RU2469851C2 - Способ послойного производства трехмерного объекта - Google Patents

Способ послойного производства трехмерного объекта Download PDF

Info

Publication number
RU2469851C2
RU2469851C2 RU2009143542/05A RU2009143542A RU2469851C2 RU 2469851 C2 RU2469851 C2 RU 2469851C2 RU 2009143542/05 A RU2009143542/05 A RU 2009143542/05A RU 2009143542 A RU2009143542 A RU 2009143542A RU 2469851 C2 RU2469851 C2 RU 2469851C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
stage
powder
particles
photons
Prior art date
Application number
RU2009143542/05A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2009143542A (ru
Inventor
Франк Мюллер
Андреас ПФИСТЕР
Мартин ЛОЙТЕРЕР
Петер КЕЛЛЕР
Original Assignee
Эос Гмбх Электро Оптикал Системз
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=39877177&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=RU2469851(C2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Эос Гмбх Электро Оптикал Системз filed Critical Эос Гмбх Электро Оптикал Системз
Publication of RU2009143542A publication Critical patent/RU2009143542A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2469851C2 publication Critical patent/RU2469851C2/ru

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/141—Processes of additive manufacturing using only solid materials
    • B29C64/153—Processes of additive manufacturing using only solid materials using layers of powder being selectively joined, e.g. by selective laser sintering or melting
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor

Abstract

Способ послойного производства трехмерного объекта, включающий в себя первый этап размещения слоя материала в форме порошка на основании или на слое, который уже был ранее отвержден в выбранных местах, и второй этан селективного направления сфокусированного пучка фотонов или частиц (8') в выбранные места слоя. В процессе па втором этапе пучок фотонов или частиц (8') выбран таким образом, чтобы он вызывал изменение поглощения материала при попадании в слой. После завершения второго этапа выполняют третий этап, на котором слой облучают посредством электромагнитного излучения (18') таким образом, чтобы материал однородно отверждался в тех местах слоя, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта. Устройство для производства трехмерного объекта посредством последовательного отверждения слоев отверждаемого материала в форме порошка по местам, соответствующим поперечному сечению формируемого объекта под действием излучения, включает в себя основание (4), имеющее по существу плоскую поверхность, которая служит для поддержания формируемого объекта, устройство для нанесения (10), предназначенное для нанесения слоя материала па поверхность основания или па слой, который уже был по меньшей мере частично отвержден, устройство облучения (7), которое обеспечивает селективное направление электромагнитного пучка или пучка частиц (8') па места слоя, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта, и лучистый нагреватель (18), который способен испускать излучение (18') с максимумом при длине волны в диапазоне 1000-6000 нм для нагревания слоя порошка, а также устройство имеет регулирующее средство (19), которое вводит время ожидания после завершения селективного облучения слоя перед нанесением нового слоя. Способ и устройство имеют варианты их осуществления в объеме признаков, раскрытых в соответствующих пунктах формулы. Техническим результатом, который достигается при использовании способа и устройства по изобретениям, является обеспечение селективного отверждения материала только в тех точках, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта. 4 н. и 17 з.п. ф-лы, 3 ил., 4 пр.

