DE4412160A1 - Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen - Google Patents

Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen

Info

Publication number
DE4412160A1
DE4412160A1 DE4412160A DE4412160A DE4412160A1 DE 4412160 A1 DE4412160 A1 DE 4412160A1 DE 4412160 A DE4412160 A DE 4412160A DE 4412160 A DE4412160 A DE 4412160A DE 4412160 A1 DE4412160 A1 DE 4412160A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
exposure
layer
image
hardened
modulated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE4412160A
Other languages
English (en)
Inventor
Bronson Robert Hokuf
John Alan Lawton
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of DE4412160A1 publication Critical patent/DE4412160A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B29C64/135Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/171Processes of additive manufacturing specially adapted for manufacturing multiple 3D objects
    • B29C64/182Processes of additive manufacturing specially adapted for manufacturing multiple 3D objects in parallel batches
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00Processes of additive manufacturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y30/00Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrich­ tung zur Bildung dreidimensionaler Modelle und insbeson­ dere ein Verfahren zum Steuern der Belichtung photoform­ barer Schichten, das Modelle erzeugt, bei denen die durch innere Spannungen verursachten Verzerrungen redu­ ziert sind.
Es existieren zahlreiche Systeme für dreidimensionale (körperliche) Modellerzeugung durch Photoformung. EP-A- 250 121 offenbart eine Vorrichtung zur Bildung dreidi­ mensionaler Modelle, bei der eine härtbare Flüssigkeit verwendet wird, und enthält einen Überblick über Ver­ öffentlichungen auf diesem Gebiet. US-4 575 330 offen­ bart ein System zur Bildung dreidimensionaler Gegenstän­ de durch Erzeugung eines Querschnittsmusters des zu bildenden Objektes an einer gewählten Oberfläche eines Fluidmediums, welches in der Lage ist, seinen physikali­ schen Zustand als Reaktion auf eine geeignete Stimulie­ rung, z. B. durch auftreffende Strahlung, Partikelbeschuß oder chemische Reaktion, zu ändern. Aufeinanderfolgende, aneinander anhaftende Schichten, die entsprechende auf­ einanderfolgende Querschnitte des Objektes repräsentie­ ren, werden derart erzeugt, daß sie ein dreidimensio­ nales Objekt bilden. US-4 752 498 offenbart ein verbes­ sertes Verfahren zum Erzeugen dreidimensionaler Gegen­ stände, bei dem ein ungehärtetes Photopolymer bestrahlt bzw. belichtet wird, indem eine ausreichende Menge einer Photopolymerverfestigungsstrahlung durch ein strahlungs­ durchlässiges Material geschickt wird, das sich in Kon­ takt mit dem ungehärteten Photopolymer befindet. Das durchlässige Material ist derart beschaffen, daß es die bestrahlte Fläche in einem Zustand beläßt, in dem diese zu einer weiteren Vernetzung imstande ist, so daß eine anschließend gebildete Schicht an der Fläche anhaftet.
Beim Erzeugen eines dreidimensionalen Objektes mittels aufeinanderfolgender Schichten, die zur Bildung aufein­ anderfolgender Querschnitte des Objektes einer bildweise modulierten Aushärtstrahlung ausgesetzt werden, muß gewährleistet sein, daß jede Schicht den gewünschten Querschnitt des Objektes präzise wiedergibt, um ein dreidimensionales Objekt zu erzeugen, der eine exakte Wiedergabe des gewünschten Objektes ist. Deshalb ist es wichtig, daß keine Verzerrung in die Erzeugung irgend­ einer Schicht eingebracht wird, da eine solche Verzer­ rung ein verzerrtes Objekt erzeugen würde. Nachteili­ gerweise treten in den einzelnen Schichten tatsächlich Verzerrungen auf, da sich die photoformbare Zusammen­ setzung während des Bestrahlungsvorgangs von einem im wesentlichen frei fließenden Zustand in einen im wesent­ lichen gehärteten festen Aggregatzustand verändert, und zwar aufgrund von Spannungen in den Schichten. Man nimmt an, daß derartige Spannungen das Ergebnis beträchtlicher Kräfte sind, die durch die Molekularschrumpfung erzeugt werden, welche aufgrund des zur Aushärtung vorgesehenen Bestrahlungsvorgangs erfolgt. Zur Lösung dieses Problems sind zahlreiche Vorschläge gemacht worden.
Gemäß einem Lösungsvorschlag werden die Schichten einem WEAVE-Muster ausgesetzt; dieser Vorschlag ist beschrie­ ben in: Rapid Phototyping & Manufacturing, 1. Ausgabe, von Paul F. Jacobs, veröffentlicht von The Society of Manufacturing Engineers, Dearborn, Michigan, Kapitel 8, "Advanced Part Building", S. 195-219. US-4 945 032 of­ fenbart ein Verfahren zur Reduzierung von Verzerrung, bei dem die Belichtung einer Schicht gestoppt und dann mindestens einmal wiederholt wird. Gemäß JP-A-63(1988)- 172 685 werden ebenfalls zwei Belichtungen verwendet, und zwar eine erste, bildweise Belichtung, nach der in den belichteten Bereichen das Harz nur partiell gehärtet ist, und - nachdem das Modell vervollständigt ist - eine zweite Belichtung, bei der es sich um eine Gesamt­ belichtung handelt, mittels derer das teilweise gehärte­ te Harz vollständig gehärtet und somit ein festes Modell erzeugt wird. Obwohl durch diese Verfahren die Verzer­ rung reduziert wird, besteht weiterhin Bedarf an einem Verfahren, das in der Lage ist, einen verzerrungsfreien Festkörper zu erzeugen und bei dem der resultierende Körper nur eine sehr geringe Menge an eingeschlossenem ungehärtetem Material enthält und größtmögliche Festig­ keit aufweist.
Zur Lösung der Aufgabe wird ein Belichtungsverfahren nach Anspruch 1 vorgeschlagen.
Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung ist vorgesehen, daß die in Schritt (1) erfolgende bildweise Belichtung derart durchgeführt wird, daß strichförmige gehärtete Bereiche erzeugt werden und die strichförmigen Bereiche entlang einer Bildlinie relativ zu den strichförmigen Bereichen in benachbarten Bildlinien seitlich verschoben werden. Bei der Lichtquelle handelt es sich vorzugsweise um einen Abtastlaserstrahl, der zur Steuerung der Be­ lichtung der photoformbaren Zusammensetzung durch ein Impulssignal submoduliert wird; sowohl die Modulation als auch die Supermodulation des Strahls für die beiden Belichtungen werden begleitet von einer selektiven Ver­ änderung der Intensität des auf die eine Schicht auf­ treffenden Strahls von einem "Ein"-Zustand zu einem "Aus"-Zustand in vorbestimmten Zeitintervallen. Beim Erzeugen eines Festkörpermodells werden die Schritte (1) und (2) in einer vorbestimmten Häufigkeit wiederholt, um mehreren Schichten einer den vorbestimmten Mustern ent­ sprechenden Belichtung auszusetzen.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher er­ läutert.
