JP2676838B2

JP2676838B2 - 立体像形成方法

Info

Publication number: JP2676838B2
Application number: JP63267945A
Authority: JP
Inventors: 眞伸山本; 和峰伊東
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1988-10-24
Filing date: 1988-10-24
Publication date: 1997-11-17
Anticipated expiration: 2012-11-17
Also published as: JPH02113925A

Description

【発明の詳細な説明】本発明立体像形成方法は以下の項目に従って説明す
る。

A.産業上の利用分野 B.発明の概要 C.従来技術［第５図、第６図］ a.一般的背景 b.露光による立体像形成方法［第５図、第６図］ D.発明が解決しようとする課題［第６図、第７図］ E.課題を解決するための手段 F.実施例［第１図乃至第４図］ a.立体像形成装置［第１図乃至第３図］ａ−1.作業部［第１図、第２図］ａ−2.ビーム走査部［第１図乃至第３図］ａ−3.制御部［第１図乃至第３図］ b.立体像形成方法 G.発明の効果（A.産業上の利用分野）本発明は新規な立体像形成方法に関する。詳しくは、
光硬化性溶融樹脂を所定の露光ビームのビームスポット
で露光走査することにより任意に設計されたものに基づ
いて立体像を形成する立体像形成方法、特に、上記ビー
ムスポットをラスタ走査せしめることにより所定の外形
を有するシート状の硬化層を形成し、かつ、このような
硬化層を順次積層して行くことによって立体像を形成す
る立体像形成方法に関するものであり、ビームスポット
の走査方向を工夫することにより、形成される立体像に
生ずる歪みを無くしあるいは小さく抑えることができる
と共に表面が滑らかな立体像を得ることができるように
した新規な立体像形成方法を提供しようとするものであ
る。

（B.発明の概要）本発明立体像形成方法は、光硬化性溶融樹脂を所定の
露光ビームのビームスポットで露光走査することにより
任意に設計されたものに基づいて立体像を形成する立体
像形成方法、特に、上記ビームスポットをラスタ走査せ
しめることにより所定の外形を有するシート状の硬化層
を形成し、かつ、このような硬化層を順次積層して行く
ことによって立体像を形成する立体像形成方法であっ
て、ビームスポットのラスタ走査のライン方向を１乃至
複数の硬化層の形成が終了する度に異ならせることによ
り、光硬化性溶融樹脂が硬化するときの収縮作用による
反りの方向を一定で無くし、それによって、形成される
立体像に生ずる歪みを無くしあるいは小さく抑えること
ができると共に表面が滑らかな立体像を得ることができ
るようにしたものである。

（C.従来技術）［第５図、第６図］（a.一般的背景）今日、様々な物品が合成樹脂により形成されており、
その形成は、通常、金型成形により行なわれる。

ところで、物品を合成樹脂により形成するには、先
ず、当該物品の設計を行ない、次いで成形用金型を設計
し、該設計に従って、成形用金型を製作し、製作された
金型を用いて成形を行なうといった様に、実に多くの工
程が必要であり、また、一般に、物品の最終的な形状が
決定するまでには、試作と設計変更が何度となく繰り返
して行なわれ、設計変更が為される度に成形用金型にも
手が加えられあるいは最初から製作し直されることにな
る。

このため、合成樹脂製の物品は製造原価が非常に高く
つくため大量生産する場合でなければ経済的に見合わな
く、また、最終的な生産にこぎつける迄に多くの手間と
長い時間がかかるという難点がある。

（b.露光による立体像形成方法）［第５図、第６図］このような合成樹脂製物品の成形用金型による形成に
対し、近時、光硬化性溶融樹脂を所定の露光ビームで露
光することにより所望の形状の物品を形成する方法が提
案されており、例えば、特開昭62−35966号公報にその
ような形成方法が記載されている。

第５図及び第６図は上記した形成方法を実施するため
の立体像形成装置の一例ａを示すものである。

同図において、ｂは所定の露光ビーム、例えば、紫外
光を照射することによって硬化する光硬化性溶融樹脂ｃ
が貯留された樹脂貯留槽、ｄは水平な板状を為すステー
ジｅを有し図示しない移動手段によって上下方向へ移動
されるエレベータ、ｆは樹脂貯留槽ｂの上方に配置され
露光ビームｇを光硬化性溶融樹脂ｃの液面ｈに対して集
光照射するビームスキャナー、ｉは該ビームスキャナー
ｆ及びエレベータｄの動作を制御する造形コントローラ
であり、該造形コントローラｉには、任意に設計された
立体像イメージ、例えば、第６図に示す立体像イメージ
ｊの三次元方向で分解された形状データ、即ち、当該立
体像イメージｊを一の方向で多数の平面に分解した分解
ピッチデータ（以下、このデータを「階層ピッチデー
タ」と言い、上記分解の方向を「Ｚ方向」と言う。）と
上記多数の平面（以下、「分解平面」と言う。）のそれ
ぞれを互いに直交する２つの方向で分解したデータ（以
下、このデータを「平面データ」と言い、上記２つの分
解方向の一方を「Ｘ方向」、他方を「Ｙ方向」と言
う。）とが入力され、エレベータｄの方向への移動は前
記階層ピッチデータに応じたピッチで行なわれ、また、
ビームスキャナーｆは前記Ｘ方向のラインデータに応じ
たライン走査をＹ方向に該方向のデータに応じてライン
位置を変えながら行なうようにラスタ走査が制御され
る。

そして、立体像の形成が開始されるとき、エレベータ
ｄは、同図に実線で示すように、そのステージｅの上面
が光硬化性溶融樹脂ｃの液面ｈより１階層ピッチ分下方
の位置（以下、「初期位置」と言う。）に来ており、こ
の状態からビームスキャナーｆにおける露光ビームｇの
走査が１つの分解平面について行なわれ、これにより、
ステージｅの上面にある光硬化性溶融樹脂ｃが当該平面
データに応じた形状に硬化される。即ち、１つの平面デ
ータに応じた外形状を有するシート状の硬化層k₁が形成
される。また、エレベータｄはこのようにして１つの硬
化層k₁の形成が完了した後下方へステップ移動され、そ
れにより、既に形成済の硬化層k₁の上に光硬化性溶融樹
脂ｃが１階層ピッチ分の厚さで流れ込むように位置さ
れ、この状態から次の平面データに応じて次の順位の硬
化層k₂の形成が行なわれ、このとき当該硬化層k₂は前の
硬化層k₁と接着結合される。

しかして、既に形成済の硬化層ｋの上面に新たな硬化
層ｋが順次積層されるように形成されて行き、積層され
た多数の硬化層k₁、k₂、・・・、k_nにより、所望の立体
像ｌが形成される。

このような立体像形成方法によれば、成形用金型を用
いなくても、任意に設計された立体像イメージｊに基づ
いて立体像ｌを形成することができるので、立体像ｌの
試作を即座に行なうことができると共に、試作した立体
像ｌの検討結果に応じて設計変更しかつその設計変更し
た立体像イメージｊに基づいて立体像ｌをこれまた即座
に試作することができ、従って、設計から量産段階まで
の開発作業を迅速かつ低コストに行なうことができる。

（D.発明が解決しようとする課題）［第６図、第７図］ところが、従来のこの種の立体像形成方法は、形成さ
れた立体像ｌのラスタ走査のライン方向に直交する表面
が滑らかで無く、また、当該立体像ｌの形状によっては
歪みが生じ、従って、各部の寸法精度が悪いという問題
があった。

即ち、光硬化性溶融樹脂ｃは、一般に、露光硬化する
際に収縮する性質を有しているため、既に形成済の硬化
層ｋの上面に次の硬化層ｋを形成すると、該次の硬化層
ｋの収縮性によって前の硬化層ｋに反りが生ずることに
なり、この反りが重畳されて、最終的に出来上がった立
体像ｌに歪みが生ずることになる。