Description

Изобретение относится к способу производства трехмерного объекта посредством способа быстрого макетирования. В частности, оно относится к способу, в котором материал в порошковой форме послойно наносят на основание и селективно отверждают в тех местах, которые соответствуют поперечному сечению послойно изготавливаемого объекта.
Способы, в которых возможно быстрое изготовление макетов на основе конструкционных данных, называют способами быстрого макетирования. Как правило, изготавливаемую деталь воссоздают по слоям из аморфного материала или материала, нейтрального по форме. Например, в US 5 730 925 описан способ, в котором слои порошка наносят на основание, которое может перемещаться вертикально, и селективно спекают посредством лазера в тех местах, которые соответствуют поперечному сечению изготавливаемого объекта.
Например, на Фиг.3 изображено подобное устройство для лазерного спекания. Как видно на Фиг.3, устройство включает в себя емкость 1, которая ограничивает рабочее пространство. Указанная емкость открыта сверху и ограничена снизу основанием 4, которое поддерживает формируемый объект 3. Верхний край 2 емкости (соответственно ее боковые стенки) определяет рабочую плоскость 6. Формируемый объект расположен на верхней поверхности основания 4 и сформирован из ряда слоев строительного материала в порошковой форме, который может быть отвержден посредством излучения, направленного параллельно верхней стенке основания 4. В данном случае, основание может перемещаться в вертикальном направлении, то есть параллельно боковой стенке емкости 1, с помощью приспособления для регулировки высоты. Таким образом, положение основания 4 относительно рабочей плоскости 6 может регулироваться.
Устройство для нанесения 10, предназначенное для нанесения отверждаемого порошкового материала 11 на поверхность 5 основания или ранее отвержденный слой, расположено над емкостью 1 и рабочей плоскостью 6, соответственно. Кроме того, устройство облучения в форме лазера 7 расположено над рабочей плоскостью 6, при этом устройство облучения испускает направленный пучок света 8. С помощью устройства отклонения 9, такого как вращающееся зеркало, указанный пучок света 8 направляется в виде преломленного пучка 8' к рабочей плоскости 6.
В целях изготовления трехмерного объекта 3 основание 4 перемещают сначала в верхнее положение посредством приспособления для регулировки высоты. В верхнем положении поверхность основания 4 расположена на расстоянии, соответствующем толщине первого слоя, наносимого ниже верхнего края 2. Затем устройство для нанесения 10 перемещается через рабочую плоскость. В ходе процесса подают порошок, который формирует первый слой на поверхности основания. Затем через устройство отклонения 9 лазер 7 направляется таким образом, чтобы преломленный пучок света облучал все необходимые точки, означающие те места в данном слое, которые соответствуют объекту, в результате чего порошковый материал отверждался в соответствующих точках посредством спекания.
На втором этапе основание опускают на расстояние, равное толщине следующего слоя, и снова наносят слой порошка, после чего этап облучения повторяют в точках, соответствующих поперечному сечению объекта в данном слое. Этапы повторяют, пока объект не будет закончен.
В вышеописанном производстве трехмерного объекта температура материала должна находиться в пределах определенного технологического интервала, чтобы гарантировать хорошее качество трехмерного объекта. Таким образом, по этой причине слой порошка, отверждаемый посредством лазера, обычно предварительно нагревают с помощью лучистого нагревателя 18 таким образом, чтобы средняя температура слоя находилась в пределах технологического интервала. В процессе в качестве лучистых нагревателей 18 предпочтительно используются инфракрасные излучатели.
Хотя вышеописанный способ доказал свое значение для мелкосерийного производства деталей, обладающих точной формой (макетирование), он все еще может быть усовершенствован по некоторым параметрам:
- Поскольку отверждение порошкового материала производят по точкам, на каждую отверждаемую точку необходимо отдельно направить лазер, что отнимает много времени.
- Чтобы отвердить материал посредством лазера, необходимо использовать лазер, который может обеспечивать достаточную энергию, по меньшей мере, для частичного плавления материала. Как правило, такой лазер, например CO2-лазер, является дорогостоящим и при покупке, и в обслуживании. Кроме того, большое количество энергии, испускаемой лазером, приводит к тому, что необходимо добавить охлаждение, которое охлаждает не только лазер непосредственно, но также и, например, систему зеркал, которая используется в качестве устройства отклонения. Это делает всю систему более медленной и, кроме того, приводит к замедлению процесса облучения из-за перемещения больших масс.
Чтобы ускорить способ производства, в WO 2005/011959 A1 предлагается в некоторых местах на селективно отверждаемый слой наносить вещества, повышающие или понижающие поглощение, а затем выполнять облучение посредством локального нагрева. При этом из-за различий в параметрах поглощения можно достичь селективного спекания материала в слое. Однако за сохранение времени, затрачиваемого на облучение большой поверхности, приходится платить потерями времени в результате нанесения дополнительного слоя поглощающих веществ. Кроме того, в случае необходимости особо тонкий рельеф материала невозможно обеспечить при нанесении поглощающих веществ.
Чтобы сделать устройство для лазерного спекания более рентабельным, в DE 10 2004 012 682 A1 предлагается выборочно наносить поглотители на отверждаемый слой, при этом указанные поглотители могут нагреваться посредством луча лазера с длиной волны 100 - 3000 нм и испускать свою тепловую энергию в нижележащий слой, в котором проходит процесс спекания. Благодаря поглощению более коротких длин волн возможно применение более экономных лазеров. Впрочем, опять необходимо дополнительное время для нанесения поглотителя и, кроме того, в DE 10 2 004 012 682 A1 даже предложено облучать поглотитель лазером по точкам, что не приводит к заметному сохранению времени по сравнению с обычным способом лазерного спекания.
Ввиду вышеописанных проблем целью настоящего изобретения является способ послойного производства трехмерного объекта, где способ является быстрым, точным и экономичным.
Цель достигается посредством способа согласно п. 1 и устройства согласно п. 19 или п. 21.
Дополнительное развитие изобретения приведено в зависимых пунктах.
Согласно настоящему изобретению отверждение строительного материала полностью или частично выполняют путем воздействия электромагнитного излучения на большой площади, например, с помощью лучистого нагревателя. Чтобы достичь, тем не менее, селективного отверждения материала только в тех точках, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта, поглощение материала в слое селективно изменяют перед облучением большой площади. Это выполняют, направляя сфокусированный пучок фотонов или частиц, например пучок лазера, к выбранным точкам слоя.
Так как при облучении на большой площади материал плавится одновременно во всех точках поперечного сечения детали, время изготовления детали сокращается по сравнению с предыдущим уровнем техники.
Поскольку в настоящем способе нет необходимости в подаче в слой посредством пучка фотонов и/или частиц такого большого количества энергии, чтобы происходило полное плавление порошка, сканирование слоя пучком фотонов или частиц может быть проведено быстрее, поскольку время облучения сокращается. Кроме того, требования к охлаждению снижаются вследствие уменьшения необходимой энергии пучка. Таким образом, все сканирующее устройство становится легче и может быть перемещено более легко, что также сокращает продолжительность сканирования слоя пучком.
Поскольку нет необходимости обеспечивать спекание посредством энергии, подаваемой только одним лазером, могут также использоваться лазеры, рабочая длина волны которых не находится в инфракрасной области. Обладая более короткой длиной волны, указанные лазеры могут быть сфокусированы более точно, благодаря чему на детали можно сформировать более мелкие элементы.
В случае применения в настоящем способе мощного инфракрасного лазера (такого как CO2-лазер) становится возможным использовать строительные материалы (такие как полиарилэфиркетоны), которые с трудом поддаются полному плавлению с помощью только одного пучка лазера из-за их высокой температуры плавления и их высокой вязкости расплава. Благодаря облегчению селективного плавления в результате применения лучистого нагревателя (который служит для пост-спекания) характеристики детали могут быть улучшены по сравнению с обычным способом.
Наконец, посредством способа согласно изобретению могут быть получены более однородные детали, поскольку благодаря плавлению на большой площади можно устранить локальные различия в таких характеристиках детали, как плотность, которые возникают при отверждении по точкам.
Другие признаки и преимущества изобретения следуют из последующего описания вариантов осуществления, основанных на Фигурах, где:
На Фиг.1 показан LM-микроснимок (микроснимок, полученный с помощью светового оптического микроскопа) поверхности разрушения детали, изготовленной из материала ПЭЭК, где продолжительность пост-спекания составляла 12 секунд.
На Фиг.2 показан LM-микроснимок поверхности разрушения детали, изготовленной из материала ПЭЭК без пост-спекания.
На Фиг.3 показано устройство для лазерного спекания, предназначенное для послойного производства трехмерного объекта.
Первый вариант осуществления
В первом варианте осуществления изобретения применяется тот факт, что порошковый материал может изменять цвет в результате воздействия электромагнитного излучения или излучения частиц. Поскольку вначале исследовали термопластичные полимеры, в первом варианте осуществления, например, в качестве строительного материала применяли порошок полиамида 66, при этом порошок полиамида 66 не был термически стабилизирован. Однако, также одинаково применимы все другие термопласты и термоэластики, такие как полиэтилен (ПЭ, ПЭНД, ПЭВД), полипропилен (ПП), полиамиды, сложный полиэфир, сложный полиэфир/сложный эфир, полиэфир/сложный эфир, полифениленэфир, полиацетали, полиалкилентерефталаты, в частности полиэтилентерефталат (ПЭТФ) и полибутилентерефталат (ПБТ), полиметилметакрилат (ПММА), поливинилацеталь, поливинилхлорид (ПХВ), полифениленоксид (ПФО), полиоксиметилен (ПОМ), полистирол (ПС), акрилонитрил-бутадиен-стирол (АБС), поликарбонаты (ПК), полиэфирсульфоны, термопластичные полиуретаны (ТПУ), полиарилэфиркетоны, в частности полиэфирэфиркетон (РЕЕК), полиэфиркетонкетон (ПЭКК), полиэфиркетон (ПЭК), полиэфирэфиркетонкетон (ПЭЭКК), полиэфирэфирэфиркетон (PEEEK) или полиэфиркетонэфиркетонкетон (ПЭКЭКК), полиэфиримиды (ПЭИ), полиариленсульфиды, в частности полифениленсульфид (ПФС), термопластичные полиимиды (ПИ), полиамидимиды (ПАИ), поливинилиденфториды, а также сополимеры перечисленных термопластов, такие как сополимер полиарилэфиркетона (ПАЭК)/полиарилэфирсульфона (ПАЭС), и смеси полимеров.
