DE4412160A1 - Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen - Google Patents
Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten ModellenInfo
- Publication number
- DE4412160A1 DE4412160A1 DE4412160A DE4412160A DE4412160A1 DE 4412160 A1 DE4412160 A1 DE 4412160A1 DE 4412160 A DE4412160 A DE 4412160A DE 4412160 A DE4412160 A DE 4412160A DE 4412160 A1 DE4412160 A1 DE 4412160A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- exposure
- layer
- image
- hardened
- modulated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
- B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/171—Processes of additive manufacturing specially adapted for manufacturing multiple 3D objects
- B29C64/182—Processes of additive manufacturing specially adapted for manufacturing multiple 3D objects in parallel batches
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrich
tung zur Bildung dreidimensionaler Modelle und insbeson
dere ein Verfahren zum Steuern der Belichtung photoform
barer Schichten, das Modelle erzeugt, bei denen die
durch innere Spannungen verursachten Verzerrungen redu
ziert sind.
Es existieren zahlreiche Systeme für dreidimensionale
(körperliche) Modellerzeugung durch Photoformung. EP-A-
250 121 offenbart eine Vorrichtung zur Bildung dreidi
mensionaler Modelle, bei der eine härtbare Flüssigkeit
verwendet wird, und enthält einen Überblick über Ver
öffentlichungen auf diesem Gebiet. US-4 575 330 offen
bart ein System zur Bildung dreidimensionaler Gegenstän
de durch Erzeugung eines Querschnittsmusters des zu
bildenden Objektes an einer gewählten Oberfläche eines
Fluidmediums, welches in der Lage ist, seinen physikali
schen Zustand als Reaktion auf eine geeignete Stimulie
rung, z. B. durch auftreffende Strahlung, Partikelbeschuß
oder chemische Reaktion, zu ändern. Aufeinanderfolgende,
aneinander anhaftende Schichten, die entsprechende auf
einanderfolgende Querschnitte des Objektes repräsentie
ren, werden derart erzeugt, daß sie ein dreidimensio
nales Objekt bilden. US-4 752 498 offenbart ein verbes
sertes Verfahren zum Erzeugen dreidimensionaler Gegen
stände, bei dem ein ungehärtetes Photopolymer bestrahlt
bzw. belichtet wird, indem eine ausreichende Menge einer
Photopolymerverfestigungsstrahlung durch ein strahlungs
durchlässiges Material geschickt wird, das sich in Kon
takt mit dem ungehärteten Photopolymer befindet. Das
durchlässige Material ist derart beschaffen, daß es die
bestrahlte Fläche in einem Zustand beläßt, in dem diese
zu einer weiteren Vernetzung imstande ist, so daß eine
anschließend gebildete Schicht an der Fläche anhaftet.
Beim Erzeugen eines dreidimensionalen Objektes mittels
aufeinanderfolgender Schichten, die zur Bildung aufein
anderfolgender Querschnitte des Objektes einer bildweise
modulierten Aushärtstrahlung ausgesetzt werden, muß
gewährleistet sein, daß jede Schicht den gewünschten
Querschnitt des Objektes präzise wiedergibt, um ein
dreidimensionales Objekt zu erzeugen, der eine exakte
Wiedergabe des gewünschten Objektes ist. Deshalb ist es
wichtig, daß keine Verzerrung in die Erzeugung irgend
einer Schicht eingebracht wird, da eine solche Verzer
rung ein verzerrtes Objekt erzeugen würde. Nachteili
gerweise treten in den einzelnen Schichten tatsächlich
Verzerrungen auf, da sich die photoformbare Zusammen
setzung während des Bestrahlungsvorgangs von einem im
wesentlichen frei fließenden Zustand in einen im wesent
lichen gehärteten festen Aggregatzustand verändert, und
zwar aufgrund von Spannungen in den Schichten. Man nimmt
an, daß derartige Spannungen das Ergebnis beträchtlicher
Kräfte sind, die durch die Molekularschrumpfung erzeugt
werden, welche aufgrund des zur Aushärtung vorgesehenen
Bestrahlungsvorgangs erfolgt. Zur Lösung dieses Problems
sind zahlreiche Vorschläge gemacht worden.
Gemäß einem Lösungsvorschlag werden die Schichten einem
WEAVE-Muster ausgesetzt; dieser Vorschlag ist beschrie
ben in: Rapid Phototyping & Manufacturing, 1. Ausgabe,
von Paul F. Jacobs, veröffentlicht von The Society of
Manufacturing Engineers, Dearborn, Michigan, Kapitel 8,
"Advanced Part Building", S. 195-219. US-4 945 032 of
fenbart ein Verfahren zur Reduzierung von Verzerrung,
bei dem die Belichtung einer Schicht gestoppt und dann
mindestens einmal wiederholt wird. Gemäß JP-A-63(1988)-
172 685 werden ebenfalls zwei Belichtungen verwendet, und
zwar eine erste, bildweise Belichtung, nach der in den
belichteten Bereichen das Harz nur partiell gehärtet
ist, und - nachdem das Modell vervollständigt ist -
eine zweite Belichtung, bei der es sich um eine Gesamt
belichtung handelt, mittels derer das teilweise gehärte
te Harz vollständig gehärtet und somit ein festes Modell
erzeugt wird. Obwohl durch diese Verfahren die Verzer
rung reduziert wird, besteht weiterhin Bedarf an einem
Verfahren, das in der Lage ist, einen verzerrungsfreien
Festkörper zu erzeugen und bei dem der resultierende
Körper nur eine sehr geringe Menge an eingeschlossenem
ungehärtetem Material enthält und größtmögliche Festig
keit aufweist.
Zur Lösung der Aufgabe wird ein Belichtungsverfahren
nach Anspruch 1 vorgeschlagen.
Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung ist vorgesehen,
daß die in Schritt (1) erfolgende bildweise Belichtung
derart durchgeführt wird, daß strichförmige gehärtete
Bereiche erzeugt werden und die strichförmigen Bereiche
entlang einer Bildlinie relativ zu den strichförmigen
Bereichen in benachbarten Bildlinien seitlich verschoben
werden. Bei der Lichtquelle handelt es sich vorzugsweise
um einen Abtastlaserstrahl, der zur Steuerung der Be
lichtung der photoformbaren Zusammensetzung durch ein
Impulssignal submoduliert wird; sowohl die Modulation
als auch die Supermodulation des Strahls für die beiden
Belichtungen werden begleitet von einer selektiven Ver
änderung der Intensität des auf die eine Schicht auf
treffenden Strahls von einem "Ein"-Zustand zu einem
"Aus"-Zustand in vorbestimmten Zeitintervallen. Beim
Erzeugen eines Festkörpermodells werden die Schritte (1)
und (2) in einer vorbestimmten Häufigkeit wiederholt, um
mehreren Schichten einer den vorbestimmten Mustern ent
sprechenden Belichtung auszusetzen.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen der
Erfindung im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher er
läutert.