光硬化性溶融樹脂ｃに対するラスタ走査はライン状の
露光を単位として行なわれるのであり、上記従来の立体
像形成方法にあってはラスタ走査のライン状の露光を行
なうための露光ビームのライン走査の方向が各層におい
て常時一定であるため、設計された立体像イメージが、
例えば、第７図に示す立体像イメージｍのように、その
一部ｎが庇状に張り出した形状を有するものであると、
この張り出した部分ｎが同図に２点鎖線で示すように反
ってしまうことになる。

また、ラスタ走査のライン方向が各層において常時一
定であるため、各ライン走査の始点又は終点が集中して
形成される側面、即ち、形成された立体像ｌのライン方
向に直交する側面だけが滑らかさを欠如するという問題
がある。

（E.課題を解決するための手段）そこで、本発明立体像形成方法は、上記課題を解決す
るために、光スポットで溶融光硬化樹脂の表面を第１の
方向に走査して所定の厚さの硬化層を形成し、その後、
該第１の硬化層の上に所定の厚さの溶融光硬化樹脂層を
位置させて光スポットで該溶融光硬化樹脂層を前記第１
の走査方向と交差する第２の方向に走査して上記第１の
硬化層の上に第２の硬化層を積層させるようにして立体
像を形成したものである。

従って、本発明立体像形成方法によれば、露光ビーム
のラスタ走査によりライン状に硬化される光硬化性溶融
樹脂の収縮の方向が１乃至複数の硬化層毎に異なるの
で、硬化層の反りの方向が不定になり、これによって、
形成される立体像に生ずる歪みを無くしあるいは小さく
抑えることができて寸法精度の高い立体像を形成するこ
とができると共に、ライン走査の方向における始点又は
終点が立体像の一の側面にのみ現われることがなく当該
立体像の表面を滑らかにすることができる。

（F.実施例）［第１図乃至第４図］以下に、本発明立体像形成方法の詳細を説明する。

先ず、本発明立体像形成方法を実施するための立体像
形成装置の一例を説明し、その後で、上記立体像形成装
置を使用しての立体像形成方法を説明する。

（a.立体像形成装置）［第１図乃至第３図］１は立体像形成装置であり、光硬化性溶融樹脂を貯留
した樹脂貯留槽やエレベータ等を有する作業部と、露光
ビームを光硬化性溶融樹脂の液面に対して走査させるビ
ーム走査部と、これら作業部及びビーム走査部の動きを
制御する制御部等から成る。

（ａ−1.作業部）［第１図、第２図］２は作業部である。

３は樹脂貯留槽であり、その内部に光硬化性溶融樹脂
４が貯留されている。

この光硬化性溶融樹脂４は所定の露光ビームを照射さ
れることによって硬化する液状を為し、かつ、既に硬化
された部分の表面上で硬化する際上記表面に固着する接
着性を有することが必要であり、また、粘度はできるだ
け低いことが望ましい。尚、このような特性を有する光
硬化性溶融樹脂４としては、例えば、紫外光硬化型の変
性アクリレートがある。

５はエレベータであり、その下端部に位置した水平な
板状を為すステージ６を有すると共に上端部７にナット
８が固定されており、該ナット８がステッピングモータ
９により回転される送りねじ10と螺合され、該送りねじ
10が回転することによってナット８が送りねじ10に沿っ
て軸方向に移動され、それにより、エレベータ５が上下
方向へ移動される。

尚、このようなエレベータ５は、そのステージ６が前
記樹脂貯留槽３に貯留されている光硬化性溶融樹脂４中
に位置され、また、所定のピッチでステップ移動され
る。

（ａ−2.ビーム走査部）［第１図乃至第３図］ 11はビーム走査部である。

12、13は後述するレーザビーム発振器から発振された
露光ビームを光硬化性溶融樹脂４の液面4aに対して第２
図における左右方向（以下、この方向を「第１の走査方
向」と言う。）と該第１の走査方向と直交する方向（以
下、「第２の走査方向」と言う。）へ走査させるための
ビームスキャナーであり、軸回り方向へ高速で回動され
る回動軸14、14′を有する駆動部15、15′と回動軸14、
14′に固定された揺動ミラー16、16′とを備えている。

