryker European Holdings I, LLC | Fusion cage with integrated fixation and insertion features |
US10821718B2 (en) * | 2017-06-23 | 2020-11-03 | General Electric Company | Selective powder processing during powder bed additive manufacturing |
US11006981B2 (en) | 2017-07-07 | 2021-05-18 | K2M, Inc. | Surgical implant and methods of additive manufacturing |
KR102298812B1 (ko) | 2017-10-05 | 2021-09-06 | 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. | 빌드 재료를 저장하기 위한 챔버 |
EP3470211A1 (en) * | 2017-10-13 | 2019-04-17 | CL Schutzrechtsverwaltungs GmbH | Method for operating an apparatus for additively manufacturing of three-dimensional objects |
JP7366529B2 (ja) | 2017-10-27 | 2023-10-23 | キヤノン株式会社 | 造形物の製造方法および造形物 |
RU2676989C1 (ru) * | 2017-12-01 | 2019-01-14 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) | Способ формирования изделий путем трехмерной послойной печати с воздействием СВЧ электромагнитного поля и ультразвука |
US11560451B2 (en) | 2017-12-15 | 2023-01-24 | Sabic Global Technologies B.V. | Polymer composition for selective sintering |
US10272525B1 (en) | 2017-12-27 | 2019-04-30 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing systems and methods of their use |
WO2019136523A1 (en) * | 2018-01-11 | 2019-07-18 | Flew Solutions Australia Ltd | Method and apparatus for increasing the resolution, reducing defect rates and increasing production rates in additively manufactured 3d articles |
US10144176B1 (en) | 2018-01-15 | 2018-12-04 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing systems and methods of their use |
WO2019152004A1 (en) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Retractable optical barrier for fixed over head lamp system |
CN110239088A (zh) * | 2018-03-08 | 2019-09-17 | 三纬国际立体列印科技股份有限公司 | 可动态调整打印时间的3d打印机及其动态打印方法 |
CN108424605B (zh) * | 2018-03-23 | 2020-03-20 | 杭州科技职业技术学院 | 一种聚醚醚酮3d打印材料及其3d打印成型方法 |
DE102018205820A1 (de) * | 2018-04-17 | 2019-10-17 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Selektive Nachbelichtung |
RU2689833C1 (ru) * | 2018-09-19 | 2019-05-29 | Общество с ограниченной ответственностью "ИНТЕХ-М" | Способ получения керамических изделий на основе порошков оксидов металлов |
DE102018219302A1 (de) * | 2018-11-12 | 2020-05-14 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Selektives Sintern von polymerbasiertem Aufbaumaterial |
DE102018219303A1 (de) * | 2018-11-12 | 2020-05-14 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verzugsoptimiertes Kunststoffpulver |
CN114340876A (zh) | 2019-07-26 | 2022-04-12 | 维勒3D股份有限公司 | 三维物体形成的质量保证 |
CN114269545A (zh) * | 2019-08-14 | 2022-04-01 | 默克专利股份有限公司 | 产品的增材制造方法、制造装置和固体药物剂型 |
CN112521138B (zh) * | 2019-09-03 | 2022-09-23 | 南京优登科技有限公司 | 一种硅藻土多孔体及其制备方法 |
WO2021126739A1 (en) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | Ticona Llc | Three-dimensional printing system employing a toughened polyarylene sulfide composition |
US11951679B2 (en) | 2021-06-16 | 2024-04-09 | General Electric Company | Additive manufacturing system |
US11731367B2 (en) | 2021-06-23 | 2023-08-22 | General Electric Company | Drive system for additive manufacturing |
US11958250B2 (en) | 2021-06-24 | 2024-04-16 | General Electric Company | Reclamation system for additive manufacturing |
US11958249B2 (en) | 2021-06-24 | 2024-04-16 | General Electric Company | Reclamation system for additive manufacturing |
US11826950B2 (en) | 2021-07-09 | 2023-11-28 | General Electric Company | Resin management system for additive manufacturing |
US11813799B2 (en) | 2021-09-01 | 2023-11-14 | General Electric Company | Control systems and methods for additive manufacturing |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4586068A (en) * | 1983-10-07 | 1986-04-29 | Rockwell International Corporation | Solid state photomultiplier |
US4945032A (en) | 1988-03-31 | 1990-07-31 | Desoto, Inc. | Stereolithography using repeated exposures to increase strength and reduce distortion |