Es zeigen
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens;
Fig. 2 ein Schaubild eines einem Strahlmodulator zu­ geführten Steuersignals zur Submodulation eines Belichtungsstrahls, und der resultierenden Er­ härtung einer dem submodulierten Strahl ausge­ setzten photoformbaren Zusammensetzung, bei konstanter Abtastgeschwindigkeit;
Fig. 3 ein Schaubild des Strahlintensitätsprofils auf der Zielebene;
Fig. 4 ein Schaubild eines dem Strahlmodulator zuge­ führten Steuersignals zur bildweisen Modulierung eines Belichtungsstrahls;
Fig. 5 ein Schaubild eines dem Strahlmodulator zuge­ führten Steuersignals zum Supermodulieren eines Belichtungsstrahls, das bei der ersten bildwei­ sen Belichtung einer photoformbaren Zusammen­ setzung verwendet wird;
Fig. 6 einen schematischen Querschnitt des Ergebnisses der ersten bildweisen Belichtung einer photo­ formbaren Schicht unter Verwendung des Steuersi­ gnals gemäß Fig. 5;
Fig. 7 einen schematischen Querschnitt des Ergebnisses der zweiten bildweisen Belichtung einer photo­ formbaren Schicht unter Verwendung des Steuersi­ gnals gemäß Fig. 4;
Fig. 8 eine schematische Draufsicht auf einen belichte­ ten Bildbereich auf einer Schicht, wobei die nach der ersten bildweisen Belichtung gebildeten Inseln gezeigt sind;
Fig. 9 eine schematische Draufsicht auf den Bereich gemäß Fig. 8, wobei die nach der zweiten bild­ weisen Belichtung gebildeten Inseln gezeigt sind;
Fig. 10 eine schematische Draufsicht der Relativpositio­ nen der Inseln, die gemäß einer alternativen Ausführungsform durch die erste bildweise Be­ lichtung gebildet sind.
Bei der folgenden Beschreibung der Erzeugung eines drei­ dimensionalen Modells durch das Verfahren, durch das eine reduzierte Verzerrung erzielt wird, werden die folgenden anschließend näher definierten Ausdrücke ver­ wendet:
Photoformbare Zusammensetzung
Ein Material, das sich anfangs in einem ungehärteten, leicht verformbaren Zustand, z. B. im flüssigen Zustand, befindet und das unter Einwirkung einer ausreichenden Menge einer geeigneten Strahlung ganz oder teilweise aushärtet.
Ungehärtet
Der Zustand der photoformbaren Zusammensetzung vor ir­ gendeiner wesentlichen Strahlungseinwirkung, in dem die Zusammensetzung leicht verformbar ist.
Teilweise gehärtet
Der Zustand der photoformbaren Zusammensetzung, nachdem sie der Aushärtstrahlung mit einem Intensitätsniveau ausgesetzt worden ist, das nicht ausreicht, um die Zu­ sammensetzung über den Punkt hinaus zu erhärten, an dem sie verformbar bleibt. Es handelt sich hierbei um einen flexiblen, nachgiebigen, gummiartigen Zustand.
Gehärtet
Der Zustand der photoformbaren Zusammensetzung, nachdem diese einer Aushärtstrahlung mit einem hinreichenden Intensitätsniveau ausgesetzt worden ist, um die Zusam­ mensetzung zu verfestigen. (Eine gewisse Menge an unge­ härtetem oder teilweise gehärteten Material kann in Gittern in der gehärteten Zusammensetzung gefangen wer­ den, jedoch ist derartiges Material nicht in ausreichen­ den Mengen vorhanden, um das gesamte Material nachgiebig zu machen.)
"Ein"- und "Aus"-Zustände
Der "Ein"-Zustand ist ein Zustand, in dem die Intensität und die Geschwindigkeit eines Belichtungsstrahls derart beschaffen sind, daß die auf der Bildebene gemessene Belichtung (die Intensität der auftreffenden Strahlung multipliziert mit der Dauer des Auftreffens) über einem Schwellenpegel liegt, der zum Härten des photoformbaren Materials ausreicht. Der "Aus"-Zustand ist ein Zustand, in dem die Intensität und die Geschwindigkeit des Strahls derart beschaffen sind, daß die wiederum auf der Bildebene gemessene Belichtung unter einem Schwellenpe­ gel liegt, der zum Härten des photoformbaren Materials ausreicht.
Submodulation
Ein Vorgang, bei dem die Laserstrahl-Intensität und/ oder -Geschwindigkeit derart verändert wird, daß "Ein"- und "Aus"-Zustände mit einer Impulskette variabler Im­ pulsbreite und Wiederholungsrate erzeugt werden. Die Impulsbreite und die Wiederholungsrate (Frequenz) sind eine Funktion der augenblicklichen Abtastgeschwindigkeit des Strahls auf einer Bildebene. Die Impulsbreite und die Wiederholungsrate sind so gewählt, daß über den gesamten Abtastweg des Strahls im wesentlichen gleich­ förmige Belichtungsgrade auf der Bildebene erzeugt wer­ den.
Modulation
Ein Vorgang, durch den ein auf eine Bildebene auftref­ fender Laserstrahl bildweise moduliert wird, indem ba­ sierend auf einem Bildinformation repräsentierenden Signal die Strahlintensität auf der Bildebene zwischen dem "Ein"- und "Aus"-Zustand variiert wird, um bestimmte Bereiche auf der Bildebene zu belichten und dadurch ein Bild zu reproduzieren, das der von dem Signal repräsen­ tierten Bildinformation entspricht. Der Strahl kann ein submodulierter Laserstrahl sein.
Supermodulation
Ein Vorgang, bei dem der von einem Lichtstrahl auf einer Bildebene erzeugte Belichtungsgrad weiter zwischen den "Ein"- und "Aus"-Zuständen variiert wird, und zwar ent­ sprechend einem vorgewählten Steuersignal, das derart gewählt ist, daß eine unterbrochene Reihe von Belichtun­ gen erzeugt wird, die ein Muster diskreter, unverbunde­ ner belichteter Bereiche innerhalb eines belichteten Teils einer Bildfläche auf einer Bildebene bilden. Dies kann erfolgen, indem entweder die Intensität der auf die Bildebene auftreffenden Belichtungsstrahlung variiert wird, oder indem die Zeit des Auftreffens der Strahlung auf einen Punkt auf der Bildebene variiert wird, oder indem sowohl die Intensität und die Zeit variiert wer­ den.
Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des Ver­ fahrens. Die Vorrichtung weist eine Quelle für Belich­ tungsstrahlung auf, z. B. einen Laser 10, der einen Be­ lichtungsstrahl 12 erzeugt. Der Laser 10 ist vorzugs­ weise ein Hochleistungslaser, der Haupt-Bänder in sicht­ baren, Infrarot- oder Ultraviolettbereichen des Strah­ lungsspektrums abstrahlen kann, wobei das bestimmte ge­ wählte Band eine Funktion der Spektralempfindlichkeit der Zusammensetzung ist, die durch Strahlungseinwirkung gehärtet werden soll. Der Ausdruck "Hochleistung" ist in relativem Sinn zu verstehen und hängt in großem Ausmaß von der Menge an Strahlungsenergie ab, die zum Aushärten einer bestimmten photoformbaren Zusammensetzung benötigt wird (d. h. der Photoformbarkeits-Geschwindigkeit oder "photospeed" der Zusammensetzung). Bei derzeit verfüg­ baren Photoformbarkeits-Geschwindigkeiten versteht man unter "Hochleistung" eine Leistung, die größer als 20 mW und vorzugsweise größer als 100 mW ist, gemessen an der Intensität des Strahls. Zum Fokussieren des Strahls 12 auf eine Bildebene 13 sind Fokussierungseinrichtungen verfügbar, die jedoch aus Gründen der Übersicht in Fig. 1 nicht gezeigt sind.
Außer einem durch einen Laser erzeugten Belichtungs­ strahl 12 können andere Strahlungsquellen benutzt wer­ den, z. B. Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen etc., wobei diese Wahl wiederum von der Spektralempfindlich­ keit der der Strahlung ausgesetzten härtbaren Zusammen­ setzung abhängt. Der Querschnitt des Strahls 12 hat typischerweise kreisförmige Gestalt mit einer Gaußschen Intensitätsverteilung gemäß Fig. 3, wobei "D" der Punkt des Strahlungsgrads 1/e2 ist.
Der Strahl 12 durchläuft einen Modulator 14, der vor­ zugsweise ein optoakustischer Modulator ist. Der opto­ akustische Modulator verändert als Reaktion auf ein ihm zugeführtes elektronisches Steuersignal die Intensität des austretenden Laserstrahls zwischen ein "Ein"-Zustand und einem "Aus"-Zustand gemäß der obigen Definition.
Anschließend wird der Strahl durch ein Strahlablenksy­ stem geschickt, das vorzugsweise zwei orthogonale Strahlablenkeinrichtungen 16 und 18 aufweist. Die Ein­ richtungen 16 und 18 werden über Leitungen 15 und 15′ mittels einer Strahlablenksteuereinrichtung gesteuert, die in einem Steuermodul 28 enthalten ist. Das Strahl­ ablenksystem kann zwei Spiegel aufweisen, die sich um zwei orthogonale Achsen drehen, die an zwei gesteuerten Servomotoren befestigt sind. Die Servomotoren können durch ein elektronisches Signal, z. B. eine Abfolge von Schrittimpulsen, gesteuert werden und dadurch den Spie­ gel derart drehen, daß der Strahl auf jeden gewünschten Punkt auf der Bildebene 13 gerichtet werden und auf der Ebene 13 jede Konturlinie abtasten kann. Ein mit Servo­ motoren betriebenes Strahlablenksystem, das zur Ausfüh­ rung des Verfahrens geeignet ist, wurde von Greyhawk Systems Inc., Milpitas, California, entwickelt und wird von dieser Firma vertrieben. Alternativ können die Spie­ gel derart an Galvanometern montiert sein, daß durch geeignete Wahl einer Zuführspannung zu jedem der beiden Galvanometer der Strahl auch bei dieser Alternative auf jeden gewünschten Punkt auf der Bildebene 13 gerichtet werden und auf der Ebene 13 jede Konturlinie abtasten kann.
Die Bildebene 13 befindet sich in einem Behälter 20, der eine durch Strahlung härtbare Zusammensetzung 22 und eine bewegbare Stützplattform 26 enthält. Die Plattform 26 ist in dem Behälter 20 relativ zu der Laserstrahlab­ lenk- und Modulationsanordnung derart montiert, daß dem Laserstrahl 12 auf der Bildebene 13 selektiv auf der Bildebene 13 befindliche photoformbare Zusammensetzung 22 ausgesetzt wird. Eine Einrichtung 24 dient zum Anhe­ ben oder Absenken der Plattform 26 als Reaktion auf ein Steuersignal, das der Einrichtung 24 über die Leitung 25 zugeführt wird. Das Steuermodul 28 enthält eine geeigne­ te Hebe- und Senk-Steuereinrichtung.
Das Steuermodul 28 kann einen Computer aufweisen, der in geeigneter Weise programmiert ist, um den Laserstrahl zu modulieren, ihn auf der Bildebene 13 auszurichten und die Plattform anzuheben, um die photoformbare Zusammen­ setzung auf die Bildebene 13 zu bringen. Zur Durchfüh­ rung dieser Funktionen benötigt der Computer geeignete Wandler; es handelt sich hierbei jedoch um bekannte Technologie, die für die Erfindung nicht vorrangig wich­ tig ist.
Ferner ist eine (in Fig. 1 nicht gezeigte) Beschich­ tungseinrichtung vorgesehen, mit der auf der Plattform 26 (oder einem auf der Plattform befindlichen Objekt) auf der Bildebene 13 eine Schicht aus photoformbarer Zusammensetzung ausgebildet werden kann, die gleichför­ mige Dicke und eine glatte Oberfläche aufweist. Auch derartige Beschichtungseinrichtungen sind im Stand der Technik bekannt und nicht Gegenstand der Erfindung.
US-5 006 364 und US-5 094 935 offenbaren photoformbare Zusammensetzungen, die zur Erzeugung mehrschichtiger Modelle mittels des Festkörperabbildungsverfahrens und einer Anordnung, welche der in Fig. 1 schematisch ge­ zeigten Anordnung entspricht, geeignet sind. Vorzugs­ weise ist die photoformbare Zusammensetzung eine flüssi­ ge Zusammensetzung mit
  • a) 45 bis 55% eines difunktionalen acrylierten Poly­ urethanoligomers oder einer Mischung der Oligomere;
  • b) 25 bis 40% eines Polyglycolesters oder einer Mi­ schung derartiger Ester gemäß der folgenden Formel: H2C=CH(CO)-O(CH2-CH2-O)4-(CO)HC=CH2
  • c) 4 bis 6% eines Photoinitiatorsystems (oder einer Mischung eines Photoinitiatorsystems), das empfind­ lich ist für aktinische Strahlung, z. B. 2,2-Dime­ thoxy-2-phenylacetophenon; und
  • d) 10 bis 20% eines polyfunktionalen reaktiven Ver­ dünnungsmittels, z. B. eines Acrylats, oder einer Mischung aus reaktiven Verdünnungsmitteln,
wobei die flüssige photoformbare Zusammensetzung eine Viskosität von 300 bis 3000 CP bei 25°C aufweist.