Способ производства трехмерных объектов согласно изобретению подобен способу, который был также описан выше применительно к устройству для лазерного спекания, которое показано на Фиг.3. Кварцевые излучатели применяли в качестве термоизлучателей 18. Однако также подходят другие конфигурации лучистого нагревателя. Мощность термоизлучателей отрегулировали таким образом, чтобы перед началом облучения недавно нанесенного слоя порошка температура поверхности слоя порошка составляла 230°C. В качестве лазера использовали CO2-лазер, мощность которого была установлена на уровне 30 Вт, а продолжительность воздействия - 0,2 миллисекунды (скорость сканирования 3000 мм/сек при диаметре фокуса 600 мкм), при этом обработанные лазером точки были заметно более коричневыми по сравнению с не обработанным порошком. После облучения всех точек, соответствующих поперечному сечению объекта в слое порошка, время ожидания перед нанесением следующего слоя порошка составило 30 сек. В течение указанного времени (продолжительность пост-спекания или время после спекания) только что обработанный облучением слой порошка подвергали воздействию лучистого нагрева, мощность которого не изменяли. По истечении времени ожидания продолжительностью 30 секунд наблюдали светящийся расплавленный слой, который сформировался под воздействием лучистого нагревателя. Только что описанный процесс для одного слоя порошка выполняли таким же образом для других слоев порошка.
В вышеописанном методе различие с предыдущим уровнем техники состоит в том, что к полному плавлению материала приводит не воздействие лазера, а воздействие лучистого нагревателя на облученные (лазером) области. Лазер служил только для выбора областей, отверждаемых лучистым нагревателем. При потемнении указанных областей поглощение ими теплового излучения лучистого нагревателя возрастало. При указанном повышении поглощения облученные точки становились более горячими, чем порошок, который не был облучен, при этом облученные точки плавились. В данный момент можно регулировать количество тепла, подводимое при воздействии лазера, а также можно регулировать, вызовет ли лазер частичное плавление порошка. Для результата важно дополнительное поглощение энергии излучателя.
Таким образом, единственным требованием для подаваемой энергии лазера является требование, чтобы подаваемая энергия вызывала изменение поглощения порошкового материала. Поскольку количество энергии, которая необходимо для этого, может быть заметно ниже количества энергии, необходимого для полного отверждения порошка, продолжительность воздействия лазера может быть сокращена по сравнению с обычным способом, что приводит к повышению скорости облучения. Кроме того, также может быть снижена мощность лазера, что также уменьшает время облучения благодаря уменьшению требований к охлаждению, что также описано выше.
Кроме того, можно применять лазеры, имеющие более короткую длину волны, чем CO2-лазер. Более короткая длина волны, в свою очередь, дает повышение точности фокусировки, обеспечивая более высокое разрешение элементов детали. В данном случае длина волны излучения лазера, которая может использоваться, зависит от используемого порошкового материала. С одной стороны, поглощение излучения лазера должно быть хорошим, с другой стороны длина волны должна обеспечивать изменения параметров поглощения. За исключением указанных ограничивающих условий, подходящей является любая длина волны лазера (например, от 100 нм до 10600 нм).
Изменение окраски и, таким образом, поглощения порошка или его расплава под действием электромагнитного излучения или излучения частиц может быть опосредовано, с одной стороны, химическими реакциями, которые вызваны излучением. В данном случае, во-первых, следует упомянуть возможное окисление. Например, в настоящем варианте осуществления остаточное содержание кислорода составляло 3%. Кроме того, обесцвечивание может быть также вызвано фазовыми переходами (например, полукристаллический <-> аморфный) или процессами сшивания и процессами агломерации, соответственно.
Второй вариант осуществления
Чтобы увеличить изменение поглощения при воздействии электромагнитного излучения или излучения частиц, основной материал, который применяют, может быть смешан с добавками. Указанные добавки могут изменять свое поглощение до такой степени, что может наблюдаться также значимое изменение поглощения смеси. Кроме того, при систематическом добавлении добавок можно систематически вызвать чувствительность к определенному излучению (например, к излучению, имеющему определенную длину волны). В данном случае может быть увеличена чувствительность к направленному лучу для селективного облучения (например, для света лазера, имеющего определенную длину волны). Систематическое повышение чувствительности к лучистому нагревателю также является возможным. В качестве добавок могут применяться:
- все известные красящие вещества (красители и пигменты), которые поглощают в УФ и видимой области и/или в инфракрасной области спектра;
- добавки, имеющие в частности максимум поглощения в ближней инфракрасной области: такие как Lumogen IR765 и Lumogen IR788 (BASF AG), черные пигменты, такие как сажа, графит, углеродные волокна или углеродные нанотрубки, полупроводниковые материалы (предпочтительно на основе оксидов и сульфидов, таких как оксид сурьмы, оксид олова, полуторный оксид индия, оксид цинка, сульфид цинка, сульфид олова или их смеси) или подложки, покрытые полупроводниковыми материалами (например, маленькие пластинки из слюды, маленькие SiO2-пластинки, маленькие Al2O3-пластинки, маленькие стеклянные пластинки, маленькие алюминиевые пластинки, маленькие BiOCl-пластинки, шарики из SiO2, шарики из TiO2, полимерные шарики, силикагель, кизельгур, стеклянные шарики, полые стеклянные шарики, игольчатые кристаллы TiO2 или смеси подложек);
- добавки могут быть добавлены в количестве 0,01-30% по весу, предпочтительно 0,1-10% по весу;
- размер частиц пигментов составляет 0,01-150 мкм, предпочтительно 0,1-30 мкм;
- наполнители и огнестойкие добавки, которые главным образом рассеивают и поглощают в ближней инфракрасной области;
- вещества для улучшения технологических свойств, такие как смазывающие добавки, стабилизаторы или образователи центров кристаллизации, которые могут прямо или опосредованно изменять поглощение, влияя на кристалличность.
Во втором варианте осуществления применяется тот факт, что добавка изменяет свое поглощение опосредованно из-за фазового перехода основного материала. Для этого в качестве строительного материала применяют полиамид 12, к которому частицы сажи были добавлены в сухую смесь. Чистый полиамид 12 кажется белым из-за отражений многочисленными гранями поверхности. Добавленные частицы сажи располагаются на поверхности граней, в результате порошок кажется серым.
Способ согласно второму варианту осуществления идентичен способу первого варианта осуществления за исключением того, что выбраны другие параметры. В качестве термоизлучателей 18 использовали кварцевые излучатели, однако также подходят другие типы лучистых нагревателей. Мощность термоизлучателей регулировали таким образом, чтобы перед началом облучения только что нанесенного слоя порошка температура поверхности слоя порошка составляла 175°C. В качестве лазера использовали CO2-лазер мощностью 30 Вт с продолжительностью воздействия 0,12 мсек (скорость сканирования 5000 мм/сек при диаметре фокуса 600 мкм), который устанавливали таким образом, чтобы гранулы порошка начали плавиться и стали прозрачными. В результате области, облученные лазером, можно обнаружить по их более темной окраске.
Объяснение изменения цвета состоит в том, что непрозрачный порошок, являющийся сначала частично кристаллическим, по крайней мере, частично переходит в аморфную фазу (расплав является аморфным) в результате воздействия излучения лазера. Из-за прозрачности участков порошка, которые были облучены лазером, частицы сажи в глубине слоя теперь также просвечивают, благодаря чему облученные области становятся более темными.
Время ожидания 5-10 секунд устанавливали в каждом случае после того, как все точки в одном слое, соответствующие поперечному сечению изготавливаемого объекта, были обработаны лазером, при этом кварцевые излучатели могли воздействовать на данный слой в течение времени ожидания. Вследствие повышения поглощения из-за более темной окраски в ходе процесса те точки, которые были ранее облучены лазером, могли дополнительно поглощать части спектра излучения кварцевых излучателей. Таким образом, в указанных областях у расплава понизилась вязкость, в результате чего плотность материала возросла, поскольку поры в материале стали закрываться.
В настоящем примере уже произошло частичное расплавление материала лазером. Дополнительно используя энергию, подводимую посредством лучистого нагрева, опять же продолжительность воздействия лазерного излучения можно уменьшить, что приводит к более высокой скорости процесса сканирования лазером. Кроме того, повышается гомогенность, поскольку энергия, локально подведенная лазером, уменьшена и, таким образом, присутствуют меньшие температурные градиенты.
Наконец нужно упомянуть, что благодаря введению добавок можно также достичь уменьшения поглощения порошкового материала в результате селективного облучения лазером. При этом последующее облучение посредством лучистого нагрева может быть выполнено таким образом, чтобы отверждению точно подвергались те участки слоя, в которых поглощение не было снижено (обратное отверждение).
Третий вариант осуществления
В третьем варианте осуществления в качестве строительного материала использовали полиарилэфиркетон в виде порошка. Полиарилэфиркетоны в качестве строительного материала особенно интересны, поскольку детали, изготовленные из ПАЭК-порошка, обладают хорошей биосовместимостью, а также высокой устойчивостью к гидролизу и излучению. В частности ПАЭК-порошки отличаются от обычных полимерных порошков теплостойкостью при повышенных температурах, а также стойкостью к химическим воздействиям. Благодаря указанным свойствам ПАЭК материалы пользуются спросом, особенно в автомобильной промышленности и электронной промышленности, а также в медицинской промышленности. В частности, такой ПАЭК-полимерный порошок может быть порошком из группы полиэфирэфиркетона (ПЭЭК), полиэфиркетонкетона (ПЭКК), полиэфиркетона (ПЭК), полиэфирэфиркетонкетона (ПЭЭКК) или полиэфиркетонэфиркетонкетона (ПЭКЭКК).
Однако в отношении спекания или плавления ПАЭК-порошки имеют недостаток, связанный с тем, что точка плавления материала находится выше 300°C и, таким образом, лазером необходимо подавать особенно большое количество энергии. В указанном отношении способ настоящего изобретения может способствовать повышению качества производимых деталей, поскольку часть энергии, необходимой для отверждения порошка, обеспечивается лучистым нагревом, и лазер не должен локально подавать так много энергии. Из-за высокой вязкости расплава полиарилэфиркетонов поглощение дополнительной энергии теплового излучения также обеспечивает более продолжительный процесс плавления частиц порошка. Таким образом, происходит сглаживание пленки расплава.
Способ согласно третьему варианту осуществления очень похож на способы первого и второго вариантов осуществления.
Испускаемое излучение 18' используемых термоизлучателей принадлежит видимой области спектра (видимый свет) и инфракрасной области, при этом максимальная интенсивность испускания находится в ближней инфракрасной области. Мощность термоизлучателей устанавливали таким образом, чтобы перед началом облучения только что нанесенного слоя порошка температура поверхности слоя порошка составляла 335°C. Из-за высокой температуры в рабочем пространстве, способ выполняли в устройстве для лазерного спекания EOS P700, которое модифицировали для такой высокой температуры.
Пример 3a:
Порошок ПЭЭК, поставляемый компанией Victrex и обладающий вязкостью расплава 0,15 кН×с/м2, использовали в качестве строительного материала, при этом указанный порошок подвергали предварительной термической подготовке в циркуляционной печи за пределами устройства для лазерного спекания.