DE4300478C2 (de) * | 1993-01-11 | 1998-05-20 | Eos Electro Optical Syst | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
US5429908A (en) * | 1993-04-12 | 1995-07-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Exposure method for reducing distortion in models produced through solid imaging by forming a non-continuous image of a pattern which is then imaged to form a continuous hardened image of the pattern |
WO1995032824A1 (de) * | 1994-05-27 | 1995-12-07 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren für den einsatz in der giessereitechnik |
DE19514740C1 (de) | 1995-04-21 | 1996-04-11 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes |
DE19516972C1 (de) * | 1995-05-09 | 1996-12-12 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes mittels Lasersintern |
US5640667A (en) | 1995-11-27 | 1997-06-17 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Laser-directed fabrication of full-density metal articles using hot isostatic processing |
DE19606128A1 (de) * | 1996-02-20 | 1997-08-21 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes |
AU3119397A (en) * | 1996-05-16 | 1997-12-05 | Napp Systems Inc. | Methods to increase the exposure sensitivity of photopolymerizable matrices and apparatus useful therefor |
JPH115254A (ja) | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Toyota Motor Corp | 積層造形方法 |
US6107008A (en) * | 1997-08-29 | 2000-08-22 | Lockheed Martin Energy Research | Ionizing radiation post-curing of objects produced by stereolithography and other methods |
DE19953000C2 (de) | 1999-11-04 | 2003-04-10 | Horst Exner | Verfahren und Einrichtung zur schnellen Herstellung von Körpern |
TWI228114B (en) | 1999-12-24 | 2005-02-21 | Nat Science Council | Method and equipment for making ceramic work piece |
SE521124C2 (sv) | 2000-04-27 | 2003-09-30 | Arcam Ab | Anordning samt metod för framställande av en tredimensionell produkt |
DE10053742C5 (de) | 2000-10-30 | 2006-06-08 | Concept Laser Gmbh | Vorrichtung zum Sintern, Abtragen und/oder Beschriften mittels elektromagnetischer gebündelter Strahlung sowie Verfahren zum Betrieb der Vorrichtung |
US6556339B2 (en) * | 2001-03-30 | 2003-04-29 | Coherent Technologies, Inc. | Noncollinearly pumped solid state Raman laser |
DE60336017D1 (de) * | 2002-12-20 | 2011-03-24 | Univ Southern California | Verfahren und vorrichtung zum reduzieren von pulverabfällen beim 'selective inhibition sintering' (sis) |
GB0317387D0 (en) * | 2003-07-25 | 2003-08-27 | Univ Loughborough | Method and apparatus for combining particulate material |
GB0322598D0 (en) | 2003-09-26 | 2003-10-29 | Victrex Mfg Ltd | Polymeric material |
DE102004012682A1 (de) * | 2004-03-16 | 2005-10-06 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels Lasertechnik und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren |
DE102004012683A1 (de) * | 2004-03-16 | 2005-10-06 | Degussa Ag | Lasersintern mit Lasern mit einer Wellenlänge von 100 bis 3000 nm |
DE102004020451A1 (de) * | 2004-04-27 | 2005-12-01 | Degussa Ag | Uretdiongruppenhaltige Polyurethanzusammensetzungen, welche bei niedriger Temperatur härtbar sind und (teil-)kristalline Harze enthalten |
DE102004020452A1 (de) | 2004-04-27 | 2005-12-01 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels elektromagnetischer Strahlung und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren |
DE102004024440B4 (de) * | 2004-05-14 | 2020-06-25 | Evonik Operations Gmbh | Polymerpulver mit Polyamid, Verwendung in einem formgebenden Verfahren und Formkörper, hergestellt aus diesem Polymerpulver |
JP4519560B2 (ja) * | 2004-07-30 | 2010-08-04 | 株式会社メディアプラス | 積層造形方法 |
DE102004062761A1 (de) * | 2004-12-21 | 2006-06-22 | Degussa Ag | Verwendung von Polyarylenetherketonpulver in einem dreidimensionalen pulverbasierenden werkzeuglosen Herstellverfahren, sowie daraus hergestellte Formteile |