Der Strahl 12 wird in dem Modulator 14 moduliert. Bei der bevorzugten Ausführungsform wird der Strahl 12 auf drei verschiedene Arten moduliert. Erstens wird der Strahl 12 durch eine Impulskette mit variabler Wiederho­ lingsrate submoduliert. Das Ausgeben der Impulse erfolgt als eine Funktion der Winkelposition der an den Schritt­ motoren montierten Strahlablenkspiegel und wird derart berechnet, daß die Belichtung der photoformbaren Zusam­ mensetzung, d. h. das Produkt der Strahlungsintensität und der Aufbringungszeit der Strahlung an irgendeinem Punkt entlang einer Abtastzeile auf der Abtastebene 13, konstant ist. Dies wird erzielt, indem die Impulswie­ derholungsrate derart gesteuert wird, daß die Verteilung der Belichtungsimpulse auf der Bildebene 13, die als Funktion des Abstandes vom Start zum Ende erfolgt, ent­ lang einer Abtastzeile regelmäßig ist, wie Fig. 2 zeigt.
Indem der Strahl 12 auf diese Weise gesteuert wird, erhält man über die gesamte Länge einer belichteten Bildzeile eine konstante Belichtung. Da die Strahlab­ lenkeinrichtung eine gewisse Masse aufweist, erfolgen die Beschleunigung und Verlangsamung nicht augenblick­ lich und beeinträchtigen die Belichtung, falls sie nicht kompensiert werden. Dadurch ergibt sich bei Ausbleiben einer Korrektur eine nicht gleichförmige Belichtung, da im Vergleich zu dem gleichförmigen Zustand entlang einer belichteten Bildzeile, der nach dem Abschluß der anfäng­ lichen Beschleunigung des Ablenkspiegels und dem Errei­ chen der Betriebs-Abtastgeschwindigkeit, erreicht wird, die Abtastgeschwindigkeit des Strahls 12 beim Start jeder Abtastung unterschiedlich ist. Das gleiche Problem tritt am Ende einer Abtastzeile auf, wenn sich die Bewe­ gung des Spiegels vor dem Stoppen verlangsamt.
Bei der bevorzugten Ausführungsform wird ein Kodierer, der den an den Schrittmotoren montierten Spiegeln zu­ geordnet ist, zum Steuern der Impulsrate des Submodula­ tionssignals verwendet. Die Kodierer-Auflösung beträgt 1 Bogensekunde, und alle 2 Bogensekunden der Spiegel­ drehung wird ein Signal erzeugt, das in der Lage ist, den Strahl 12 in den Ein-Zustand zu submodulieren. Da der Strahl 12 ein reflektierter Strahl ist, wird bei einer Spiegeldrehung von 2 Bogensekunden der Strahl um 4 Bogensekunden gedreht. Der Abtastradius des Strahls 12 von dem Spiegel zur Bildebene 13 beträgt nominell 129,54 cm (51 Inch), und somit wird in den Abbildungsbereichen ungefähr alle 0,00254 cm (0,001′′, d. h. ein mil) ein Lichtimpuls erzeugt. Da der Durchmesser "D" des 1/e2- Strahls in dem System ungefähr 137 µm (5,4 mil) beträgt, existiert eine wesentliche Überlappung der im wesentli­ chen in Gaußscher Weise submodulierten Belichtungen. Diese Überlappung reicht aus, um eine belichtete Linie derart zu erhärten, daß die Linie entlang ihrer Länge im wesentlichen gleichförmige Dicke aufweist, wie in Fig. 2 in dem zweiten Schaubild gezeigt ist, das die Tiefe des Aushärtens als Funktion des Oberflächenabstandes zeigt.
Ein festes Objekt wird durch sequentielles Belichten mehrerer aneinander angrenzender, einander überlappender Schichten gebildet, die jeweils bildweise belichtet wurden. Das bildweise Belichten jeder Schicht erfolgt durch bildweises Belichten der photoformbaren Zusammen­ setzung in der Bildebene. Dies erfolgt wiederum durch bildweises Modulieren des Laserstrahls. Fig. 4 zeigt die Modulationsspannungsamplitude "V" als Funktion der Zeit "t" und stellt das bildweise Modulieren des Strahls dar. Wie in Fig. 4 dargestellt, wird der submodulierte Strahl durch Ein- und Ausschalten weiter moduliert, um zwei Linien zu erzeugen, nämlich die Linie A-B (Strahl "ein") und die Linie C-D (Strahl "aus"). US-5 014 207 erörtert diesen Dualmodulation-Belichtungsvorgang im einzelnen.
Die Schichten werden erfindungsgemäß zweimal belichtet. Vorzugsweise werden alle Schichten durch zweimaliges Belichten jeder Schicht gebildet. Das erste Belichten ist ein bildweises Belichten, wobei der submodulierte Belichtungsstrahlungsstrahl durch Bildinformationen weiter moduliert und mit einem vorgewählten Impulssignal supermoduliert ist, um ein nicht kontinuierliches Bild des Musters mit mehreren verankerten gehärteten Bildbe­ reichen zu bilden, die durch Bildbereiche aus teilweise gehärteter Zusammensetzung getrennt sind und einer Ab­ folge von Strichen ähnlich sind. Bei der vorliegenden Erfindung ist es nicht nur wesentlich, daß die Bildbe­ reiche zwischen den gehärteten Bildbereichen teilweise gehärtet sind, sondern auch, daß die gehärteten Bild­ bereiche mit der darunter befindlichen, daran angrenzen­ den Schicht verbunden sind, um einen "Floating-"Effekt während nachfolgender Belichtungen zu vermeiden. Es hat sich gezeigt, daß durch innere Spannungen während nach­ folgender Bestrahlungen verursachte Verzerrungen in solchen Schichten erheblich verringert werden, wenn die gehärteten Bildbereiche durch diese erste Belichtung verankert werden, und wenn diese gehärteten Bildberei­ che, besonders in Überhangbereichen, in denen eine "Ver­ ankerung" nicht erwünscht ist, durch teilweise gehärtete Bildbereiche voneinander getrennt sind.
Nach Abschluß dieses ersten bildweisen Belichtens der Schicht wird die Schicht einem zweiten bildweisen Be­ lichten unterzogen, wobei wiederum eine bildweise modu­ lierter, submodulierter Bestrahlungsstrahl verwendet wird, jedoch ohne die Supermodulation, die bei der er­ sten Belichtung die Striche erzeugte. Die zweite Belich­ tung ist derart berechnet, daß sie ein gehärtetes durch­ gehendes Bild erzeugt. Somit wird das Bild in jeder Schicht in zwei Schritten erzeugt, zunächst als strich­ weises Bild, sodann als festes Bild.
Dieses Verfahren wird im folgenden in Zusammenhang mit den Fig. 4, 5, 6 und 7 näher erläutert. Das erste Belichten einer Schicht erfolgt mit einem Strahl, der mit einem Signal moduliert ist, wie in Fig. 5 darge­ stellt. Dieses Signal ist das Ergebnis dreier verschie­ dener Modulationen des Strahls. Zunächst erfolgt die Submodulation des Strahls, die eine Abfolge kurzer Im­ pulse P erzeugt. Diesen Impulsen wird ein Signal über­ lagert, das die Bildinformation, d. h. eine durchgezogene Linie A-B, gefolgt von einem unbelichteten Bereich B-C, dem wiederum eine weitere Linie C-D folgt, repräsen­ tiert. Submodulationsimpulse treten nur in den durch­ gezogenen Linienabschnitten auf.
Eine zusätzliche Abfolge von Supermodulationsimpulsen, e-f, g-h, i-j, etc., wird überlagert, wodurch ein Be­ lichtungsstrahl entsteht, der die in Fig. 5 dargestell­ ten Gruppen S1, S2, S3, S4, S5 und S6 von Submodula­ tionsimpulsen P aufweist. Das Ziel der Belichtung der härtbaren Zusammensetzung mit diesen Strahlengruppen ist es, in der belichteten Schicht in der Bildebene eine Reihe von nicht miteinander verbundenen gehärteten Be­ reichen oder Inseln 32 zu erzeugen, die strichförmig entlang der Belichtungszeile 30 verlaufen und durch Bereiche 34 teilweise gehärteter Zusammensetzung vonein­ ander getrennt sind, wie in den Fig. 6 und 8 darge­ stellt. In Fig. 8 sind die gehärteten Inseln 32 mit gleichmäßiger Schattierung schattiert dargestellt. Der Grad des Aushärtens ist jedoch in den Inseln nicht gleichmäßig und es besteht, aufgrund der Gaußschen Form des Belichtungsstrahls, in der Nähe der Ränder der In­ seln ein Abfall des Belichtungsgrades, der in der Zeich­ nung nicht dargestellt ist. Die Frequenz der Impulsgrup­ pen muß derart berechnet sein, daß sichergestellt ist, daß kein gehärtetes Material den Zwischenraum zwischen den Strichen überbrückt, wobei die Bereiche 34 zwischen den Strichen höchstens teilweise gehärtete Zusammenset­ zung enthalten.
Vorzugsweise wird der Belichtungsgrad derart gewählt, daß das belichtete Material, wie in Fig. 6 dargestellt, um die Tiefe "d" über die Tiefe der Schicht hinaus ge­ härtet wird, um das Verankern der Inseln in der unteren Schicht zu bewirken. Die Größe von "d" ist nicht ent­ scheidend, und eine Belichtung, die das Material bis in eine die Dicke der Schicht übersteigende Tiefe härtet, reicht in jedem Falle aus. Das zuvor erwähnte US-Patent 5 014 207 lehrt das Berechnen der Tiefe des Lichthärtens als Funktion der Strahlintensität.
Im Anschluß an dieses erste Belichten erfolgt ein zwei­ tes Belichten der selben Schicht mit den selben Abbil­ dungsinformationen. Die Strahlintensität ist wie in Fig. 4 gezeigt moduliert, was zu einer Gruppe von sub­ modulierten Impulsen für die gesamte Länge sämtlicher durchgezogener Linien A-B, C-D, etc., führt. Das Ziel dieser zweiten Belichtung ist es, samtliche belichteten Bereiche vollständig zu härten, wobei die Bereiche zwi­ schen den zuvor gebildeten nicht zusammenhängenden In­ seln oder Strichen überbrückt werden, wie in den Fig. 7 und 9 dargestellt. Fig. 9 zeigt eine Draufsicht auf das Ergebnis dieses zweiten Belichtens, bei dem sämtli­ ches Material entlang der Abtastzeilen 36 gehärtet ist. Wie dargestellt, umfaßt der gehärtete Bereich die Inseln 32 und die Zwischenräume 34.
Fig. 10 zeigt eine geringfügige Variation dieses Ver­ fahrens, bei der die Positionen der Inseln 32 in benach­ barten Abtastzeilen 30 versetzt sind, so daß die Inseln 32 und 32′ nicht genau nebeneinanderliegen.
Es hat sich gezeigt, daß bei einigen Polymeren das Schrumpfen über mehr als eine Minute nach dem Belichten fortdauern kann. Wenn eine solche Verzögerung festge­ stellt wird, kann das zweite Belichten, d. h. das Belich­ ten mit dem modulierten Strahl, nach dem Belichten mit dem supermodulierten Strahl um eine Zeitspanne verzögert werden, die das Auftreten des Schrumpfens des Polymers nach dem Belichten erlaubt.
Nach dem Abschluß der beiden bildweisen Belichtungsvor­ gänge wird auf die belichtete Schicht eine neue Schicht unbelichteten Materials aufgetragen und der Vorgang für diese neue Schicht wiederholt, und so weiter, bis ein dreidimensionales Objekt unter Verwendung mehrerer an­ einander angrenzender Bildschichten erstellt ist, wobei jede Bildschicht einen Querschnitt des Objekts repräsen­ tiert.
Das Objekt wird aus dem Behälter entnommen, das nicht belichtete Material wird von dem Objekt entfernt und, falls erwünscht, wird das Objekt durch Belichten mit härtender Flutbestrahlung weiter gehärtet.
Um die Gesamtbelichtungszeit zu verkürzen, kann der Abtastzeilenabstand für die ersten Belichtungsabtastun­ gen von demjenigen der zweiten verschieden, d. h. größer, sein, wodurch die selbe Fläche mit weniger Abtastungen abgearbeitet wird. Bei der ersten Abtastung kann der Abtastzeilenabstand ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch) betragen, während er bei der zweiten Abtastung ungefähr 0,005 cm (0,002 Inch) betragen kann, was zu einer gleichmäßigen Härtung der Bildbereiche führt.
In einem Beispiel, bei dem eine flüssige photoformbare Zusammensetzung wie die zuvor beschriebene verwendet wird, und bei dem während dem ersten supermodulierten Belichten die Dicke jeder Schicht mit einer Dicke von ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch) gewählt ist, beträgt die Länge des Submodulationsimpulses "P" 1,56 Sekunden. Ein kohärenter Argon-Ion-Laser vom Modell 326, der einen Strahl mit Strahlung im UV-Bereich mit Primärlinien von 351,1 nm und 363,8 nm erzeugt, wird als Belichtungsquel­ le zum Erzeugen eines Abbildungsstrahls mit im wesentli­ chen rundem Querschnitt verwendet, der einen kreisförmi­ gen Punkt mit einer Gaußschen Leistungsverteilung in der Bildebene erzeugt. Die Leistung des Strahls in der Bild­ ebene beträgt 225 mW und der Radius des 1/e2-Punkts beträgt 0,00685 cm. Die Länge der Strich-Belichtung (e­ f, g-h, i-k, etc.) ist mit ungefähr 0,01016 cm (0,004 Inch) gewählt, der Abstand zwischen den Strich-Belich­ tungen (f-g, h-i, j-k, etc.) beträgt ungefähr 0,005 cm (0,002 Inch) und der Strichabtastabstand (der Abstand von der Mitte zur Mitte zwischen benachbarten Strahl­ durchläufen) beträgt ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch).
Bei einem Abtastabstand von ungefähr 0,005 cm (0,002 Inch) und lediglich der submodulierten Belichtung, hat dieses Material eine das Verhältnis der Polymerisations­ tiefe zur Belichtung wiedergebende polynomische Kurve, die annähernd wie folgt lautet:
Tiefe (cm) = A·B·E + C·(E)2
wobei
A = -0,00314
B = 0,004243
C = 0,001325 und
E = Belichtungsgrad in (mJ/cm2) ist.
Durch Addieren der benachbarten Belichtungen um jeden Punkt im Bildbereich in einem Radius von 0,0127 cm (0,005 Inch) läßt sich die maximale Belichtung (in der Mitte des Strichs) mit ungefähr 13,68 mJ/cm2 berechnen. Die Verankerung oder die Verbindungstiefe jedes Strichs beträgt daher ungefähr 0,004318 cm (0,0017 Inch). Der Abstand zwischen den Strichen ist derart gewählt, daß keine Verbindung aus gehärtetem Material, sondern le­ diglich nicht gehärtetes oder teilweise gehärtetes Mate­ rial zwischen den Strichen existiert.
Diesem ersten Belichten folgt ein zweites Belichten. Beim zweiten Belichten tastet der Strahlpunkt auf der Bildebene mit einem Zeilenabstand von ungefähr 0,0058 cm (2 mil) ab. Die Submodulationsimpulslänge beträgt 0,88 Sekunden. Die Laserleistung und die Laserpunktgröße bleiben unverändert. Durch Summieren der Belichtung der ersten strichbildenden Abtastung und der zweiten nicht­ strichbildenden Abtastung um einen Punkt, unter Berück­ sichtigung der Belichtungsbeiträge von Punkten innerhalb eines Radius von ungefähr 0,0127 cm (5 mil), beträgt die maximale Belichtung 29,04 mJ/cm2, die minimale Belich­ tung 18,62 mJ/cm2 und die durchschnittliche Belichtung 11,71 mJ/cm2. Die sich daraus ergebende maximale gehär­ tete Dicke beträgt 0,0245 cm (0,010 Inch), die minimale gehärtete Dicke beträgt 0,02032 cm (0,008 Inch) und die durchschnittliche gehärtete Dicke beträgt 0,02286 cm (0,009 Inch). Da die nominelle Dicke der aufgetragenen Schicht ungefähr 0,0127 cm (0,005 Inch) beträgt, wurde das Material über seine gesamte Dicke gehärtet.
Bei den zuvor genannten Beispielen und in der vorherge­ henden Erörterung wurde die Erfindung in einem Zusammen­ hang beschrieben, in dem jeweils nur ein einzelnes Ob­ jekt mittels der Belichtungsvorrichtung hergestellt wurde. In der industriellen Praxis werden jedoch oftmals mehrere Objekte nebeneinander auf der Plattform in dem Behälter unter Verwendung unterschiedlicher Abbildungs­ informationen und manchmal unterschiedlicher Abtastab­ stände für jedes Objekt hergestellt. Es ist ebenfalls möglich, mehrere Objekte unter Verwendung unterschiedli­ cher Schichtdicken für jedes Objekt gleichzeitig herzu­ stellen. Die vorliegende Erfindung ist in allen genann­ ten Fällen anwendbar und zur Durchführung der Erfindung wird jedes Objekt als von den anderen Objekten unabhän­ gig angesehen, wobei jedes Objekt den beiden Belich­ tungsvorgängen gemäß den Lehren der Erfindung ausgesetzt wird.
Ein als Beispiel dienendes Software-Ausführungsbeispiel ist im Anhang A der Beschreibung enthalten. Das Softwa­ reprogramm ist zur Verwendung in einem Computer 28 oder einem ähnlichen Signalprozessor in UNIX-Shell geschrie­ ben, um die erste und die zweite Belichtung sowie das Supermodulationssignal zu erzeugen.
Der durch den supermodulierten Strahl erhaltene Effekt wurde im vorhergehenden in Zusammenhang mit der Supermo­ dulation des Strahls unter Verwendung von Strahleninten­ sitäts (Amplituden-)modulation beschrieben. Der Supermo­ dulationseffekt kann jedoch auch durch Konstanthalten der Strahlintensität und Variieren der Abtastgeschwin­ digkeit des Strahls auf der Bildebene erreicht werden. Dies kann beispielweise dadurch erreicht werden, daß dem Abtastspiegeltreibersystem ein Signal vom Sinuswellentyp derart überlagert wird, daß der Strahl bei der Bewegung entlang der Abtastzeile oszilliert. Dieses Oszillieren führt dazu, daß Bereiche der Abtastzeile länger belich­ tet werden, während andere kürzer belichtet werden. Durch Auswählen der geeigneten Oszillationsfrequenz können die längeren und die kürzeren Belichtungen derart berechnet werden, daß über bzw. unter einem Belichtungs­ schwellenwert des verwendeten photoformbaren Materials liegen, was zu gehärteten und nicht gehärteten Flächen entlang der Abtastzeile führt.
Das zuvor beschriebene System ist im wesentlichen die digitale Implementierung des erfindungsgemäßen Verfah­ rens. Jedoch können die gleichen ersten und zweiten Belichtungen ohne Schwierigkeiten in einer analogen Umgebung durchgeführt werden. Der Fachmann auf diesem Gebiet kann in Kenntnis der Lehren der Erfindung zahl­ reiche Veränderungen daran vornehmen. Zum Beispiel kann die Submodulationsbelichtung entfallen und lediglich ein Strahl mit konstanter Intensität verwendet werden, der nur mit der bildweisen Modulation und den Supermodula­ tionssignalen gemäß der Erfindung moduliert ist. Mit den beiden offenbarten Vorgängen zum bildweisen Belichten können ebenfalls ausgewählte Schichten, die das feste Objekt aufweisen, belichtet werden, anstatt jede der Schichten zu belichten.