В качестве лазера использовали CO2-лазер мощностью 19 Вт с продолжительностью воздействия 0,27 мсек (скорость сканирования 2200 мм/с при диаметре фокуса 600 мкм), установленной таким образом, чтобы поверхность гранул порошка оплавлялась и, следовательно, области, облученные лазером, приобретали более темный цвет.
В каждом случае после того, как все точки в пределах одного слоя, соответствующие поперечному сечению изготавливаемого объекта, были подвергнуты воздействию лазера, устанавливали время ожидания продолжительностью 12 секунд, при этом в пределах указанного времени ожидания термоизлучатели могли воздействовать на данный слой. В результате повышения поглощения из-за более темной окраски областей, облученных лазером, расплав приобретал более низкую вязкость, при этом плотность материала увеличивалась, так как поры в материале имели возможность закрываться.
Справочный пример 3b:
Для доказательства того, что плотность детали повышается в результате обработки лучистым нагревом, повторяли вышеприведенный пример 3a, исключая время воздействия (продолжительность пост-спекания) лучистого нагрева в течение 12 секунд. Как и в вышеуказанном примере 3a, в каждой половине рабочего пространства изготавливали образец размером 150×20×4 мм (длина, ширина, высота). Измерения плотности в охлажденных образцах показали плотность 1,308 г/см3 без пост-спекания (пример 3b) и плотность 1,314 г/см3 с пост-спеканием в течение 12 секунд (пример 3a). Уменьшение пористости можно было также наблюдать оптически, при исследовании поверхности разрушения детали на LM-микроснимке (см. Фиг.1 и 2). Без пост-спекания у образцов было достаточно много пор (Фиг.2), в то время как с пост-спеканием могли быть получены почти совершенно плотные детали (Фиг.1).
Что касается продолжительности пост-спекания, то плавление материала становится более сложным, чем больше указанная продолжительность. Она может составлять от 1 до 60 с. Однако, чем выше вязкость расплава применяемого полиарилэфиркетона, тем больше должна быть продолжительность пост-спекания, которую выбирают.
Это показано в справочном примере 3c:
В данном справочном примере способ примера 3a выполняли с порошком ПЭЭК, который был также получен от Victrex и имел начальное значение вязкости расплава 0,45 кН×с/м2. Предварительную термическую подготовку выполняли в циркуляционной печи, как в примере 3a. Чтобы достичь плотности детали 1,313 г/см3, была необходима продолжительность пост-спекания 15 секунд вместо 12 секунд.
Кроме того, что касается пост-спекания, имеющего слишком малую продолжительность, или случая, в котором пост-спекание не применяли, то в пределах одного слоя наблюдаются различия в плотности. Причина состоит в том, что в пределах одного слоя области, подвергнутые воздействию вначале, уже подвергаются пост-спеканию посредством нагрева, в то время как другие области в данном слое все еще подвергаются воздействию лазера. Таким образом, в областях, которые были подвергнуты действию вначале, процесс пост-спекания длится дольше, так как лучистый нагрев может протекать уже во время облучения слоя лазером.
Из следующего справочного примера 3d можно увидеть следующее:
Аналогичный справочному примеру 3b порошок ПЭЭК обрабатывали без продолжительности времени пост-спекания. Однако в каждой половине рабочего пространства вместо одного образца изготавливали два образца, имеющих размер 150×20×4 мм (длина, ширина, высота). Измерения плотности охлажденных образцов показали изменение плотности в зависимости от порядка облучения лазером:
Образец Плотность [г/см3]
Номер 1 (в каждом слое облучали первым) 1,312
Номер 2 (в каждом слое облучали последним) 1,308
Таким образом, в качестве нижней границы продолжительности времени пост-спекания специалист установит период времени, который начинается, когда однородная пленка расплава сформируется в каждой точке в рабочем поле независимо от времени облучения в слое, и в результате можно гарантировать получение детали, имеющей одинаковую высокую плотность во всех точках.
Однако существует также верхний предел продолжительности пост-спекания: если продолжительность пост-спекания будет слишком большой, это может привести к так называемым эффектам полного спекания или избыточного спекания, при котором полиарилэфиркетоны приобретают низкую вязкость расплава. Указанные эффекты присутствуют, когда энергия, которая дополнительно подводится в расплав при нагревании, из-за слишком длительного воздействия приводит к настолько сильному нагреву расплава, что плавится также сыпучий порошок за пределами детали, или расплав может также распространиться за пределы детали. При этом деталь локально увеличивается ("формирование вспучивания"), вследствие чего сильно нарушается стабильность размеров, точность элементов и общий внешний вид деталей.
Обычно перед тем, как применять строительный материал в методе быстрого макетирования, с указанным материалом сначала проводят испытание, чтобы определить свойства материала. В указанных предварительных испытаниях также может быть определена оптимальная продолжительность пост-спекания для материала. Например, это можно выполнить, оптически наблюдая пленку расплава. С данной целью структуру и текстуру, соответственно, расплава сразу после завершения процесса облучения (воздействия излучения лазера) сравнивают со структурой расплава в зависимости от продолжительности воздействия лучистого нагрева. Оптимальная продолжительность времени пост-спекания наблюдается, когда соответствующее разглаживание текстуры расплава больше не увеличивается в течение данного времени. Значение оптимальной продолжительности можно проверить посредством измерения плотности.
В качестве ориентировочных значений продолжительности пост-спекания для порошков ПАЭК можно рассматривать следующие значения:
Для полиарилэфиркетона, имеющего вязкость расплава между 0,05 кН×с/м2 и 0,25 кН×с/м2 (измеряемую в капиллярном вискозиметре с трубкой из карбида вольфрама 0,5×3,175 мм при 400°C и скоростью сдвига 1000 с-1 согласно техническим условиям испытания TM-VX-12 компании Victrex; см. также патент США 2006/0251878 A1): по меньшей мере, 1 сек, максимально 15 сек, идеально 12 сек.
Для полиарилкетона, имеющего вязкость расплава между 0,25 кН×с/м2 и 0,50 кН×с/м2: по меньшей мере, 5 сек, максимально 25 сек, идеально 15 сек.
Для полиарилэфиркетона, имеющего вязкость расплава, которая превышает 0,5 кН×с/м2: по меньшей мере 10 сек, максимально 60 сек, идеально 18 сек.
Каждый из вышеприведенных вариантов осуществления может быть выполнен с помощью известных устройств для лазерного спекания, которые были модифицированы следующим образом:
Устройство содержит орган управления (19), который вводит время ожидания после процесса облучения каждого слоя. Предпочтительно время ожидания, которое одинаково для всех слоев, должно регулироваться пользователем. Можно даже установить различное время ожидания для различных слоев, при этом вводят изменения параметров, или же параметры детали могут определяться конкретно.
Предпочтительно, блок управления лучистым нагревом позволяет повышать мощность нагревания в течение времени ожидания.
В вышеприведенных вариантах осуществления были описаны разнообразные возможности модификации каждого соответствующего варианта осуществления. Указанные модификации не ограничены конкретным вариантом осуществления. В частности изобретение может быть также изменено следующим образом:
Так как в способе согласно изобретению лучистый нагрев служит не только для предварительного нагревания порошка, но также и для спекания/плавления, отличаясь от предыдущего уровня техники, регулирование мощности нагревания может быть выполнено не только таким способом, в котором постоянную температуру поверхности сохраняют во время процесса формирования детали. Предпочтительнее мощность термоизлучателей может быть точно увеличена в процессе термического облучения, который следует после обработки лазером.
Нагревание, при котором максимум спектра испускаемого излучения 18' лежит в области длин волн от 380 нм до 1000 мкм (в особенности между 1000-6000 нм), может быть выбрано в качестве лучистого нагревания. Например, может быть выбрано панельное нагревание. В частности, также возможно применение микроволнового излучения (от 1 мм до 1 м).
В вышеприведенных вариантах осуществления обычно описывали увеличение поглощения в результате изменения цвета. Однако поглощение может быть увеличено также и другим способом. В частности проводимость материала и, как результат, поглощение микроволнового излучения может быть изменено, например, посредством облучения лазером.
Хотя в вариантах осуществления обычно применяют лазер, могут также применяться другие источники излучения, которые способны испускать сфокусированный направленный луч. В частности, для облучения могут применяться пучки частиц, такие как пучки электронов.
Кроме того, в качестве добавки к порошковому материалу можно добавить наночастицы, при этом наночастицы первоначально не поглощают излучение термоизлучателей из-за их малого размера. В данном случае взаимодействие с лазерным излучением может привести к набуханию наночастиц (например, в результате высвобождения газообразных низкомолекулярных компонентов), которые при увеличении размера в результате набухания могут поглощать тепловое излучение.
Кроме того, также можно обеспечить время ожидания (продолжительность пост-спекания) не в каждом слое. Предпочтительнее можно выдерживать только каждый второй, третий и т.д. слой.
Четвертый вариант осуществления
Наконец также возможен вариант осуществления, в котором отверждение не производят посредством лучистого нагрева. В данном случае, в дополнение к источнику облучения (7), направленный луч которого можно навести на поверхность порошка, обеспечен второй источник излучения (70) подобного типа. После того, как поглощение в нанесенном слое порошка было вначале селективно повышено посредством воздействия источника облучения (7), фактическое селективное отверждение выполняется посредством второго источника излучения (70). Для этого направленный луч (80) второго источника излучения (пучок фотонов или частиц) последовательно направляют на те точки, в которых ранее поглощение было повышено посредством источника облучения (7) и которые соответствуют поперечному сечению объекта в нанесенном слое порошка.
Последний из приведенных методов обладает преимуществом, которое состоит в том, что луч, имеющий очень маленький фокус, может применяться для того, чтобы изменить поглощение, при этом указанный луч обеспечивает формирование крайне мелких структур в изготавливаемом объекте. Для фактического отверждения может применяться луч, имеющий значительно более высокую удельную мощность, причем указанный луч не может и не должен быть обязательно сфокусирован так же точно, как луч из источника облучения (7). Например, изменение поглощения может быть вызвано посредством УФ-лазера с короткой длиной волны, который может быть точно сфокусирован, а отверждение может быть выполнено посредством мощного длинноволнового CO2-лазера. Хотя CO2-лазер имеет больший фокус, тем не менее можно сформировать очень мелкие структуры, поскольку отверждение происходит только в тех областях, которые были предварительно обработаны с высоким разрешением посредством УФ-лазера.
Может быть выполнено вспомогательное дополнительное отверждение посредством лучистого нагревателя, однако, в зависимости от исходного порошкового материала, это не является обязательным.
Все другие модификации, которые были упомянуты в других вариантах осуществления, в равной мере применимы к настоящему варианту осуществления. В частности, также допускается "обратное отверждение", которое означает селективное ингибирование плавления.

Claims (21)

1. Способ послойного производства трехмерного объекта, включающий в себя следующие этапы:
первый этап размещения слоя материала в порошковой форме на основание или на слой, который был уже отвержден в выбранных местах,
второй этап селективного направления сфокусированного пучка фотонов или частиц (8') на выбранные места слоя,
при этом на втором этапе пучок фотонов или частиц выбран таким образом, что он вызывает изменение поглощения материала при попадании в слой, и
после завершения второго этапа выполняют третий этап, на котором слой облучают электромагнитным излучением (18') таким образом, чтобы материал однородно отверждался в тех местах слоя, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта,
при этом отверждение на третьем этапе производят в тех местах, на которые на втором этапе был направлен пучок фотонов или частиц (8').
2. Способ послойного производства трехмерного объекта, включающий в себя следующие этапы:
первый этап размещения слоя материала в порошковой форме на основание или на слой, который был уже отвержден в выбранных местах,
второй этап селективного направления сфокусированного пучка фотонов или частиц (8') на выбранные места слоя,
при этом на втором этапе пучок фотонов или частиц выбран таким образом, что он вызывает изменение поглощения материала при попадании в слой, и
после завершения второго этапа выполняют третий этап, на котором слой облучают электромагнитным излучением (18') таким образом, чтобы материал однородно отверждался в тех местах слоя, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта,
при этом отверждение на третьем этапе производят в тех местах, на которые на втором этапе не был направлен пучок фотонов или частиц (8').
3. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором пучок фотонов или частиц (8') является лучом лазера.
4. Способ по п.3, в котором длина волны излучения лежит в диапазоне 300-10600 нм.
5. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором на втором этапе пучок фотонов или частиц (8') инициирует химическую реакцию в материале.
6. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором на втором этапе пучок фотонов или частиц (8') инициирует фазовый переход в материале.
7. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором на втором этапе пучок фотонов или частиц (8') вызывает изменение плотности материала.
8. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором добавку добавляют в материал в порошковой форме, причем поглощение добавки изменяется на втором этапе.
9. Способ по п.8, в котором добавка является наночастицами.
10. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором максимум электромагнитного излучения (18'), которое применяют на третьем этапе, лежит в области длин волн в диапазоне 1000-6000 нм.
11. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором на третьем этапе в качестве электромагнитного излучения (18') применяют микроволновое излучение.
12. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором на третьем этапе для облучения слоя применяют второй сфокусированный пучок фотонов или частиц (80).
13. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором в качестве материала применяют термопласт.
14. Способ по п.13, в котором термопласт относится к типу, который включает в себя группу полиэтиленов (ПЭ, ПЭНД, ПЭВД), полипропиленов (ПП), полиамидов, сложных полиэфиров, сложных полиэфиров/сложных эфиров, полиэфиров/сложных эфиров, полидифениловых эфиров, полиацеталей, полиалкилентерефталатов, в частности полиэтилентерефталат (ПЭТФ) и полибутилентерефталат (ПБТ), полиметилметакрилат (ПММА), поливинилацеталь, поливинилхлорид (ПВХ), полифениленоксид (ПФО), полиоксиметилен (ПОМ), полистирол (ПС), акрилонитрил-бутадиен-стирол (АБС), поликарбонаты (ПК), полиэфирсульфоны, термопластичные полиуретаны (ТПУ), полиэфиримиды (ПЭИ), полиариленсульфиды, в частности полифениленсульфид (PPS), термопластичные полиимиды (ПИ), полиамидоимиды (ПАИ), поливинилиденфториды или сополимеры указанных термопластов, композиции и/или смеси полимеров.
15. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором в качестве материала применяют порошок полиарилэфиркетона (ПАЭК) или сополимер полиарилэфиркетона (ПАЭК)/полиарилэфирсульфона (ПАЭС).
16. Способ по п.15, в котором материал, по меньшей мере, содержит порошок из группы полиэфирэфиркетона (ПЭЭК), полиэфиркетонкетона (ПЭКК), полиэфиркетона (ПЭК), полиэфирэфиркетонкетона (ПЭЭКК), полиэфирэфирэфиркетона (ПЭЭЭК) или полиэфиркетонэфиркетонкетона (ПЭКЭКК).
17. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором первый и второй этапы выполняют последовательно, несколько раз перед третьим этапом.
18. Устройство для производства трехмерного объекта посредством последовательного отверждения слоев отверждаемого материала в форме порошка по местам, соответствующим поперечному сечению формируемого объекта, под действием излучения, включающее в себя:
основание (4), имеющее по существу плоскую поверхность, которая служит для поддерживания формируемого объекта;
устройство для нанесения (10), предназначенное для нанесения слоя материала на поверхность основания или на слой, который уже был, по меньшей мере, частично отвержден,
устройство облучения (7), которое обеспечивает селективное направление электромагнитного пучка или пучка частиц (8') на места слоя, которые соответствуют поперечному сечению объекта, или альтернативно на те места слоя, которые не соответствуют поперечному сечению объекта, и
лучистый нагреватель (18), который способен испускать излучение (18') с максимумом при длине волны в диапазоне 1000-6000 нм для нагревания слоя порошка, отличающееся тем, что
устройство снабжено регулирующим устройством (19), которое вводит время ожидания после завершения селективного облучения слоя перед нанесением нового слоя.
19. Устройство по п.18, в котором регулирующее устройство увеличивает мощность нагревания лучистого нагревателя (18) в течение времени ожидания.
20. Устройство для производства трехмерного объекта посредством последовательного отверждения слоев отверждаемого материала в форме порошка по местам, соответствующим поперечному сечению формируемого объекта, под действием излучения, включающее в себя:
основание (4), имеющее по существу плоскую поверхность, которая служит для поддерживания формируемого объекта;
устройство для нанесения (10), предназначенное для нанесения слоя материала на поверхность основания или на слой, который уже был, по меньшей мере, частично отвержден, и
первое устройство облучения (7), которое обеспечивает селективное направление первого электромагнитного пучка или пучка частиц (8') на слой для изменения поглощения,
при этом имеется второе устройство облучения (70), предназначенное для селективного направления электромагнитного пучка или пучка частиц (80) на
слой, причем второй пучок (80) обладает более высокой удельной мощностью, чем первый пучок,
отличающееся тем, что оно содержит регулирующее устройство, которое осуществляет регулирование первого устройства облучения (7) таким образом, чтобы поглощение в нанесенном слое селективно изменялось посредством первого электромагнитного пучка или пучка частиц (8'), и которое осуществляет регулирование второго устройства облучения (70) таким образом, чтобы электромагнитный пучок или пучок частиц (80) направлялся на те места слоя, которые соответствуют поперечному сечению объекта в указанном слое и поглощение которых изменилось ранее посредством первого пучка (8').
21. Устройство по п.20, которое дополнительно включает в себя:
лучистый нагреватель (18), который обеспечивает передачу излучения (18'), имеющего максимум при длине волны в диапазоне от 1000 нм до 6000 нм, для нагревания слоя порошка, и
регулирующее устройство (10), которое вводит время ожидания после завершения селективного облучения слоя вторым пучком (80) перед нанесением нового слоя.
RU2009143542/05A 2007-05-25 2008-05-23 Способ послойного производства трехмерного объекта RU2469851C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007024469A DE102007024469B4 (de) 2007-05-25 2007-05-25 Verfahren zum schichtweisen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
DE102007024469.1 2007-05-25
PCT/EP2008/004149 WO2008145316A2 (de) 2007-05-25 2008-05-23 Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009143542A RU2009143542A (ru) 2011-05-27
RU2469851C2 true RU2469851C2 (ru) 2012-12-20

Family

ID=39877177

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009143542/05A RU2469851C2 (ru) 2007-05-25 2008-05-23 Способ послойного производства трехмерного объекта

Country Status (10)

Country Link
US (1) US9011982B2 (ru)
EP (1) EP2106337B2 (ru)
JP (1) JP5265671B2 (ru)
CN (1) CN101932429B (ru)
AT (1) ATE540803T1 (ru)
BR (1) BRPI0812112A2 (ru)
DE (1) DE102007024469B4 (ru)
HK (1) HK1147228A1 (ru)
RU (1) RU2469851C2 (ru)
WO (1) WO2008145316A2 (ru)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018017062A1 (en) * 2016-07-19 2018-01-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Additive manufacturing including selective heating
WO2018017072A1 (en) * 2016-07-20 2018-01-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Material sets
RU2676989C1 (ru) * 2017-12-01 2019-01-14 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) Способ формирования изделий путем трехмерной послойной печати с воздействием СВЧ электромагнитного поля и ультразвука
WO2019070334A1 (en) * 2017-10-05 2019-04-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. ENDLESS SCREW FOR THREE DIMENSIONAL PRINTER CONSTRUCTION MATERIAL
RU2689833C1 (ru) * 2018-09-19 2019-05-29 Общество с ограниченной ответственностью "ИНТЕХ-М" Способ получения керамических изделий на основе порошков оксидов металлов
RU2692346C2 (ru) * 2014-08-05 2019-06-24 Штарфорт Дес Штубенрусс Мориц Устройство регулировки потока гранул/жидкости для печатающей головки 3d-принтера, в которую подаются гранулы и/или жидкость
RU2712575C1 (ru) * 2016-06-02 2020-01-29 Сименс Мобилити Гмбх Материалы на основе полимеров для обработки способом послойного синтеза
RU2817095C1 (ru) * 2023-04-19 2024-04-09 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр химической физики им. Н.Н. Семенова Российской академии наук (ФИЦ ХФ РАН) Порошковый композиционный материал на основе полиэтилена для 3D-печати методом селективного лазерного спекания и способ его получения

Families Citing this family (104)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9895842B2 (en) * 2008-05-20 2018-02-20 Eos Gmbh Electro Optical Systems Selective sintering of structurally modified polymers
US8709330B2 (en) * 2009-01-06 2014-04-29 The Boeing Company Manufacturing aircraft parts
IT1395683B1 (it) * 2009-08-03 2012-10-16 Dws Srl Macchina stereolitografica perfezionata
DE102009040582A1 (de) * 2009-09-08 2011-03-10 Christoph Heiland Verfahren zum Herstellen eines lasergesinterten Körpers mit der Eigenschaft einen Stoff zu absorbieren, adsorbieren oder emittieren
UA105540C2 (ru) * 2009-10-27 2014-05-26 Басф Се Пригодный для лазерного спекания порошок из полиоксиметилена, способ его изготовления и формованные изделия, изготовленные из этого порошка
US8725931B1 (en) 2010-03-26 2014-05-13 Western Digital Technologies, Inc. System and method for managing the execution of memory commands in a solid-state memory
US8782327B1 (en) 2010-05-11 2014-07-15 Western Digital Technologies, Inc. System and method for managing execution of internal commands and host commands in a solid-state memory
US9026716B2 (en) 2010-05-12 2015-05-05 Western Digital Technologies, Inc. System and method for managing garbage collection in solid-state memory
US8635412B1 (en) 2010-09-09 2014-01-21 Western Digital Technologies, Inc. Inter-processor communication
US9021192B1 (en) 2010-09-21 2015-04-28 Western Digital Technologies, Inc. System and method for enhancing processing of memory access requests
US9164886B1 (en) 2010-09-21 2015-10-20 Western Digital Technologies, Inc. System and method for multistage processing in a memory storage subsystem
US9587107B2 (en) 2010-09-27 2017-03-07 Arkema Inc. Heat treated polymer powders
WO2012092104A1 (en) 2010-12-30 2012-07-05 Ticona Llc Powder containing a polyoxymethylene polymer for coating metallic substrates
ITVI20110099A1 (it) * 2011-04-20 2012-10-21 Dws Srl Metodo per la produzione di un oggetto tridimensionale e macchina stereolitografica impiegante tale metodo
US9158670B1 (en) 2011-06-30 2015-10-13 Western Digital Technologies, Inc. System and method for dynamically adjusting garbage collection policies in solid-state memory
US10011089B2 (en) 2011-12-31 2018-07-03 The Boeing Company Method of reinforcement for additive manufacturing
EP2746319B1 (en) 2012-12-21 2015-09-09 Materialise N.V. Method for manufacturing objects by selective sintering
ES2670977T3 (es) * 2013-02-14 2018-06-04 Renishaw Plc. Aparato de solidificación selectiva por láser y método
US20140265048A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Matterfab Corp. Cartridge for an additive manufacturing apparatus and method
US9669583B2 (en) 2013-03-15 2017-06-06 Renishaw Plc Selective laser solidification apparatus and method
DE102013205724A1 (de) 2013-03-28 2014-10-02 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
CN105492188B (zh) * 2013-06-10 2018-09-11 瑞尼斯豪公司 选择性激光固化设备和方法
GB201310398D0 (en) 2013-06-11 2013-07-24 Renishaw Plc Additive manufacturing apparatus and method
DE102013014688A1 (de) * 2013-09-05 2015-03-05 Mann + Hummel Gmbh Filterelement und Verfahren zum Herstellen desselben
TWI624350B (zh) * 2013-11-08 2018-05-21 財團法人工業技術研究院 粉體成型方法及其裝置
EP3068929B2 (en) 2013-11-14 2021-09-22 General Electric Company Layered manufacturing of single crystal alloy components
KR20160086826A (ko) * 2013-11-21 2016-07-20 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. 감소된 밀도 물품
DE102014201818A1 (de) * 2014-01-31 2015-08-06 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren und Vorrichtung zur verbesserten Steuerung des Energieeintrags in einem generativen Schichtbauverfahren
US10434705B2 (en) 2014-03-06 2019-10-08 Sabic Global Technologies B.V. Additive manufactured items with flame resistance, process for making and process for testing their flame performance
WO2015136277A1 (en) 2014-03-11 2015-09-17 Bae Systems Plc Forming a three dimensional object
US10471657B2 (en) 2014-03-11 2019-11-12 Bae Systems Plc Sintering particulate material
GB201404246D0 (en) * 2014-03-11 2014-04-23 Bae Systems Plc Sintering particulate material
WO2015145844A1 (ja) * 2014-03-28 2015-10-01 株式会社日立製作所 レーザ粉末積層造形装置及びレーザ粉末積層造形方法及び３次元積層造形装置
KR101479900B1 (ko) * 2014-05-14 2015-01-08 김석문 3ｄ 프린팅 장치 및 방법, 이를 이용한 방파제 단위 유닛 제조 방법
CN110394976B (zh) * 2014-05-29 2021-08-27 三菱化学株式会社 利用热熔融层叠法的层叠造型用支承材和层叠物、以及层叠造型物的制造方法
MX355451B (es) 2014-06-20 2018-04-18 Velo3D Inc Aparatos, sistemas y metodos para impresion tridimensional.
EP3158400B1 (en) * 2014-06-23 2022-06-01 Carbon, Inc. Methods of producing three-dimensional objects from materials having multiple mechanisms of hardening
CN104191622B (zh) * 2014-08-28 2016-06-01 北京智谷技术服务有限公司 3d打印辅助方法、装置及3d打印机
CN104260343B (zh) * 2014-08-28 2016-09-28 北京智谷技术服务有限公司 3d打印辅助方法、装置及3d打印机
CN104191623B (zh) * 2014-08-28 2016-10-05 北京智谷技术服务有限公司 3d打印辅助方法、装置及3d打印机
CN104191621B (zh) * 2014-08-28 2016-10-05 北京智谷技术服务有限公司 3d打印辅助方法、装置及3d打印机
EP3200942A1 (en) * 2014-10-01 2017-08-09 Renishaw Plc. Additive manufacturing apparatus and method
EP3200973B1 (en) 2014-10-03 2022-02-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Controlling temperature in an apparatus for generating a three-dimensional object
CN107075215A (zh) 2014-11-03 2017-08-18 阿科玛股份有限公司 用于增加聚合物薄片和粉末的密度的方法
US20160213405A1 (en) 2015-01-27 2016-07-28 K2M, Inc. Vertebral plate systems and methods of use
US10028841B2 (en) 2015-01-27 2018-07-24 K2M, Inc. Interbody spacer
US10953600B2 (en) 2015-01-30 2021-03-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Generating 3D objects
DE102015202964A1 (de) 2015-02-18 2016-08-18 Eos Gmbh Electro Optical Systems Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
US9695280B2 (en) * 2015-03-03 2017-07-04 Ricoh Co., Ltd. Methods for solid freeform fabrication
DE102015204630A1 (de) * 2015-03-13 2016-09-15 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes mit verbesserter Oberflächengüte
GB201505458D0 (en) 2015-03-30 2015-05-13 Renishaw Plc Additive manufacturing apparatus and methods
DE102015111504A1 (de) * 2015-07-15 2017-01-19 Apium Additive Technologies Gmbh 3D-Druckvorrichtung
WO2017014785A1 (en) * 2015-07-23 2017-01-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional (3d) printing method
JP6495480B2 (ja) * 2015-07-30 2019-04-03 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー．Ｈｅｗｌｅｔｔ‐Ｐａｃｋａｒｄ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ， Ｌ．Ｐ． 三次元物体製造
US10974322B2 (en) 2015-07-31 2021-04-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Photonic fusing
US10065270B2 (en) 2015-11-06 2018-09-04 Velo3D, Inc. Three-dimensional printing in real time
DE102015222456A1 (de) * 2015-11-13 2017-05-18 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
DE102015014964A1 (de) * 2015-11-20 2017-05-24 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung für 3D-Druck mit engem Wellenlängenspektrum
WO2017095972A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-08 The Board Of Regents For Oklahoma State University Microwave processing of thermoelectric materials and use of glass inclusions for improving the mechanical and thermoelectric properties
CN108698126A (zh) 2015-12-10 2018-10-23 维洛3D公司 精湛的三维打印
DE102015225344A1 (de) 2015-12-15 2017-06-22 Eos Gmbh Electro Optical Systems Pulveraustragseinheit, Vorrichtung und Verfahren zum generativen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
CN108367459B (zh) 2015-12-28 2022-02-18 阿科玛股份有限公司 生产聚合物粉料的方法
DE102016200043A1 (de) 2016-01-05 2017-07-06 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren zum Kalibrieren einer Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
US10434573B2 (en) 2016-02-18 2019-10-08 Velo3D, Inc. Accurate three-dimensional printing
DE102016204905A1 (de) * 2016-03-23 2017-09-28 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
DE102016205053A1 (de) * 2016-03-24 2017-09-28 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zum Aufschmelzen/Sintern von Pulverpartikeln zur schichtweisen Herstellung von dreidimensionalen Objekten
US11248071B2 (en) 2016-04-01 2022-02-15 Arkema Inc. 3-D printed fluoropolymer structures
EP3436524B1 (en) * 2016-04-01 2022-06-15 Arkema Inc. 3-d printed fluoropolymer structures
US10375765B2 (en) * 2016-04-15 2019-08-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. 3-dimensional printed load cell parts
JP6600278B2 (ja) * 2016-06-07 2019-10-30 三菱重工業株式会社 選択型ビーム積層造形装置及び選択型ビーム積層造形方法
EP3472222B1 (en) * 2016-06-20 2022-01-05 SABIC Global Technologies B.V. Polymer composition for selective sintering
US11691343B2 (en) 2016-06-29 2023-07-04 Velo3D, Inc. Three-dimensional printing and three-dimensional printers
EP3492244A1 (en) 2016-06-29 2019-06-05 VELO3D, Inc. Three-dimensional printing system and method for three-dimensional printing
US10857727B2 (en) 2016-07-20 2020-12-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Material sets
US20180126462A1 (en) 2016-11-07 2018-05-10 Velo3D, Inc. Gas flow in three-dimensional printing
US20180186080A1 (en) 2017-01-05 2018-07-05 Velo3D, Inc. Optics in three-dimensional printing
EP3348385A1 (en) * 2017-01-13 2018-07-18 Airbus Operations GmbH Method and apparatus for manufacturing a three-dimensional object by additive layer manufacturing
US10315252B2 (en) 2017-03-02 2019-06-11 Velo3D, Inc. Three-dimensional printing of three-dimensional objects
US20200291227A1 (en) * 2017-03-06 2020-09-17 Siemens Mobility GmbH Material for Processing in Selective Laser Sintering Method
US10449696B2 (en) 2017-03-28 2019-10-22 Velo3D, Inc. Material manipulation in three-dimensional printing
WO2018194656A1 (en) * 2017-04-21 2018-10-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Additive manufacturing machine heat flux
JP7466267B2 (ja) 2017-05-25 2024-04-12 ストライカー・ユーロピアン・オペレイションズ・ホールディングス・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 固定特徴部及び挿入特徴部が一体化された融合ケージ
US10821718B2 (en) * 2017-06-23 2020-11-03 General Electric Company Selective powder processing during powder bed additive manufacturing
US11006981B2 (en) 2017-07-07 2021-05-18 K2M, Inc. Surgical implant and methods of additive manufacturing
EP3470211A1 (en) * 2017-10-13 2019-04-17 CL Schutzrechtsverwaltungs GmbH Method for operating an apparatus for additively manufacturing of three-dimensional objects
JP7277103B2 (ja) * 2017-10-27 2023-05-18 キヤノン株式会社 セラミックス造形物の製造方法
EP3724255A1 (en) 2017-12-15 2020-10-21 SABIC Global Technologies B.V. Polymer composition for selective sintering
US10272525B1 (en) 2017-12-27 2019-04-30 Velo3D, Inc. Three-dimensional printing systems and methods of their use
WO2019136523A1 (en) * 2018-01-11 2019-07-18 Flew Solutions Australia Ltd Method and apparatus for increasing the resolution, reducing defect rates and increasing production rates in additively manufactured 3d articles
US10144176B1 (en) 2018-01-15 2018-12-04 Velo3D, Inc. Three-dimensional printing systems and methods of their use
WO2019152004A1 (en) * 2018-01-31 2019-08-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Retractable optical barrier for fixed over head lamp system
CN110239088A (zh) * 2018-03-08 2019-09-17 三纬国际立体列印科技股份有限公司 可动态调整打印时间的3d打印机及其动态打印方法
CN108424605B (zh) * 2018-03-23 2020-03-20 杭州科技职业技术学院 一种聚醚醚酮3d打印材料及其3d打印成型方法
DE102018205820A1 (de) * 2018-04-17 2019-10-17 Eos Gmbh Electro Optical Systems Selektive Nachbelichtung
DE102018219302A1 (de) * 2018-11-12 2020-05-14 Eos Gmbh Electro Optical Systems Selektives Sintern von polymerbasiertem Aufbaumaterial
DE102018219303A1 (de) * 2018-11-12 2020-05-14 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verzugsoptimiertes Kunststoffpulver
CN112521138B (zh) * 2019-09-03 2022-09-23 南京优登科技有限公司 一种硅藻土多孔体及其制备方法
CN115135482A (zh) * 2019-12-17 2022-09-30 提克纳有限责任公司 采用增韧聚芳硫醚组合物的三维打印系统
US11951679B2 (en) 2021-06-16 2024-04-09 General Electric Company Additive manufacturing system
US11731367B2 (en) 2021-06-23 2023-08-22 General Electric Company Drive system for additive manufacturing
US11958250B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11958249B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11826950B2 (en) 2021-07-09 2023-11-28 General Electric Company Resin management system for additive manufacturing
US11813799B2 (en) 2021-09-01 2023-11-14 General Electric Company Control systems and methods for additive manufacturing

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4945032A (en) * 1988-03-31 1990-07-31 Desoto, Inc. Stereolithography using repeated exposures to increase strength and reduce distortion
DE4412160A1 (de) * 1993-04-12 1994-10-13 Du Pont Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen
DE19606128A1 (de) * 1996-02-20 1997-08-21 Eos Electro Optical Syst Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
WO1997043696A1 (en) * 1996-05-16 1997-11-20 Napp Systems, Inc. Methods to increase the exposure sensitivity of photopolymerizable matrices and apparatus useful therefor
US6107008A (en) * 1997-08-29 2000-08-22 Lockheed Martin Energy Research Ionizing radiation post-curing of objects produced by stereolithography and other methods
RU2005122938A (ru) * 2002-12-20 2006-01-20 Юниверсити Оф Саутерн Калифорния (Us) Способ уменьшения отходов порошка при избирательном ингибировании спекания
DE102005054723A1 (de) * 2005-11-17 2007-05-24 Degussa Gmbh Verwendung von Polyesterpulver in einem formgebenden Verfahren und Formkörper, hergestellt aus diesem Polyesterpulver