DE102005048314B4 (de) | 2005-10-06 | 2009-02-12 | Laserinstitut Mittelsachsen E.V. | Vorrichtung zum selektiven Lasersintern |
DE102005054723A1 (de) | 2005-11-17 | 2007-05-24 | Degussa Gmbh | Verwendung von Polyesterpulver in einem formgebenden Verfahren und Formkörper, hergestellt aus diesem Polyesterpulver |
WO2007114895A2 (en) * | 2006-04-06 | 2007-10-11 | Z Corporation | Production of three-dimensional objects by use of electromagnetic radiation |
-
2007
- 2007-05-25 DE DE102007024469A patent/DE102007024469B4/de not_active Withdrawn - After Issue
-
2008
- 2008-05-23 EP EP08758741.6A patent/EP2106337B2/de active Active
- 2008-05-23 BR BRPI0812112-5A2A patent/BRPI0812112A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2008-05-23 WO PCT/EP2008/004149 patent/WO2008145316A2/de active Application Filing
- 2008-05-23 AT AT08758741T patent/ATE540803T1/de active
- 2008-05-23 CN CN200880009335.2A patent/CN101932429B/zh active Active
- 2008-05-23 RU RU2009143542/05A patent/RU2469851C2/ru active
- 2008-05-23 US US12/154,655 patent/US9011982B2/en active Active
- 2008-05-23 JP JP2010508750A patent/JP5265671B2/ja active Active
-
2011
- 2011-02-16 HK HK11101489.3A patent/HK1147228A1/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2106337B2 (de) | 2016-06-01 |
DE102007024469B4 (de) | 2009-04-23 |
JP2010527810A (ja) | 2010-08-19 |
US20090017220A1 (en) | 2009-01-15 |
CN101932429B (zh) | 2014-07-09 |
RU2469851C2 (ru) | 2012-12-20 |
BRPI0812112A2 (pt) | 2014-11-25 |
HK1147228A1 (en) | 2011-08-05 |
WO2008145316A3 (de) | 2009-01-22 |
US9011982B2 (en) | 2015-04-21 |
CN101932429A (zh) | 2010-12-29 |
EP2106337B1 (de) | 2012-01-11 |
WO2008145316A2 (de) | 2008-12-04 |
ATE540803T1 (de) | 2012-01-15 |
DE102007024469A1 (de) | 2008-11-27 |
EP2106337A2 (de) | 2009-10-07 |
RU2009143542A (ru) | 2011-05-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5265671B2 (ja) | 三次元物体の層状製造方法 | |
CN107553899B (zh) | 用于三维物体的添加制造的重涂单元、重涂方法、装置和方法 | |
JP4914341B2 (ja) | レーザ技術およびインキジェット法による吸収体の塗布によって3次元の対象物を製造するための方法および装置 | |
KR960008015B1 (ko) | 선택적 소결에 의한 부품의 제조 방법 및 장치 | |
US7847057B2 (en) | PAEK powder, in particular for the use in a method for a layer-wise manufacturing of a three-dimensional object, as well as method for producing it | |
US10525689B2 (en) | Method and device for the improved control of the energy input in a generative layer construction method | |
KR101747780B1 (ko) | 다중 광중합형 압출방식 복합 3d프린터 | |
CN102886900B (zh) | 通过激光烧结中的射线形成改善的器件特性 | |
US20180169946A1 (en) | Method and Device for Making a Three-Dimensional Object | |
JP6045349B2 (ja) | 回転式塗工により立体物体を積層式に製造する装置 | |
CN103660298A (zh) | 用于借助冷却元件逐层地制造变形小的三维物体的方法 | |
JP2013022964A (ja) | 三次元の物体を層状に製造するための装置と方法、ポリマー粉末及びモールド | |
US20180186077A1 (en) | Method And Device For The Generative Manufacturing of a Three-Dimensional Object | |
US20220063204A1 (en) | Method of analyzing and utilizing surface topology for targeted local thermal management in additive manufacturing systems | |
TW201620719A (zh) | 製作三維物件之技術 | |
JP4739507B2 (ja) | 3次元造形装置 | |
CN113733554A (zh) | 一种微波与红外辐射复合成形高分子零件的方法与装置 | |
JP2010184412A (ja) | 積層造形用樹脂粉末 | |
EP2918359A1 (en) | Sintering particulate material | |
US20210308940A1 (en) | Additive production device and associated additive production method | |
CN112166024A (zh) | 使聚合物物体成形的方法 | |
US20210016512A1 (en) | Selective post-exposure | |
JP2922136B2 (ja) | Tfe系ポリマーの微細加工方法 | |
JP2003236929A (ja) | プラスチック構造体の形成方法 | |
Laumer et al. | Influence of temperature gradients on the part properties for the simultaneous laser beam melting of polymers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110406 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130304 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130501 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5265671 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |