JP7277103B2 - セラミックス造形物の製造方法 - Google Patents
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Description
(i)セラミックス粉末を均し、粉末層を形成する工程と、
(ii)前記粉末層に対し三次元データに基づいて集光光学系を介してレーザービームを照射し、照射部位を結晶化させる工程と、
を繰り返し行い、セラミックス造形物を製造する方法であって、
前記(ii)の工程において、前記レーザービームを前記粉末層の表面に対し非合焦な状態で照射することを特徴とする。
<工程(i)>
本発明に係る造形物の製造方法は、セラミックス粉末を均し、粉末層を形成する工程(i)を有する。
セラミックス粉末は、金属酸化物を主成分とすることが好ましい。造形物の原料の主成分として金属酸化物を用いることで、レーザービームの照射により分解、ガス化して造形不良を起こすようなことがなく、精度の良い造形物を得ることができる。
前記金属酸化物を構成する金属の主成分はアルミニウムであることが好ましい。すなわち、酸化アルミニウムを主成分とする金属酸化物等を用いることができる。酸化アルミニウムは汎用的な構造用セラミックスであり、適切に熔融、凝固させることによって、高い機械的強度を有する造形物を得ることができる。
本発明に係る造形物の製造方法は、上記工程(i)で形成した粉末層102に対し、造形対象物である三次元モデルの三次元データに基づいて、集光されたレーザービームを照射し、照射部位を結晶化させる工程を有する。以下、好適な実施形態に基づいて本工程を説明する。
本発明に係る造形物の製造方法は、上記工程(i)、(ii)の工程を繰り返し、造形物を形成する。
合焦時に非晶質が多く形成され、非合焦時に結晶質が多いことを評価するには、実際の造形物の観察を行うことが好ましい。特に、EBSD(Electron Back Scatter Diffraction Patterns)法では、IQマップ(Image Quality map)の画像取得を行うことが好ましい。IQマップとは、電子線を照射した領域から得られる菊池パターンの先鋭度を数値化し、2次元画像としたものである。このとき、結晶質の領域からはシグナルが得られるが、非晶質の領域からはシグナルが得られないため、造形物のどこが非晶質で、どこが結晶質かを判別することに利用できる。
本実施例は、レーザービームの焦点が、合焦、非合焦の場合に得られる造形物の評価に関する。
それぞれ粒子が球状のα-Al2O3粉末(平均粒径20μm)、Gd2O3粉末(平均粒径25μm)、Tb4O7粉末(平均粒径3μm)を用意し、質量比でAl2O3:Gd2O3:Tb4O7=2.10:2.00:0.18となるように各粉末を秤量した。各秤量粉末を乾式ボールミルで30分間混合して混合粉末(材料粉末)を得た。
造形物の形成には、50Wのファイバーレーザー(ビーム径65μm)が搭載されている3D SYSTEMS社のProX DMP 100(商品名)を用いた。
作製した比較サンプル1とサンプル1の造形物は、基台のアルミナから切り離し、基台との接続部を下面としたとき、側面に平行な鉛直面で切断、研磨を行い、観察用試料とした。観察は、EBSDによって行い、IQマップの画像取得を行った。IQマップとは、電子線を照射した領域から得られる菊池パターンの先鋭度を数値化し、2次元画像としたものである。このとき、結晶質の領域からはシグナルが得られるが、領域からはシグナルが得られないため、造形物のどこが非晶質で、どこが結晶質であるかを判別することに利用することができる。
本実施例は、合焦、非合焦の各状態で造形条件を変化させた場合に関する。
実施例1の造形工程にならい、比較サンプル1、サンプル1の他に、表1に示す造形物を作製した。合焦、非合焦に対応させて粉末層が十分熔融するようにレーザーパワーを20Wから30W、40Wと順に変化させ、スキャンピッチが100μmの一定値で造形できるよう、スキャン速度範囲を調整したのが表1に示す各条件値である。
本実施例は、合焦、非合焦各状態のレーザービームによる熔融部(凝固部とも言い換えることができる)の形状との相関に関する。なお、ここでいうレーザービームよる熔融部の形状とは、レーザービームの照射により粉末層が熔融・凝固した部分の断面形状を指す。
101 粉末
102 粉末層
103 未凝固の粉末
130 基台
151 ステージ
152 ローラー
180 レーザービーム源
181 スキャナ部
Claims (16)
- (i)セラミックス粉末からなる粉末層を形成する工程と、
(ii)三次元データに基づいて前記粉末層にレーザービームを照射し、照射部位を溶融させた後に凝固させる工程と、
を繰り返し行い、セラミックス造形物を製造する方法であって、
前記粉末を800℃まで加熱した際の重量損失が、2%以下であり、
前記(ii)の工程において、前記レーザービームは前記粉末層の表面に対し非合焦な状態で照射され、前記凝固によって結晶質の領域が形成されることを特徴とするセラミックス造形物の製造方法。 - 前記(ii)の工程において、予備加熱を行わないことを特徴とする請求項1に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記(ii)の工程において、前記照射部位の粉末層を熔融させるエネルギーを有するレーザービームを用いることを特徴とする請求項1または2に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記粉末が金属酸化物を主成分とすることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記金属酸化物を構成する金属の主成分がアルミニウムであることを特徴とする請求項4に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記レーザーが、Nd:YAGレーザーまたはYbファイバーレーザーであることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記粉末層の層厚が、5μm以上100μm以下であり、前記レーザービームは前記三次元データに基づいて走査され、前記走査された前記レーザービームが、前記粉末層の前記表面からずれた焦点位置に集光されていることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記照射における1回の照射により発生する前記粉末の熔融の幅Lと熔融の深さDの比であるD/Lが、0.2≦D/L≦0.7であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- (i)セラミックス粉末からなる粉末層を形成する工程と、
(ii)三次元データに基づいて前記粉末層にレーザービームを照射し、照射部位を溶融させた後に凝固させる工程と
を繰り返し行い、セラミックス造形物を製造する方法であって、
前記(ii)の工程において、前記レーザービームは前記粉末層の表面に対し非合焦な状態で照射され、前記凝固によって結晶質の領域が形成され、
前記照射における1回の照射により発生する前記粉末の熔融の幅Lと熔融の深さDの比であるD/Lが、0.2≦D/L≦0.7であることを特徴とするセラミックス造形物の製造方法。 - 前記(ii)の工程において、予備加熱を行わないことを特徴とする請求項9に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記(ii)の工程において、前記照射部位の粉末層を熔融させるエネルギーを有するレーザービームを用いることを特徴とする請求項9または10に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記粉末が金属酸化物を主成分とすることを特徴とする請求項9~11のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記金属酸化物を構成する金属の主成分がアルミニウムであることを特徴とする請求項12に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記粉末を800℃まで加熱した際の重量損失が、2%以下であることを特徴とする請求項9~13のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記レーザーが、Nd:YAGレーザーまたはYbファイバーレーザーであることを特徴とする請求項9~14のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
- 前記粉末層の層厚が、5μm以上100μm以下であり、前記レーザービームは前記三次元データに基づいて走査され、前記走査された前記レーザービームが、前記粉末層の前記表面からずれた焦点位置に集光されていることを特徴とする請求項9~15のいずれか一項に記載のセラミックス造形物の製造方法。
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