Es zeigen
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung
zur Ausführung des Verfahrens;
Fig. 2 ein Schaubild eines einem Strahlmodulator zu
geführten Steuersignals zur Submodulation eines
Belichtungsstrahls, und der resultierenden Er
härtung einer dem submodulierten Strahl ausge
setzten photoformbaren Zusammensetzung, bei
konstanter Abtastgeschwindigkeit;
Fig. 3 ein Schaubild des Strahlintensitätsprofils auf
der Zielebene;
Fig. 4 ein Schaubild eines dem Strahlmodulator zuge
führten Steuersignals zur bildweisen Modulierung
eines Belichtungsstrahls;
Fig. 5 ein Schaubild eines dem Strahlmodulator zuge
führten Steuersignals zum Supermodulieren eines
Belichtungsstrahls, das bei der ersten bildwei
sen Belichtung einer photoformbaren Zusammen
setzung verwendet wird;
Fig. 6 einen schematischen Querschnitt des Ergebnisses
der ersten bildweisen Belichtung einer photo
formbaren Schicht unter Verwendung des Steuersi
gnals gemäß Fig. 5;
Fig. 7 einen schematischen Querschnitt des Ergebnisses
der zweiten bildweisen Belichtung einer photo
formbaren Schicht unter Verwendung des Steuersi
gnals gemäß Fig. 4;
Fig. 8 eine schematische Draufsicht auf einen belichte
ten Bildbereich auf einer Schicht, wobei die
nach der ersten bildweisen Belichtung gebildeten
Inseln gezeigt sind;
Fig. 9 eine schematische Draufsicht auf den Bereich
gemäß Fig. 8, wobei die nach der zweiten bild
weisen Belichtung gebildeten Inseln gezeigt
sind;
Fig. 10 eine schematische Draufsicht der Relativpositio
nen der Inseln, die gemäß einer alternativen
Ausführungsform durch die erste bildweise Be
lichtung gebildet sind.
Bei der folgenden Beschreibung der Erzeugung eines drei
dimensionalen Modells durch das Verfahren, durch das
eine reduzierte Verzerrung erzielt wird, werden die
folgenden anschließend näher definierten Ausdrücke ver
wendet:
Ein Material, das sich anfangs in einem ungehärteten,
leicht verformbaren Zustand, z. B. im flüssigen Zustand,
befindet und das unter Einwirkung einer ausreichenden
Menge einer geeigneten Strahlung ganz oder teilweise
aushärtet.
Der Zustand der photoformbaren Zusammensetzung vor ir
gendeiner wesentlichen Strahlungseinwirkung, in dem die
Zusammensetzung leicht verformbar ist.
Der Zustand der photoformbaren Zusammensetzung, nachdem
sie der Aushärtstrahlung mit einem Intensitätsniveau
ausgesetzt worden ist, das nicht ausreicht, um die Zu
sammensetzung über den Punkt hinaus zu erhärten, an dem
sie verformbar bleibt. Es handelt sich hierbei um einen
flexiblen, nachgiebigen, gummiartigen Zustand.
Der Zustand der photoformbaren Zusammensetzung, nachdem
diese einer Aushärtstrahlung mit einem hinreichenden
Intensitätsniveau ausgesetzt worden ist, um die Zusam
mensetzung zu verfestigen. (Eine gewisse Menge an unge
härtetem oder teilweise gehärteten Material kann in
Gittern in der gehärteten Zusammensetzung gefangen wer
den, jedoch ist derartiges Material nicht in ausreichen
den Mengen vorhanden, um das gesamte Material nachgiebig
zu machen.)
Der "Ein"-Zustand ist ein Zustand, in dem die Intensität
und die Geschwindigkeit eines Belichtungsstrahls derart
beschaffen sind, daß die auf der Bildebene gemessene
Belichtung (die Intensität der auftreffenden Strahlung
multipliziert mit der Dauer des Auftreffens) über einem
Schwellenpegel liegt, der zum Härten des photoformbaren
Materials ausreicht. Der "Aus"-Zustand ist ein Zustand,
in dem die Intensität und die Geschwindigkeit des
Strahls derart beschaffen sind, daß die wiederum auf der
Bildebene gemessene Belichtung unter einem Schwellenpe
gel liegt, der zum Härten des photoformbaren Materials
ausreicht.
Ein Vorgang, bei dem die Laserstrahl-Intensität und/
oder -Geschwindigkeit derart verändert wird, daß "Ein"-
und "Aus"-Zustände mit einer Impulskette variabler Im
pulsbreite und Wiederholungsrate erzeugt werden. Die
Impulsbreite und die Wiederholungsrate (Frequenz) sind
eine Funktion der augenblicklichen Abtastgeschwindigkeit
des Strahls auf einer Bildebene. Die Impulsbreite und
die Wiederholungsrate sind so gewählt, daß über den
gesamten Abtastweg des Strahls im wesentlichen gleich
förmige Belichtungsgrade auf der Bildebene erzeugt wer
den.
Ein Vorgang, durch den ein auf eine Bildebene auftref
fender Laserstrahl bildweise moduliert wird, indem ba
sierend auf einem Bildinformation repräsentierenden
Signal die Strahlintensität auf der Bildebene zwischen
dem "Ein"- und "Aus"-Zustand variiert wird, um bestimmte
Bereiche auf der Bildebene zu belichten und dadurch ein
Bild zu reproduzieren, das der von dem Signal repräsen
tierten Bildinformation entspricht. Der Strahl kann ein
submodulierter Laserstrahl sein.
Ein Vorgang, bei dem der von einem Lichtstrahl auf einer
Bildebene erzeugte Belichtungsgrad weiter zwischen den
"Ein"- und "Aus"-Zuständen variiert wird, und zwar ent
sprechend einem vorgewählten Steuersignal, das derart
gewählt ist, daß eine unterbrochene Reihe von Belichtun
gen erzeugt wird, die ein Muster diskreter, unverbunde
ner belichteter Bereiche innerhalb eines belichteten
Teils einer Bildfläche auf einer Bildebene bilden. Dies
kann erfolgen, indem entweder die Intensität der auf die
Bildebene auftreffenden Belichtungsstrahlung variiert
wird, oder indem die Zeit des Auftreffens der Strahlung
auf einen Punkt auf der Bildebene variiert wird, oder
indem sowohl die Intensität und die Zeit variiert wer
den.
Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des Ver
fahrens. Die Vorrichtung weist eine Quelle für Belich
tungsstrahlung auf, z. B. einen Laser 10, der einen Be
lichtungsstrahl 12 erzeugt. Der Laser 10 ist vorzugs
weise ein Hochleistungslaser, der Haupt-Bänder in sicht
baren, Infrarot- oder Ultraviolettbereichen des Strah
lungsspektrums abstrahlen kann, wobei das bestimmte ge
wählte Band eine Funktion der Spektralempfindlichkeit
der Zusammensetzung ist, die durch Strahlungseinwirkung
gehärtet werden soll. Der Ausdruck "Hochleistung" ist in
relativem Sinn zu verstehen und hängt in großem Ausmaß
von der Menge an Strahlungsenergie ab, die zum Aushärten
einer bestimmten photoformbaren Zusammensetzung benötigt
wird (d. h. der Photoformbarkeits-Geschwindigkeit oder
"photospeed" der Zusammensetzung). Bei derzeit verfüg
baren Photoformbarkeits-Geschwindigkeiten versteht man
unter "Hochleistung" eine Leistung, die größer als 20 mW
und vorzugsweise größer als 100 mW ist, gemessen an der
Intensität des Strahls. Zum Fokussieren des Strahls 12
auf eine Bildebene 13 sind Fokussierungseinrichtungen
verfügbar, die jedoch aus Gründen der Übersicht in Fig.