ANHANG A

Claims (12)

1. Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts aus mehreren Querschnittsteilen des Objekts, die gehärteten Bereichen aneinander angrenzender Schichten einer photoformbaren Zusammensetzung entsprechen, welche durch sequentielles bildweises Belichten der Schichten gebildet sind, wobei jede Schicht entsprechend einem vorbestimmten Muster, das den gewünschten Querschnitts­ teil des Objekts repräsentiert, belichtet wird, mit den folgenden Schritten:
  • 1) bildweises Belichten wenigstens einer Schicht nach dem vorbestimmten Muster für diese Schicht unter Ver­ wendung einer Belichtungsquelle, die supermoduliert ist, um ein nicht kontinuierliches Bild des Musters zu erzeu­ gen, das diskrete, verankerte, gehärtete Bildbereiche aufweist, die durch Bildbereiche aus teilweise gehärte­ ter photoformbarer Zusammensetzung voneinander getrennt sind; und
  • 2) Wiederholen des bildweisen Belichtens der einen Schicht nach dem selben vorbestimmten Muster für die eine Schicht unter Verwendung der Belichtungsquelle, die zur Erzeugung eines kontinuierlichen gehärteten Bildes dieses Musters auf der einen Schicht moduliert ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtungsquelle einen submodulierten Abtastla­ serstrahl liefert, der auf die Schicht auftrifft, und daß die Modulation und die Supermodulation der Belich­ tungsquelle erreicht werden, indem die Intensität des auf die Schicht auftreffenden Strahls in vorbestimmten Zeitintervallen selektiv von einem Zustand "Ein" in einen Zustand "Aus" gewechselt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtungsquelle einen submodulierten Abtastla­ serstrahl liefert, der auf die Schicht auftrifft und in eine Abtastrichtung bewegt wird, und daß die Supermodu­ lation der Belichtungsquelle erfolgt, indem die Abtast­ geschwindigkeit des Strahls auf der Schicht in der Ab­ tastrichtung mit einer vorbestimmten Rate variiert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch das Wiederholen der Schritte (1) und (2) mit einer vorgewählten Häufigkeit, um mehrere Schichten nach den entsprechenden vorbestimmten Mustern zu belichten.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch das Wiederholen der Schritte (1) und (2) mit einer vorgewählten Häufigkeit, um mehrere aneinander angren­ zende Schichten nach den entsprechenden vorbestimmten Mustern zu belichten.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die diskreten gehärteten Bildbereiche punktförmig sind.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die diskreten gehärteten Bildbereiche strichförmig sind.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die erste supermodulierte Belichtung der Schicht seitlich versetzte gehärtete Bereiche auf der einen Schicht erzeugt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-8, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die photoformbare Zusammensetzung ein Polymer ist.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer eine Flüssigkeit ist.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Schritten (1) und (2) eine zeitliche Verzögerung besteht.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die photoformbare Zusammensetzung nach dem Belichten eine kontinuierliche Schrumpfung zeigt, und daß die zeitliche Verzögerung zwischen den Schritten (1) und (2) ausreicht, um das Schrumpfen der belichteten Zusammen­ setzung im wesentlichen zum Abschluß kommen zu lassen.
DE4412160A 1993-04-12 1994-04-12 Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen Withdrawn DE4412160A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/046,070 US5429908A (en) 1993-04-12 1993-04-12 Exposure method for reducing distortion in models produced through solid imaging by forming a non-continuous image of a pattern which is then imaged to form a continuous hardened image of the pattern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4412160A1 true DE4412160A1 (de) 1994-10-13

Family

ID=21941432

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4412160A Withdrawn DE4412160A1 (de) 1993-04-12 1994-04-12 Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5429908A (de)
JP (2) JP3449779B2 (de)
KR (1) KR0127835B1 (de)
DE (1) DE4412160A1 (de)
TW (1) TW253866B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19606128A1 (de) * 1996-02-20 1997-08-21 Eos Electro Optical Syst Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
WO2008145316A2 (de) 2007-05-25 2008-12-04 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5968714A (en) * 1996-03-14 1999-10-19 Agfa-Gevaert Sensitivity-increasing recording process for a photosensitive thermally developable photographic material
US5804355A (en) * 1996-03-14 1998-09-08 Agfa-Gevaert N.V. Producing a contone image by sequentially exposing a thermo-sensitive imaging material by means of a set of radiation beams
WO1998021925A2 (en) * 1996-11-04 1998-05-28 Lamberts Robert L Method for making a sinusoidal test object
US5840239A (en) * 1997-01-31 1998-11-24 3D Systems, Inc. Apparatus and method for forming three-dimensional objects in stereolithography utilizing a laser exposure system having a diode pumped frequency quadrupled solid state laser
US6051179A (en) * 1997-03-19 2000-04-18 Replicator Systems, Inc. Apparatus and method for production of three-dimensional models by spatial light modulator
US6001297A (en) * 1997-04-28 1999-12-14 3D Systems, Inc. Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography
US6399010B1 (en) * 1999-02-08 2002-06-04 3D Systems, Inc. Method and apparatus for stereolithographically forming three dimensional objects with reduced distortion
US6129884A (en) * 1999-02-08 2000-10-10 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application
CA2388046A1 (en) 1999-11-05 2001-05-17 Z Corporation Material systems and methods of three-dimensional printing
JP3687475B2 (ja) * 2000-03-28 2005-08-24 松下電工株式会社 立体形状物体の造形方法
JP4739507B2 (ja) * 2000-11-29 2011-08-03 株式会社アスペクト 3次元造形装置
US6699424B2 (en) 2001-06-29 2004-03-02 3D Systems, Inc. Method for forming three-dimensional objects
JP4230485B2 (ja) * 2005-11-30 2009-02-25 株式会社棚澤八光社 表面に凸模様を有する製品及び該凸模様を形成する方法
US7467939B2 (en) * 2006-05-03 2008-12-23 3D Systems, Inc. Material delivery tension and tracking system for use in solid imaging
US7931460B2 (en) * 2006-05-03 2011-04-26 3D Systems, Inc. Material delivery system for use in solid imaging
JP5189598B2 (ja) 2006-12-08 2013-04-24 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 過酸化物硬化を用いた三次元印刷材料系および方法
JP5129267B2 (ja) 2007-01-10 2013-01-30 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 改良された色、物品性能及び使用の容易さ、を持つ3次元印刷材料システム
US7731887B2 (en) * 2007-01-17 2010-06-08 3D Systems, Inc. Method for removing excess uncured build material in solid imaging
US20080170112A1 (en) * 2007-01-17 2008-07-17 Hull Charles W Build pad, solid image build, and method for building build supports
US7614866B2 (en) * 2007-01-17 2009-11-10 3D Systems, Inc. Solid imaging apparatus and method
US20080181977A1 (en) * 2007-01-17 2008-07-31 Sperry Charles R Brush assembly for removal of excess uncured build material
US20080226346A1 (en) * 2007-01-17 2008-09-18 3D Systems, Inc. Inkjet Solid Imaging System and Method for Solid Imaging
US7771183B2 (en) * 2007-01-17 2010-08-10 3D Systems, Inc. Solid imaging system with removal of excess uncured build material
US8221671B2 (en) * 2007-01-17 2012-07-17 3D Systems, Inc. Imager and method for consistent repeatable alignment in a solid imaging apparatus
US7706910B2 (en) * 2007-01-17 2010-04-27 3D Systems, Inc. Imager assembly and method for solid imaging
US8003039B2 (en) * 2007-01-17 2011-08-23 3D Systems, Inc. Method for tilting solid image build platform for reducing air entrainment and for build release
US8105066B2 (en) * 2007-01-17 2012-01-31 3D Systems, Inc. Cartridge for solid imaging apparatus and method
US7968626B2 (en) 2007-02-22 2011-06-28 Z Corporation Three dimensional printing material system and method using plasticizer-assisted sintering
JP5293993B2 (ja) * 2008-01-09 2013-09-18 ソニー株式会社 光造形装置および光造形方法
GB2458484B (en) * 2008-03-19 2011-12-28 Ds Smith Plastics Ltd A dolly
US9895842B2 (en) 2008-05-20 2018-02-20 Eos Gmbh Electro Optical Systems Selective sintering of structurally modified polymers
EP2547530B1 (de) * 2010-03-18 2015-10-21 Koninklijke Philips N.V. Drucker und verfahren zur steuerung eines druckers
GB201016169D0 (en) * 2010-09-27 2010-11-10 Materialise Nv Method for reducing differential shrinkage in stereolithography
KR101648442B1 (ko) * 2012-03-09 2016-08-16 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 3차원 형상 조형물의 제조 방법
US9034237B2 (en) 2012-09-25 2015-05-19 3D Systems, Inc. Solid imaging systems, components thereof, and methods of solid imaging
JP2018087956A (ja) * 2016-04-26 2018-06-07 Jsr株式会社 着色硬化膜の製造方法及びカラーフィルタの画素パターンの形成方法
CN108327253B (zh) * 2017-01-19 2021-08-06 上海普利生机电科技有限公司 光固化型三维打印方法和设备
US10583647B2 (en) 2017-05-17 2020-03-10 Ford Motor Company Method of controlling warping in 3D printing
JP7136815B2 (ja) * 2017-06-30 2022-09-13 株式会社ニコン 重合された材料で作られる物品を製造する方法
CN107471633B (zh) * 2017-09-24 2019-05-21 内蒙古机电职业技术学院 一种光敏树脂3d打印装置
US10518356B2 (en) 2018-02-05 2019-12-31 General Electric Company Methods and apparatus for generating additive manufacturing scan paths using thermal and strain modeling

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2567668B1 (fr) * 1984-07-16 1987-10-16 Cilas Alcatel Dispositif pour realiser un modele de piece industrielle
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
JPS61145016A (ja) * 1984-12-17 1986-07-02 Iseki & Co Ltd 果実選別供給装置
US4770480A (en) * 1986-05-12 1988-09-13 Spectra-Physics, Inc. Apparatus and method for providing multiple reference laser beams
DE3750709T2 (de) * 1986-06-03 1995-03-16 Cubital Ltd Gerät zur Entwicklung dreidimensionaler Modelle.