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4586068A (en) * 1983-10-07 1986-04-29 Rockwell International Corporation Solid state photomultiplier
DE4300478C2 (de) * 1993-01-11 1998-05-20 Eos Electro Optical Syst Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
KR100368328B1 (ko) * 1994-05-27 2003-04-08 에오스 게엠베하 엘렉트로 옵티컬 시스템즈 주형제조방법
DE19514740C1 (de) 1995-04-21 1996-04-11 Eos Electro Optical Syst Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
DE19516972C1 (de) * 1995-05-09 1996-12-12 Eos Electro Optical Syst Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes mittels Lasersintern
US5640667A (en) 1995-11-27 1997-06-17 Board Of Regents, The University Of Texas System Laser-directed fabrication of full-density metal articles using hot isostatic processing
JPH115254A (ja) 1997-04-25 1999-01-12 Toyota Motor Corp 積層造形方法
DE19953000C2 (de) 1999-11-04 2003-04-10 Horst Exner Verfahren und Einrichtung zur schnellen Herstellung von Körpern
TWI228114B (en) * 1999-12-24 2005-02-21 Nat Science Council Method and equipment for making ceramic work piece
SE521124C2 (sv) 2000-04-27 2003-09-30 Arcam Ab Anordning samt metod för framställande av en tredimensionell produkt
DE10053742C5 (de) * 2000-10-30 2006-06-08 Concept Laser Gmbh Vorrichtung zum Sintern, Abtragen und/oder Beschriften mittels elektromagnetischer gebündelter Strahlung sowie Verfahren zum Betrieb der Vorrichtung
US6556339B2 (en) * 2001-03-30 2003-04-29 Coherent Technologies, Inc. Noncollinearly pumped solid state Raman laser
GB0317387D0 (en) * 2003-07-25 2003-08-27 Univ Loughborough Method and apparatus for combining particulate material
GB0322598D0 (en) 2003-09-26 2003-10-29 Victrex Mfg Ltd Polymeric material
DE102004012683A1 (de) 2004-03-16 2005-10-06 Degussa Ag Lasersintern mit Lasern mit einer Wellenlänge von 100 bis 3000 nm
DE102004012682A1 (de) * 2004-03-16 2005-10-06 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels Lasertechnik und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren
DE102004020452A1 (de) * 2004-04-27 2005-12-01 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Objekten mittels elektromagnetischer Strahlung und Auftragen eines Absorbers per Inkjet-Verfahren
DE102004020451A1 (de) * 2004-04-27 2005-12-01 Degussa Ag Uretdiongruppenhaltige Polyurethanzusammensetzungen, welche bei niedriger Temperatur härtbar sind und (teil-)kristalline Harze enthalten
DE102004024440B4 (de) * 2004-05-14 2020-06-25 Evonik Operations Gmbh Polymerpulver mit Polyamid, Verwendung in einem formgebenden Verfahren und Formkörper, hergestellt aus diesem Polymerpulver
JP4519560B2 (ja) * 2004-07-30 2010-08-04 株式会社メディアプラス 積層造形方法
DE102004062761A1 (de) * 2004-12-21 2006-06-22 Degussa Ag Verwendung von Polyarylenetherketonpulver in einem dreidimensionalen pulverbasierenden werkzeuglosen Herstellverfahren, sowie daraus hergestellte Formteile
DE102005048314B4 (de) † 2005-10-06 2009-02-12 Laserinstitut Mittelsachsen E.V. Vorrichtung zum selektiven Lasersintern
EP2001656B1 (en) * 2006-04-06 2014-10-15 3D Systems Incorporated KiT FOR THE PRODUCTION OF THREE-DIMENSIONAL OBJECTS BY USE OF ELECTROMAGNETIC RADIATION

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4945032A (en) * 1988-03-31 1990-07-31 Desoto, Inc. Stereolithography using repeated exposures to increase strength and reduce distortion
DE4412160A1 (de) * 1993-04-12 1994-10-13 Du Pont Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen
DE19606128A1 (de) * 1996-02-20 1997-08-21 Eos Electro Optical Syst Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
WO1997043696A1 (en) * 1996-05-16 1997-11-20 Napp Systems, Inc. Methods to increase the exposure sensitivity of photopolymerizable matrices and apparatus useful therefor
US6107008A (en) * 1997-08-29 2000-08-22 Lockheed Martin Energy Research Ionizing radiation post-curing of objects produced by stereolithography and other methods
RU2005122938A (ru) * 2002-12-20 2006-01-20 Юниверсити Оф Саутерн Калифорния (Us) Способ уменьшения отходов порошка при избирательном ингибировании спекания
DE102005054723A1 (de) * 2005-11-17 2007-05-24 Degussa Gmbh Verwendung von Polyesterpulver in einem formgebenden Verfahren und Formkörper, hergestellt aus diesem Polyesterpulver

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2692346C2 (ru) * 2014-08-05 2019-06-24 Штарфорт Дес Штубенрусс Мориц Устройство регулировки потока гранул/жидкости для печатающей головки 3d-принтера, в которую подаются гранулы и/или жидкость
RU2712575C1 (ru) * 2016-06-02 2020-01-29 Сименс Мобилити Гмбх Материалы на основе полимеров для обработки способом послойного синтеза
WO2018017062A1 (en) * 2016-07-19 2018-01-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Additive manufacturing including selective heating
US11072112B2 (en) 2016-07-19 2021-07-27 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Additive manufacturing including selective heating
WO2018017072A1 (en) * 2016-07-20 2018-01-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Material sets
WO2019070334A1 (en) * 2017-10-05 2019-04-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. ENDLESS SCREW FOR THREE DIMENSIONAL PRINTER CONSTRUCTION MATERIAL
US11731357B2 (en) 2017-10-05 2023-08-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Chamber for storing build material
RU2676989C1 (ru) * 2017-12-01 2019-01-14 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) Способ формирования изделий путем трехмерной послойной печати с воздействием СВЧ электромагнитного поля и ультразвука
RU2689833C1 (ru) * 2018-09-19 2019-05-29 Общество с ограниченной ответственностью "ИНТЕХ-М" Способ получения керамических изделий на основе порошков оксидов металлов
RU2817095C1 (ru) * 2023-04-19 2024-04-09 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр химической физики им. Н.Н. Семенова Российской академии наук (ФИЦ ХФ РАН) Порошковый композиционный материал на основе полиэтилена для 3D-печати методом селективного лазерного спекания и способ его получения

Also Published As

Publication number Publication date
EP2106337A2 (de) 2009-10-07
CN101932429B (zh) 2014-07-09
RU2009143542A (ru) 2011-05-27
HK1147228A1 (en) 2011-08-05
DE102007024469A1 (de) 2008-11-27
DE102007024469B4 (de) 2009-04-23
ATE540803T1 (de) 2012-01-15
EP2106337B2 (de) 2016-06-01
CN101932429A (zh) 2010-12-29
EP2106337B1 (de) 2012-01-11
BRPI0812112A2 (pt) 2014-11-25
JP2010527810A (ja) 2010-08-19
US20090017220A1 (en) 2009-01-15
JP5265671B2 (ja) 2013-08-14
WO2008145316A3 (de) 2009-01-22
US9011982B2 (en) 2015-04-21
WO2008145316A2 (de) 2008-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2469851C2 (ru) Способ послойного производства трехмерного объекта
US11951681B2 (en) Method and device for lithography-based additive production of three-dimensional shaped bodies
US20220227049A1 (en) Method and device for 3d printing with a narrow wavelength spectrum
KR102615544B1 (ko) 스펙트럼 변환기를 사용하여 3d 성형품을 제조하는 방법 및 장치
US7850885B2 (en) Device and method for manufacturing a three-dimensional object with a heated recoater for a building material in powder form
Goodridge et al. Powder bed fusion of polymers
US7847057B2 (en) PAEK powder, in particular for the use in a method for a layer-wise manufacturing of a three-dimensional object, as well as method for producing it
US20160332379A1 (en) Method and Device for the Improved Control of the Energy Input in a Generative Layer Construction Method
US20110039016A1 (en) Manufacturing Technique
US10967575B2 (en) Method and device for the generative manufacturing of a three-dimensional object
Golhin et al. Surface roughness of as-printed polymers: a comprehensive review
ES2785600T3 (es) Procedimiento y dispositivo para la fusión/sinterización de partículas de polvo para la producción en capas de objetos tridimensionales
JP2013022964A (ja) 三次元の物体を層状に製造するための装置と方法、ポリマー粉末及びモールド
JP2010184412A (ja) 積層造形用樹脂粉末
CN106626379A (zh) 激光制造聚酰胺三维物体的方法和装置
CN112166024A (zh) 使聚合物物体成形的方法
CN113733554A (zh) 一种微波与红外辐射复合成形高分子零件的方法与装置
JP7221157B2 (ja) Ａｍ装置
US20210016512A1 (en) Selective post-exposure
EP3597397A1 (en) A method and system for layerwise production of a tangible object
Kuehn et al. Comparison between the optical properties of injection molded and additive manufactured components
RU2800637C2 (ru) Устройство для аддитивного производства и соответствующий способ аддитивного производства
US11642839B2 (en) Layer-wise control of post condensation for additive manufacturing
JPH0511455A (ja) 光強度の調節方法