1 nicht gezeigt sind.
Außer einem durch einen Laser erzeugten Belichtungs
strahl 12 können andere Strahlungsquellen benutzt wer
den, z. B. Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen etc.,
wobei diese Wahl wiederum von der Spektralempfindlich
keit der der Strahlung ausgesetzten härtbaren Zusammen
setzung abhängt. Der Querschnitt des Strahls 12 hat
typischerweise kreisförmige Gestalt mit einer Gaußschen
Intensitätsverteilung gemäß Fig. 3, wobei "D" der Punkt
des Strahlungsgrads 1/e2 ist.
Der Strahl 12 durchläuft einen Modulator 14, der vor
zugsweise ein optoakustischer Modulator ist. Der opto
akustische Modulator verändert als Reaktion auf ein ihm
zugeführtes elektronisches Steuersignal die Intensität
des austretenden Laserstrahls zwischen ein "Ein"-Zustand
und einem "Aus"-Zustand gemäß der obigen Definition.
Anschließend wird der Strahl durch ein Strahlablenksy
stem geschickt, das vorzugsweise zwei orthogonale
Strahlablenkeinrichtungen 16 und 18 aufweist. Die Ein
richtungen 16 und 18 werden über Leitungen 15 und 15′
mittels einer Strahlablenksteuereinrichtung gesteuert,
die in einem Steuermodul 28 enthalten ist. Das Strahl
ablenksystem kann zwei Spiegel aufweisen, die sich um
zwei orthogonale Achsen drehen, die an zwei gesteuerten
Servomotoren befestigt sind. Die Servomotoren können
durch ein elektronisches Signal, z. B. eine Abfolge von
Schrittimpulsen, gesteuert werden und dadurch den Spie
gel derart drehen, daß der Strahl auf jeden gewünschten
Punkt auf der Bildebene 13 gerichtet werden und auf der
Ebene 13 jede Konturlinie abtasten kann. Ein mit Servo
motoren betriebenes Strahlablenksystem, das zur Ausfüh
rung des Verfahrens geeignet ist, wurde von Greyhawk
Systems Inc., Milpitas, California, entwickelt und wird
von dieser Firma vertrieben. Alternativ können die Spie
gel derart an Galvanometern montiert sein, daß durch
geeignete Wahl einer Zuführspannung zu jedem der beiden
Galvanometer der Strahl auch bei dieser Alternative auf
jeden gewünschten Punkt auf der Bildebene 13 gerichtet
werden und auf der Ebene 13 jede Konturlinie abtasten
kann.
Die Bildebene 13 befindet sich in einem Behälter 20, der
eine durch Strahlung härtbare Zusammensetzung 22 und
eine bewegbare Stützplattform 26 enthält. Die Plattform
26 ist in dem Behälter 20 relativ zu der Laserstrahlab
lenk- und Modulationsanordnung derart montiert, daß dem
Laserstrahl 12 auf der Bildebene 13 selektiv auf der
Bildebene 13 befindliche photoformbare Zusammensetzung
22 ausgesetzt wird. Eine Einrichtung 24 dient zum Anhe
ben oder Absenken der Plattform 26 als Reaktion auf ein
Steuersignal, das der Einrichtung 24 über die Leitung 25
zugeführt wird. Das Steuermodul 28 enthält eine geeigne
te Hebe- und Senk-Steuereinrichtung.
Das Steuermodul 28 kann einen Computer aufweisen, der in
geeigneter Weise programmiert ist, um den Laserstrahl zu
modulieren, ihn auf der Bildebene 13 auszurichten und
die Plattform anzuheben, um die photoformbare Zusammen
setzung auf die Bildebene 13 zu bringen. Zur Durchfüh
rung dieser Funktionen benötigt der Computer geeignete
Wandler; es handelt sich hierbei jedoch um bekannte
Technologie, die für die Erfindung nicht vorrangig wich
tig ist.
Ferner ist eine (in Fig. 1 nicht gezeigte) Beschich
tungseinrichtung vorgesehen, mit der auf der Plattform
26 (oder einem auf der Plattform befindlichen Objekt)
auf der Bildebene 13 eine Schicht aus photoformbarer
Zusammensetzung ausgebildet werden kann, die gleichför
mige Dicke und eine glatte Oberfläche aufweist. Auch
derartige Beschichtungseinrichtungen sind im Stand der
Technik bekannt und nicht Gegenstand der Erfindung.
US-5 006 364 und US-5 094 935 offenbaren photoformbare
Zusammensetzungen, die zur Erzeugung mehrschichtiger
Modelle mittels des Festkörperabbildungsverfahrens und
einer Anordnung, welche der in Fig. 1 schematisch ge
zeigten Anordnung entspricht, geeignet sind. Vorzugs
weise ist die photoformbare Zusammensetzung eine flüssi
ge Zusammensetzung mit
- a) 45 bis 55% eines difunktionalen acrylierten Poly urethanoligomers oder einer Mischung der Oligomere;
- b) 25 bis 40% eines Polyglycolesters oder einer Mi schung derartiger Ester gemäß der folgenden Formel: H2C=CH(CO)-O(CH2-CH2-O)4-(CO)HC=CH2
- c) 4 bis 6% eines Photoinitiatorsystems (oder einer Mischung eines Photoinitiatorsystems), das empfind lich ist für aktinische Strahlung, z. B. 2,2-Dime thoxy-2-phenylacetophenon; und
- d) 10 bis 20% eines polyfunktionalen reaktiven Ver dünnungsmittels, z. B. eines Acrylats, oder einer Mischung aus reaktiven Verdünnungsmitteln,
wobei die flüssige photoformbare Zusammensetzung eine
Viskosität von 300 bis 3000 CP bei 25°C aufweist.
Der Strahl 12 wird in dem Modulator 14 moduliert. Bei
der bevorzugten Ausführungsform wird der Strahl 12 auf
drei verschiedene Arten moduliert. Erstens wird der
Strahl 12 durch eine Impulskette mit variabler Wiederho
lingsrate submoduliert. Das Ausgeben der Impulse erfolgt
als eine Funktion der Winkelposition der an den Schritt
motoren montierten Strahlablenkspiegel und wird derart
berechnet, daß die Belichtung der photoformbaren Zusam
mensetzung, d. h. das Produkt der Strahlungsintensität
und der Aufbringungszeit der Strahlung an irgendeinem
Punkt entlang einer Abtastzeile auf der Abtastebene 13,
konstant ist. Dies wird erzielt, indem die Impulswie
derholungsrate derart gesteuert wird, daß die Verteilung
der Belichtungsimpulse auf der Bildebene 13, die als
Funktion des Abstandes vom Start zum Ende erfolgt, ent
lang einer Abtastzeile regelmäßig ist, wie Fig. 2
zeigt.
Indem der Strahl 12 auf diese Weise gesteuert wird,
erhält man über die gesamte Länge einer belichteten
Bildzeile eine konstante Belichtung. Da die Strahlab
lenkeinrichtung eine gewisse Masse aufweist, erfolgen
die Beschleunigung und Verlangsamung nicht augenblick
lich und beeinträchtigen die Belichtung, falls sie nicht
kompensiert werden. Dadurch ergibt sich bei Ausbleiben
einer Korrektur eine nicht gleichförmige Belichtung, da
im Vergleich zu dem gleichförmigen Zustand entlang einer
belichteten Bildzeile, der nach dem Abschluß der anfäng
lichen Beschleunigung des Ablenkspiegels und dem Errei
chen der Betriebs-Abtastgeschwindigkeit, erreicht wird,
die Abtastgeschwindigkeit des Strahls 12 beim Start
jeder Abtastung unterschiedlich ist. Das gleiche Problem
tritt am Ende einer Abtastzeile auf, wenn sich die Bewe
gung des Spiegels vor dem Stoppen verlangsamt.
Bei der bevorzugten Ausführungsform wird ein Kodierer,
der den an den Schrittmotoren montierten Spiegeln zu
geordnet ist, zum Steuern der Impulsrate des Submodula
tionssignals verwendet. Die Kodierer-Auflösung beträgt
1 Bogensekunde, und alle 2 Bogensekunden der Spiegel
drehung wird ein Signal erzeugt, das in der Lage ist,
den Strahl 12 in den Ein-Zustand zu submodulieren. Da
der Strahl 12 ein reflektierter Strahl ist, wird bei
einer Spiegeldrehung von 2 Bogensekunden der Strahl um
4 Bogensekunden gedreht. Der Abtastradius des Strahls 12
von dem Spiegel zur Bildebene 13 beträgt nominell 129,54
cm (51 Inch), und somit wird in den Abbildungsbereichen
ungefähr alle 0,00254 cm (0,001′′, d. h. ein mil) ein
Lichtimpuls erzeugt. Da der Durchmesser "D" des 1/e2-
Strahls in dem System ungefähr 137 µm (5,4 mil) beträgt,
existiert eine wesentliche Überlappung der im wesentli
chen in Gaußscher Weise submodulierten Belichtungen.
Diese Überlappung reicht aus, um eine belichtete Linie
derart zu erhärten, daß die Linie entlang ihrer Länge im
wesentlichen gleichförmige Dicke aufweist, wie in Fig.
2 in dem zweiten Schaubild gezeigt ist, das die Tiefe
des Aushärtens als Funktion des Oberflächenabstandes
zeigt.
Ein festes Objekt wird durch sequentielles Belichten
mehrerer aneinander angrenzender, einander überlappender
Schichten gebildet, die jeweils bildweise belichtet
wurden. Das bildweise Belichten jeder Schicht erfolgt
durch bildweises Belichten der photoformbaren Zusammen
setzung in der Bildebene. Dies erfolgt wiederum durch
bildweises Modulieren des Laserstrahls. Fig. 4 zeigt
die Modulationsspannungsamplitude "V" als Funktion der
Zeit "t" und stellt das bildweise Modulieren des Strahls
dar. Wie in Fig. 4 dargestellt, wird der submodulierte
Strahl durch Ein- und Ausschalten weiter moduliert, um
zwei Linien zu erzeugen, nämlich die Linie A-B (Strahl
"ein") und die Linie C-D (Strahl "aus"). US-5 014 207
erörtert diesen Dualmodulation-Belichtungsvorgang im
einzelnen.
Die Schichten werden erfindungsgemäß zweimal belichtet.
Vorzugsweise werden alle Schichten durch zweimaliges
Belichten jeder Schicht gebildet. Das erste Belichten
ist ein bildweises Belichten, wobei der submodulierte
Belichtungsstrahlungsstrahl durch Bildinformationen
weiter moduliert und mit einem vorgewählten Impulssignal
supermoduliert ist, um ein nicht kontinuierliches Bild
des Musters mit mehreren verankerten gehärteten Bildbe
reichen zu bilden, die durch Bildbereiche aus teilweise
gehärteter Zusammensetzung getrennt sind und einer Ab
folge von Strichen ähnlich sind. Bei der vorliegenden
Erfindung ist es nicht nur wesentlich, daß die Bildbe
reiche zwischen den gehärteten Bildbereichen teilweise
gehärtet sind, sondern auch, daß die gehärteten Bild
bereiche mit der darunter befindlichen, daran angrenzen
den Schicht verbunden sind, um einen "Floating-"Effekt
während nachfolgender Belichtungen zu vermeiden. Es hat
sich gezeigt, daß durch innere Spannungen während nach
folgender Bestrahlungen verursachte Verzerrungen in
solchen Schichten erheblich verringert werden, wenn die
gehärteten Bildbereiche durch diese erste Belichtung
verankert werden, und wenn diese gehärteten Bildberei
che, besonders in Überhangbereichen, in denen eine "Ver
ankerung" nicht erwünscht ist, durch teilweise gehärtete
Bildbereiche voneinander getrennt sind.
Nach Abschluß dieses ersten bildweisen Belichtens der
Schicht wird die Schicht einem zweiten bildweisen Be
lichten unterzogen, wobei wiederum eine bildweise modu
lierter, submodulierter Bestrahlungsstrahl verwendet
wird, jedoch ohne die Supermodulation, die bei der er
sten Belichtung die Striche erzeugte. Die zweite Belich
tung ist derart berechnet, daß sie ein gehärtetes durch
gehendes Bild erzeugt. Somit wird das Bild in jeder
Schicht in zwei Schritten erzeugt, zunächst als strich
weises Bild, sodann als festes Bild.
Dieses Verfahren wird im folgenden in Zusammenhang mit
den Fig. 4, 5, 6 und 7 näher erläutert. Das erste
Belichten einer Schicht erfolgt mit einem Strahl, der
mit einem Signal moduliert ist, wie in Fig. 5 darge
stellt. Dieses Signal ist das Ergebnis dreier verschie
dener Modulationen des Strahls. Zunächst erfolgt die
Submodulation des Strahls, die eine Abfolge kurzer Im
pulse P erzeugt. Diesen Impulsen wird ein Signal über
lagert, das die Bildinformation, d. h. eine durchgezogene
Linie A-B, gefolgt von einem unbelichteten Bereich B-C,
dem wiederum eine weitere Linie C-D folgt, repräsen
tiert. Submodulationsimpulse treten nur in den durch
gezogenen Linienabschnitten auf.
Eine zusätzliche Abfolge von Supermodulationsimpulsen,
e-f, g-h, i-j, etc., wird überlagert, wodurch ein Be
lichtungsstrahl entsteht, der die in Fig. 5 dargestell
ten Gruppen S1, S2, S3, S4, S5 und S6 von Submodula
tionsimpulsen P aufweist. Das Ziel der Belichtung der
härtbaren Zusammensetzung mit diesen Strahlengruppen ist
es, in der belichteten Schicht in der Bildebene eine
Reihe von nicht miteinander verbundenen gehärteten Be
reichen oder Inseln 32 zu erzeugen, die strichförmig
entlang der Belichtungszeile 30 verlaufen und durch
Bereiche 34 teilweise gehärteter Zusammensetzung vonein
ander getrennt sind, wie in den Fig. 6 und 8 darge
stellt. In Fig. 8 sind die gehärteten Inseln 32 mit
gleichmäßiger Schattierung schattiert dargestellt. Der
Grad des Aushärtens ist jedoch in den Inseln nicht
gleichmäßig und es besteht, aufgrund der Gaußschen Form
des Belichtungsstrahls, in der Nähe der Ränder der In
seln ein Abfall des Belichtungsgrades, der in der Zeich
nung nicht dargestellt ist. Die Frequenz der Impulsgrup
pen muß derart berechnet sein, daß sichergestellt ist,
daß kein gehärtetes Material den Zwischenraum zwischen
den Strichen überbrückt, wobei die Bereiche 34 zwischen
den Strichen höchstens teilweise gehärtete Zusammenset
zung enthalten.
Vorzugsweise wird der Belichtungsgrad derart gewählt,
daß das belichtete Material, wie in Fig. 6 dargestellt,
um die Tiefe "d" über die Tiefe der Schicht hinaus ge
härtet wird, um das Verankern der Inseln in der unteren
Schicht zu bewirken. Die Größe von "d" ist nicht ent
scheidend, und eine Belichtung, die das Material bis in
eine die Dicke der Schicht übersteigende Tiefe härtet,
reicht in jedem Falle aus. Das zuvor erwähnte US-Patent
5 014 207 lehrt das Berechnen der Tiefe des Lichthärtens
als Funktion der Strahlintensität.
Im Anschluß an dieses erste Belichten erfolgt ein zwei
tes Belichten der selben Schicht mit den selben Abbil
dungsinformationen. Die Strahlintensität ist wie in
Fig. 4 gezeigt moduliert, was zu einer Gruppe von sub
modulierten Impulsen für die gesamte Länge sämtlicher
durchgezogener Linien A-B, C-D, etc., führt. Das Ziel
dieser zweiten Belichtung ist es, samtliche belichteten
Bereiche vollständig zu härten, wobei die Bereiche zwi
schen den zuvor gebildeten nicht zusammenhängenden In
seln oder Strichen überbrückt werden, wie in den Fig.
7 und 9 dargestellt. Fig. 9 zeigt eine Draufsicht auf
das Ergebnis dieses zweiten Belichtens, bei dem sämtli
ches Material entlang der Abtastzeilen 36 gehärtet ist.
Wie dargestellt, umfaßt der gehärtete Bereich die Inseln
32 und die Zwischenräume 34.
Fig. 10 zeigt eine geringfügige Variation dieses Ver
fahrens, bei der die Positionen der Inseln 32 in benach
barten Abtastzeilen 30 versetzt sind, so daß die Inseln
32 und 32′ nicht genau nebeneinanderliegen.
Es hat sich gezeigt, daß bei einigen Polymeren das
Schrumpfen über mehr als eine Minute nach dem Belichten
fortdauern kann. Wenn eine solche Verzögerung festge
stellt wird, kann das zweite Belichten, d. h. das Belich
ten mit dem modulierten Strahl, nach dem Belichten mit
dem supermodulierten Strahl um eine Zeitspanne verzögert
werden, die das Auftreten des Schrumpfens des Polymers
nach dem Belichten erlaubt.
Nach dem Abschluß der beiden bildweisen Belichtungsvor
gänge wird auf die belichtete Schicht eine neue Schicht
unbelichteten Materials aufgetragen und der Vorgang für
diese neue Schicht wiederholt, und so weiter, bis ein
dreidimensionales Objekt unter Verwendung mehrerer an
einander angrenzender Bildschichten erstellt ist, wobei
jede Bildschicht einen Querschnitt des Objekts repräsen
tiert.
Das Objekt wird aus dem Behälter entnommen, das nicht
belichtete Material wird von dem Objekt entfernt und,
falls erwünscht, wird das Objekt durch Belichten mit
härtender Flutbestrahlung weiter gehärtet.
Um die Gesamtbelichtungszeit zu verkürzen, kann der
Abtastzeilenabstand für die ersten Belichtungsabtastun
gen von demjenigen der zweiten verschieden, d. h. größer,
sein, wodurch die selbe Fläche mit weniger Abtastungen
abgearbeitet wird. Bei der ersten Abtastung kann der
Abtastzeilenabstand ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch)
betragen, während er bei der zweiten Abtastung ungefähr
0,005 cm (0,002 Inch) betragen kann, was zu einer
gleichmäßigen Härtung der Bildbereiche führt.
In einem Beispiel, bei dem eine flüssige photoformbare
Zusammensetzung wie die zuvor beschriebene verwendet
wird, und bei dem während dem ersten supermodulierten
Belichten die Dicke jeder Schicht mit einer Dicke von
ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch) gewählt ist, beträgt die
Länge des Submodulationsimpulses "P" 1,56 Sekunden. Ein
kohärenter Argon-Ion-Laser vom Modell 326, der einen
Strahl mit Strahlung im UV-Bereich mit Primärlinien von
351,1 nm und 363,8 nm erzeugt, wird als Belichtungsquel
le zum Erzeugen eines Abbildungsstrahls mit im wesentli
chen rundem Querschnitt verwendet, der einen kreisförmi
gen Punkt mit einer Gaußschen Leistungsverteilung in der
Bildebene erzeugt. Die Leistung des Strahls in der Bild
ebene beträgt 225 mW und der Radius des 1/e2-Punkts
beträgt 0,00685 cm. Die Länge der Strich-Belichtung (e
f, g-h, i-k, etc.) ist mit ungefähr 0,01016 cm (0,004
Inch) gewählt, der Abstand zwischen den Strich-Belich
tungen (f-g, h-i, j-k, etc.) beträgt ungefähr 0,005 cm
(0,002 Inch) und der Strichabtastabstand (der Abstand
von der Mitte zur Mitte zwischen benachbarten Strahl
durchläufen) beträgt ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch).
Bei einem Abtastabstand von ungefähr 0,005 cm (0,002
Inch) und lediglich der submodulierten Belichtung, hat
dieses Material eine das Verhältnis der Polymerisations
tiefe zur Belichtung wiedergebende polynomische Kurve,
die annähernd wie folgt lautet:
Tiefe (cm) = A·B·E + C·(E)2
wobei
A = -0,00314
B = 0,004243
C = 0,001325 und
E = Belichtungsgrad in (mJ/cm2) ist.
A = -0,00314
B = 0,004243
C = 0,001325 und
E = Belichtungsgrad in (mJ/cm2) ist.
Durch Addieren der benachbarten Belichtungen um jeden
Punkt im Bildbereich in einem Radius von 0,0127 cm
(0,005 Inch) läßt sich die maximale Belichtung (in der
Mitte des Strichs) mit ungefähr 13,68 mJ/cm2 berechnen.
Die Verankerung oder die Verbindungstiefe jedes Strichs
beträgt daher ungefähr 0,004318 cm (0,0017 Inch). Der
Abstand zwischen den Strichen ist derart gewählt, daß
keine Verbindung aus gehärtetem Material, sondern le
diglich nicht gehärtetes oder teilweise gehärtetes Mate
rial zwischen den Strichen existiert.