US4752498A (en) * 1987-03-02 1988-06-21 Fudim Efrem V Method and apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification
JPS63232026A (ja) * 1987-03-20 1988-09-28 Mazda Motor Corp 4輪駆動車の差動装置
IL109511A (en) * 1987-12-23 1996-10-16 Cubital Ltd Three-dimensional modelling apparatus
US4945032A (en) * 1988-03-31 1990-07-31 Desoto, Inc. Stereolithography using repeated exposures to increase strength and reduce distortion
EP0747203B1 (de) * 1988-04-18 2001-06-27 3D Systems, Inc. Verringerung des stereolithographischen Verbiegens
US5182055A (en) * 1988-04-18 1993-01-26 3D Systems, Inc. Method of making a three-dimensional object by stereolithography
JP2676838B2 (ja) * 1988-10-24 1997-11-17 ソニー株式会社 立体像形成方法
JP2715527B2 (ja) * 1989-03-14 1998-02-18 ソニー株式会社 立体形状形成方法
US5002855A (en) * 1989-04-21 1991-03-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging method using multiphasic photohardenable compositions
US5051334A (en) * 1989-04-21 1991-09-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging method using photohardenable compositions containing hollow spheres
US5014207A (en) * 1989-04-21 1991-05-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging system
US5006364A (en) * 1989-08-24 1991-04-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging method utilizing compositions comprising thermally coalescible materials
US5094935A (en) * 1990-06-26 1992-03-10 E. I. Dupont De Nemours And Company Method and apparatus for fabricating three dimensional objects from photoformed precursor sheets

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19606128A1 (de) * 1996-02-20 1997-08-21 Eos Electro Optical Syst Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
US5904890A (en) * 1996-02-20 1999-05-18 Eos Gmbh Electro Optical Systems Apparatus and method for producing three-dimensional objects
WO2008145316A2 (de) 2007-05-25 2008-12-04 Eos Gmbh Electro Optical Systems Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts
WO2008145316A3 (de) * 2007-05-25 2009-01-22 Eos Electro Optical Syst Verfahren zum schichtweisen herstellen eines dreidimensionalen objekts
RU2469851C2 (ru) * 2007-05-25 2012-12-20 Эос Гмбх Электро Оптикал Системз Способ послойного производства трехмерного объекта
CN101932429B (zh) * 2007-05-25 2014-07-09 Eos有限公司电镀光纤系统 分层制造三维物体的方法
US9011982B2 (en) 2007-05-25 2015-04-21 Eos Gmbh Electro Optical Systems Method for a layer-wise manufacturing of a three-dimensional object

Also Published As

Publication number Publication date
TW253866B (de) 1995-08-11
JP3449779B2 (ja) 2003-09-22
JP3585913B2 (ja) 2004-11-10
JPH06297585A (ja) 1994-10-25
US5429908A (en) 1995-07-04
JP2003305776A (ja) 2003-10-28
KR0127835B1 (ko) 1997-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4412160A1 (de) Belichtungsverfahren zum Reduzieren der Verzerrung bei durch räumliche Abbildung erzeugten Modellen
EP1849586B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mittels Maskenbelichtung
EP3970900B1 (de) Verfahren zum erzeugen einer 3d-struktur mittels laserlithographie mit geänderter belichtdosis an randabschnitten, sowie entsprechendes computerprogrammprodukt
EP0617657B1 (de) Verfahren zum herstellen von dreidimensionalen objekten
DE2719275C2 (de)
EP1993812B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines dreidimensionalen objekts
DE2628099C2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Maske
EP0690780B1 (de) Verfahren zum herstellen eines dredidimensionalen objekts
DE60120905T2 (de) Optisches System mit elektronischer Punktgrössensteuerung und Fokussierungskontrolle
EP0467076B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Mikrostrukturen auf einem lichtempfindlich beschichteten Substrat durch fokussierte Laserstrahlung
DE19929199A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
DE60020895T2 (de) Stereolithografische Verfahren und Vorrichtung mit Kontrolle der vorgeschriebenen Anregung
WO2016142398A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur korrektur einer inhomogenen intensitätsverteilung eines von einer strahlungsquelle erzeugten strahlungsfeldes
EP0743128A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Kennzeichnung von Erzeugnissen aus transparenten (festen) Werkstoffen mittels Laser
EP0517227A1 (de) Verfahren zum Speichern von Information in einem optisch lesbaren Datenspeicher
EP1746462A2 (de) Verfahren zur Belichtung von Flexodruckplatten
DE69727101T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer optischen Platte
WO1997048022A1 (de) Verfahren zur herstellung von eine räumlich gemusterte oberfläche aufweisenden druck- oder prägezylindern
DE19605062C1 (de) Verfahren zur Erzeugung eines langen Bragg-Gitters in einer optischen Monomodefaser
DE4219809A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Abtragen einer Oberfläche
WO1995004647A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von dreidimensionalen objekten
EP4359188A1 (de) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM REINIGEN VON MINDESTENS EINEM FORMSEGMENT EINER REIFENFORM MITTELS Laserstrahlung
WO2021198835A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur lithographiebasierten generativen fertigung eines dreidimensionalen bauteils
DE2405880A1 (de) Verbundplatte
DE2038874A1 (de) Verfahren zum Aufzeichnen und Auslesen von Informationen

Legal Events

Date Code Title Description
8130 Withdrawal