Diesem ersten Belichten folgt ein zweites Belichten.
Beim zweiten Belichten tastet der Strahlpunkt auf der
Bildebene mit einem Zeilenabstand von ungefähr 0,0058 cm
(2 mil) ab. Die Submodulationsimpulslänge beträgt 0,88
Sekunden. Die Laserleistung und die Laserpunktgröße
bleiben unverändert. Durch Summieren der Belichtung der
ersten strichbildenden Abtastung und der zweiten nicht
strichbildenden Abtastung um einen Punkt, unter Berück
sichtigung der Belichtungsbeiträge von Punkten innerhalb
eines Radius von ungefähr 0,0127 cm (5 mil), beträgt die
maximale Belichtung 29,04 mJ/cm2, die minimale Belich
tung 18,62 mJ/cm2 und die durchschnittliche Belichtung
11,71 mJ/cm2. Die sich daraus ergebende maximale gehär
tete Dicke beträgt 0,0245 cm (0,010 Inch), die minimale
gehärtete Dicke beträgt 0,02032 cm (0,008 Inch) und die
durchschnittliche gehärtete Dicke beträgt 0,02286 cm
(0,009 Inch). Da die nominelle Dicke der aufgetragenen
Schicht ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch) beträgt, wurde
das Material über seine gesamte Dicke gehärtet.
Bei den zuvor genannten Beispielen und in der vorherge
henden Erörterung wurde die Erfindung in einem Zusammen
hang beschrieben, in dem jeweils nur ein einzelnes Ob
jekt mittels der Belichtungsvorrichtung hergestellt
wurde. In der industriellen Praxis werden jedoch oftmals
mehrere Objekte nebeneinander auf der Plattform in dem
Behälter unter Verwendung unterschiedlicher Abbildungs
informationen und manchmal unterschiedlicher Abtastab
stände für jedes Objekt hergestellt. Es ist ebenfalls
möglich, mehrere Objekte unter Verwendung unterschiedli
cher Schichtdicken für jedes Objekt gleichzeitig herzu
stellen. Die vorliegende Erfindung ist in allen genann
ten Fällen anwendbar und zur Durchführung der Erfindung
wird jedes Objekt als von den anderen Objekten unabhän
gig angesehen, wobei jedes Objekt den beiden Belich
tungsvorgängen gemäß den Lehren der Erfindung ausgesetzt
wird.
Ein als Beispiel dienendes Software-Ausführungsbeispiel
ist im Anhang A der Beschreibung enthalten. Das Softwa
reprogramm ist zur Verwendung in einem Computer 28 oder
einem ähnlichen Signalprozessor in UNIX-Shell geschrie
ben, um die erste und die zweite Belichtung sowie das
Supermodulationssignal zu erzeugen.
Der durch den supermodulierten Strahl erhaltene Effekt
wurde im vorhergehenden in Zusammenhang mit der Supermo
dulation des Strahls unter Verwendung von Strahleninten
sitäts (Amplituden-)modulation beschrieben. Der Supermo
dulationseffekt kann jedoch auch durch Konstanthalten
der Strahlintensität und Variieren der Abtastgeschwin
digkeit des Strahls auf der Bildebene erreicht werden.
Dies kann beispielweise dadurch erreicht werden, daß dem
Abtastspiegeltreibersystem ein Signal vom Sinuswellentyp
derart überlagert wird, daß der Strahl bei der Bewegung
entlang der Abtastzeile oszilliert. Dieses Oszillieren
führt dazu, daß Bereiche der Abtastzeile länger belich
tet werden, während andere kürzer belichtet werden.
Durch Auswählen der geeigneten Oszillationsfrequenz
können die längeren und die kürzeren Belichtungen derart
berechnet werden, daß über bzw. unter einem Belichtungs
schwellenwert des verwendeten photoformbaren Materials
liegen, was zu gehärteten und nicht gehärteten Flächen
entlang der Abtastzeile führt.
Das zuvor beschriebene System ist im wesentlichen die
digitale Implementierung des erfindungsgemäßen Verfah
rens. Jedoch können die gleichen ersten und zweiten
Belichtungen ohne Schwierigkeiten in einer analogen
Umgebung durchgeführt werden. Der Fachmann auf diesem
Gebiet kann in Kenntnis der Lehren der Erfindung zahl
reiche Veränderungen daran vornehmen. Zum Beispiel kann
die Submodulationsbelichtung entfallen und lediglich ein
Strahl mit konstanter Intensität verwendet werden, der
nur mit der bildweisen Modulation und den Supermodula
tionssignalen gemäß der Erfindung moduliert ist. Mit den
beiden offenbarten Vorgängen zum bildweisen Belichten
können ebenfalls ausgewählte Schichten, die das feste
Objekt aufweisen, belichtet werden, anstatt jede der
Schichten zu belichten.
Claims (12)
1. Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen
Objekts aus mehreren Querschnittsteilen des Objekts, die
gehärteten Bereichen aneinander angrenzender Schichten
einer photoformbaren Zusammensetzung entsprechen, welche
durch sequentielles bildweises Belichten der Schichten
gebildet sind, wobei jede Schicht entsprechend einem
vorbestimmten Muster, das den gewünschten Querschnitts
teil des Objekts repräsentiert, belichtet wird, mit den
folgenden Schritten:
- 1) bildweises Belichten wenigstens einer Schicht nach dem vorbestimmten Muster für diese Schicht unter Ver wendung einer Belichtungsquelle, die supermoduliert ist, um ein nicht kontinuierliches Bild des Musters zu erzeu gen, das diskrete, verankerte, gehärtete Bildbereiche aufweist, die durch Bildbereiche aus teilweise gehärte ter photoformbarer Zusammensetzung voneinander getrennt sind; und
- 2) Wiederholen des bildweisen Belichtens der einen Schicht nach dem selben vorbestimmten Muster für die eine Schicht unter Verwendung der Belichtungsquelle, die zur Erzeugung eines kontinuierlichen gehärteten Bildes dieses Musters auf der einen Schicht moduliert ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Belichtungsquelle einen submodulierten Abtastla
serstrahl liefert, der auf die Schicht auftrifft, und
daß die Modulation und die Supermodulation der Belich
tungsquelle erreicht werden, indem die Intensität des
auf die Schicht auftreffenden Strahls in vorbestimmten
Zeitintervallen selektiv von einem Zustand "Ein" in
einen Zustand "Aus" gewechselt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Belichtungsquelle einen submodulierten Abtastla
serstrahl liefert, der auf die Schicht auftrifft und in
eine Abtastrichtung bewegt wird, und daß die Supermodu
lation der Belichtungsquelle erfolgt, indem die Abtast
geschwindigkeit des Strahls auf der Schicht in der Ab
tastrichtung mit einer vorbestimmten Rate variiert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet
durch das Wiederholen der Schritte (1) und (2) mit einer
vorgewählten Häufigkeit, um mehrere Schichten nach den
entsprechenden vorbestimmten Mustern zu belichten.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet
durch das Wiederholen der Schritte (1) und (2) mit einer
vorgewählten Häufigkeit, um mehrere aneinander angren
zende Schichten nach den entsprechenden vorbestimmten
Mustern zu belichten.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch ge
kennzeichnet, daß die diskreten gehärteten Bildbereiche
punktförmig sind.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch ge
kennzeichnet, daß die diskreten gehärteten Bildbereiche
strichförmig sind.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-7, dadurch ge
kennzeichnet, daß die erste supermodulierte Belichtung
der Schicht seitlich versetzte gehärtete Bereiche auf
der einen Schicht erzeugt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-8, dadurch ge
kennzeichnet, daß die photoformbare Zusammensetzung ein
Polymer ist.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß das Polymer eine Flüssigkeit ist.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen den Schritten (1) und (2) eine zeitliche
Verzögerung besteht.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die photoformbare Zusammensetzung nach dem Belichten
eine kontinuierliche Schrumpfung zeigt, und daß die
zeitliche Verzögerung zwischen den Schritten (1) und (2)
ausreicht, um das Schrumpfen der belichteten Zusammen
setzung im wesentlichen zum Abschluß kommen zu
lassen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/046,070 US5429908A (en) | 1993-04-12 | 1993-04-12 | Exposure method for reducing distortion in models produced through solid imaging by forming a non-continuous image of a pattern which is then imaged to form a continuous hardened image of the pattern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4412160A1 true DE4412160A1 (de) | 1994-10-13 |
Family
ID=21941432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4412160A Withdrawn DE4412160A1 (de) | 1993-04-12 | 1994-04-12 | Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5429908A (de) |
JP (2) | JP3449779B2 (de) |
KR (1) | KR0127835B1 (de) |
DE (1) | DE4412160A1 (de) |
TW (1) | TW253866B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19606128A1 (de) * | 1996-02-20 | 1997-08-21 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes |
WO2008145316A2 (de) | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5968714A (en) * | 1996-03-14 | 1999-10-19 | Agfa-Gevaert | Sensitivity-increasing recording process for a photosensitive thermally developable photographic material |
US5804355A (en) * | 1996-03-14 | 1998-09-08 | Agfa-Gevaert N.V. | Producing a contone image by sequentially exposing a thermo-sensitive imaging material by means of a set of radiation beams |
WO1998021925A2 (en) * | 1996-11-04 | 1998-05-28 | Lamberts Robert L | Method for making a sinusoidal test object |
US5840239A (en) * | 1997-01-31 | 1998-11-24 | 3D Systems, Inc. | Apparatus and method for forming three-dimensional objects in stereolithography utilizing a laser exposure system having a diode pumped frequency quadrupled solid state laser |
US6051179A (en) * | 1997-03-19 | 2000-04-18 | Replicator Systems, Inc. | Apparatus and method for production of three-dimensional models by spatial light modulator |
US6001297A (en) * | 1997-04-28 | 1999-12-14 | 3D Systems, Inc. | Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography |
US6399010B1 (en) * | 1999-02-08 | 2002-06-04 | 3D Systems, Inc. | Method and apparatus for stereolithographically forming three dimensional objects with reduced distortion |
US6129884A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-10 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application |
CA2388046A1 (en) | 1999-11-05 | 2001-05-17 | Z Corporation | Material systems and methods of three-dimensional printing |
JP3687475B2 (ja) * | 2000-03-28 | 2005-08-24 | 松下電工株式会社 | 立体形状物体の造形方法 |
JP4739507B2 (ja) * | 2000-11-29 | 2011-08-03 | 株式会社アスペクト | 3次元造形装置 |
US6699424B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-03-02 | 3D Systems, Inc. | Method for forming three-dimensional objects |
JP4230485B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2009-02-25 | 株式会社棚澤八光社 | 表面に凸模様を有する製品及び該凸模様を形成する方法 |
US7467939B2 (en) * | 2006-05-03 | 2008-12-23 | 3D Systems, Inc. | Material delivery tension and tracking system for use in solid imaging |
US7931460B2 (en) * | 2006-05-03 | 2011-04-26 | 3D Systems, Inc. | Material delivery system for use in solid imaging |
JP5189598B2 (ja) | 2006-12-08 | 2013-04-24 | スリーディー システムズ インコーポレーテッド | 過酸化物硬化を用いた三次元印刷材料系および方法 |
JP5129267B2 (ja) | 2007-01-10 | 2013-01-30 | スリーディー システムズ インコーポレーテッド | 改良された色、物品性能及び使用の容易さ、を持つ3次元印刷材料システム |
US7731887B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-06-08 | 3D Systems, Inc. | Method for removing excess uncured build material in solid imaging |
US20080170112A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-17 | Hull Charles W | Build pad, solid image build, and method for building build supports |
US7614866B2 (en) * | 2007-01-17 | 2009-11-10 | 3D Systems, Inc. | Solid imaging apparatus and method |
US20080181977A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Sperry Charles R | Brush assembly for removal of excess uncured build material |
US20080226346A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-09-18 | 3D Systems, Inc. | Inkjet Solid Imaging System and Method for Solid Imaging |
US7771183B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-08-10 | 3D Systems, Inc. | Solid imaging system with removal of excess uncured build material |
US8221671B2 (en) * | 2007-01-17 | 2012-07-17 | 3D Systems, Inc. | Imager and method for consistent repeatable alignment in a solid imaging apparatus |
US7706910B2 (en) * | 2007-01-17 | 2010-04-27 | 3D Systems, Inc. | Imager assembly and method for solid imaging |
US8003039B2 (en) * | 2007-01-17 | 2011-08-23 | 3D Systems, Inc. | Method for tilting solid image build platform for reducing air entrainment and for build release |
US8105066B2 (en) * | 2007-01-17 | 2012-01-31 | 3D Systems, Inc. | Cartridge for solid imaging apparatus and method |
US7968626B2 (en) | 2007-02-22 | 2011-06-28 | Z Corporation | Three dimensional printing material system and method using plasticizer-assisted sintering |
JP5293993B2 (ja) * | 2008-01-09 | 2013-09-18 | ソニー株式会社 | 光造形装置および光造形方法 |
GB2458484B (en) * | 2008-03-19 | 2011-12-28 | Ds Smith Plastics Ltd | A dolly |
US9895842B2 (en) | 2008-05-20 | 2018-02-20 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Selective sintering of structurally modified polymers |
EP2547530B1 (de) * | 2010-03-18 | 2015-10-21 | Koninklijke Philips N.V. | Drucker und verfahren zur steuerung eines druckers |
GB201016169D0 (en) * | 2010-09-27 | 2010-11-10 | Materialise Nv | Method for reducing differential shrinkage in stereolithography |
KR101648442B1 (ko) * | 2012-03-09 | 2016-08-16 | 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 | 3차원 형상 조형물의 제조 방법 |
US9034237B2 (en) | 2012-09-25 | 2015-05-19 | 3D Systems, Inc. | Solid imaging systems, components thereof, and methods of solid imaging |
JP2018087956A (ja) * | 2016-04-26 | 2018-06-07 | Jsr株式会社 | 着色硬化膜の製造方法及びカラーフィルタの画素パターンの形成方法 |
CN108327253B (zh) * | 2017-01-19 | 2021-08-06 | 上海普利生机电科技有限公司 | 光固化型三维打印方法和设备 |
US10583647B2 (en) | 2017-05-17 | 2020-03-10 | Ford Motor Company | Method of controlling warping in 3D printing |
JP7136815B2 (ja) * | 2017-06-30 | 2022-09-13 | 株式会社ニコン | 重合された材料で作られる物品を製造する方法 |
CN107471633B (zh) * | 2017-09-24 | 2019-05-21 | 内蒙古机电职业技术学院 | 一种光敏树脂3d打印装置 |
US10518356B2 (en) | 2018-02-05 | 2019-12-31 | General Electric Company | Methods and apparatus for generating additive manufacturing scan paths using thermal and strain modeling |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2567668B1 (fr) * | 1984-07-16 | 1987-10-16 | Cilas Alcatel | Dispositif pour realiser un modele de piece industrielle |
US4575330A (en) * | 1984-08-08 | 1986-03-11 | Uvp, Inc. | Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
JPS61145016A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-02 | Iseki & Co Ltd | 果実選別供給装置 |
US4770480A (en) * | 1986-05-12 | 1988-09-13 | Spectra-Physics, Inc. | Apparatus and method for providing multiple reference laser beams |
DE3750709T2 (de) * | 1986-06-03 | 1995-03-16 | Cubital Ltd | Gerät zur Entwicklung dreidimensionaler Modelle. |
US4752498A (en) * | 1987-03-02 | 1988-06-21 | Fudim Efrem V | Method and apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification |
JPS63232026A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Mazda Motor Corp | 4輪駆動車の差動装置 |
IL109511A (en) * | 1987-12-23 | 1996-10-16 | Cubital Ltd | Three-dimensional modelling apparatus |
US4945032A (en) * | 1988-03-31 | 1990-07-31 | Desoto, Inc. | Stereolithography using repeated exposures to increase strength and reduce distortion |
EP0747203B1 (de) * | 1988-04-18 | 2001-06-27 | 3D Systems, Inc. | Verringerung des stereolithographischen Verbiegens |
US5182055A (en) * | 1988-04-18 | 1993-01-26 | 3D Systems, Inc. | Method of making a three-dimensional object by stereolithography |
JP2676838B2 (ja) * | 1988-10-24 | 1997-11-17 | ソニー株式会社 | 立体像形成方法 |
JP2715527B2 (ja) * | 1989-03-14 | 1998-02-18 | ソニー株式会社 | 立体形状形成方法 |
US5002855A (en) * | 1989-04-21 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging method using multiphasic photohardenable compositions |
US5051334A (en) * | 1989-04-21 | 1991-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging method using photohardenable compositions containing hollow spheres |
US5014207A (en) * | 1989-04-21 | 1991-05-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging system |
US5006364A (en) * | 1989-08-24 | 1991-04-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging method utilizing compositions comprising thermally coalescible materials |
US5094935A (en) * | 1990-06-26 | 1992-03-10 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Method and apparatus for fabricating three dimensional objects from photoformed precursor sheets |
-
1993
- 1993-04-12 US US08/046,070 patent/US5429908A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-03-16 TW TW083102267A patent/TW253866B/zh active
- 1994-03-28 KR KR1019940006246A patent/KR0127835B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-04-12 DE DE4412160A patent/DE4412160A1/de not_active Withdrawn
- 1994-04-12 JP JP07301794A patent/JP3449779B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-05-22 JP JP2003144841A patent/JP3585913B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19606128A1 (de) * | 1996-02-20 | 1997-08-21 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes |
US5904890A (en) * | 1996-02-20 | 1999-05-18 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Apparatus and method for producing three-dimensional objects |
WO2008145316A2 (de) | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts |
WO2008145316A3 (de) * | 2007-05-25 | 2009-01-22 | Eos Electro Optical Syst | Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts |
RU2469851C2 (ru) * | 2007-05-25 | 2012-12-20 | Эос Гмбх Электро Оптикал Системз | Способ послойного производства трехмерного объекта |
CN101932429B (zh) * | 2007-05-25 | 2014-07-09 | Eos有限公司电镀光纤系统 | 分层制造三维物体的方法 |
US9011982B2 (en) | 2007-05-25 | 2015-04-21 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Method for a layer-wise manufacturing of a three-dimensional object |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW253866B (de) | 1995-08-11 |
JP3449779B2 (ja) | 2003-09-22 |
JP3585913B2 (ja) | 2004-11-10 |
JPH06297585A (ja) | 1994-10-25 |
US5429908A (en) | 1995-07-04 |
JP2003305776A (ja) | 2003-10-28 |
KR0127835B1 (ko) | 1997-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4412160A1 (de) | Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen | |
EP1849586B1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mittels Maskenbelichtung | |
EP3970900B1 (de) | Verfahren zum erzeugen einer 3d-struktur mittels laserlithographie mit geänderter belichtdosis an randabschnitten, sowie entsprechendes computerprogrammprodukt | |
EP0617657B1 (de) | Verfahren zum herstellen von dreidimensionalen objekten | |
DE2719275C2 (de) | ||
EP1993812B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines dreidimensionalen objekts | |
DE2628099C2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Maske | |
EP0690780B1 (de) | Verfahren zum herstellen eines dredidimensionalen objekts | |
DE60120905T2 (de) | Optisches System mit elektronischer Punktgrössensteuerung und Fokussierungskontrolle | |
EP0467076B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Mikrostrukturen auf einem lichtempfindlich beschichteten Substrat durch fokussierte Laserstrahlung | |
DE19929199A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes | |
DE60020895T2 (de) | Stereolithografische Verfahren und Vorrichtung mit Kontrolle der vorgeschriebenen Anregung | |
WO2016142398A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur korrektur einer inhomogenen intensitätsverteilung eines von einer strahlungsquelle erzeugten strahlungsfeldes | |
EP0743128A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Kennzeichnung von Erzeugnissen aus transparenten (festen) Werkstoffen mittels Laser | |
EP0517227A1 (de) | Verfahren zum Speichern von Information in einem optisch lesbaren Datenspeicher | |
EP1746462A2 (de) | Verfahren zur Belichtung von Flexodruckplatten | |
DE69727101T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer optischen Platte | |
WO1997048022A1 (de) | Verfahren zur herstellung von eine räumlich gemusterte oberfläche aufweisenden druck- oder prägezylindern | |
DE19605062C1 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines langen Bragg-Gitters in einer optischen Monomodefaser | |
DE4219809A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Abtragen einer Oberfläche | |
WO1995004647A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von dreidimensionalen objekten | |
EP4359188A1 (de) | VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM REINIGEN VON MINDESTENS EINEM FORMSEGMENT EINER REIFENFORM MITTELS Laserstrahlung | |
WO2021198835A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur lithographiebasierten generativen fertigung eines dreidimensionalen bauteils | |
DE2405880A1 (de) | Verbundplatte | |
DE2038874A1 (de) | Verfahren zum Aufzeichnen und Auslesen von Informationen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8130 | Withdrawal |