そして、これら２つのビームスキャナー12、13の一方
12（以下、「第１のビームスキャナー」と言う。）はそ
の回動軸14の軸方向が上記第２の走査方向と平行な方向
に延びると共に揺動ミラー16が前記エレベータ５のステ
ージ６の略真上に位置され、また、他方のビームスキャ
ナー13（以下、「第２のビームスキャナー」と言う。）
はその回動軸14′の軸方向が上下方向に沿って延びると
共にその揺動ミラー16′の反射面16′ａが第１のビーム
スキャナー12の揺動ミラー16の反射面16a側方から対向
するように配置されている。

17は所定の露光ビーム18、例えば、波長が360nm（ナ
ノメートル）のアルゴンイオンレーザあるいは波長が32
5nmのヘリウムカドミウムレーザを発振するレーザビー
ム発振器、19、20は該レーザビーム発振器17から発振さ
れた露光ビーム18を所定の方向へ向けて順次全反射して
前記第２のビームスキャナー13の揺動ミラー16′に入射
せしめるための全反射ミラー、21はこれら２つの全反射
ミラー19と20との間に配置されたA/Oモジュレータ（音
響光学変調器）、22は一方の全反射ミラー20と第２のビ
ームスキャナー13との間に配置されたフォーカシングレ
ンズ23を有するフォーカス制御器である。

しかして、レーザビーム発振器17から発振された露光
ビーム18は、全反射ミラー19によってA/Oモジュレータ2
1へ向けて反射され、該A/Oモジュレータ21における光偏
向状態によるスイッチング作用によってそこから先の光
路への進行をON−OFF制御され、A/Oモジュレータ21のス
イッチングがONであるときは全反射ミラー20に入射しか
つここでフォーカシングレンズ23へ向けて反射せしめら
れ、このフォーカシングレンズ23を透過する際光束が絞
られ、２つの揺動ミラー16′、16により順次反射されて
光硬化性溶融樹脂４に上方から照射される。そして、こ
のような露光ビーム18はフォーカシングレンズ23によっ
て光束を絞られることにより光硬化性溶融樹脂４の液面
4aに、常時、所定の径のビームスポット18aで集光照射
され、また、第１のビームスキャナー12の回動軸14が回
動してその揺動ミラー16が揺動されたときに光硬化性溶
融樹脂４の液面4aを前記第１の走査方向へ走査され、第
２のビームスキャナー13の回動軸14′が回動してその揺
動ミラー16′が揺動されたときに光硬化性溶融樹脂４の
液面4aを前記第２の走査方向へ走査される。

（ａ−3.制御部）［第１図乃至第３図］ 24は制御部である。

25は前記送りねじ10と平行に配置されたエレベータ位
置検出センサー、26はエレベータ制御器であり、上記セ
ンサー25により検出されたエレベータ５の位置を示す信
号が入力され、該信号に従って、前記ステッピングモー
タ９の回転を制御し、これによって、エレベータ５の位
置が制御される。

27は前記A/Oモジュレータ21のスイッチング動作を制
御するA/Oモジュレータ制御器、28はガルバノコントロ
ーラであり、A/Oモジュレータ制御器27、ビームスキャ
ナー12、13及びフォーカス制御器22の動作は上記ガルバ
ノコントローラ28からの指令によって制御される。

29はこのような制御部24の回路である。

30は図示しない立体像プログラミング装置、例えば、
所謂CADと接続されたメモリであり、立体像プログラミ
ング装置により任意に設計された立体像の前記分解平面
のＸ方向及びＹ方向で分解されたデータ信号が入力され
て一時的に記憶される。

31は上記メモリ30に接続された変調回路であり、メモ
リ30に一時記憶された分解平面の個々のデータ信号はこ
の変調回路31において、ラスタ、即ち、露光ビーム18の
光硬化性溶融樹脂４の液面4aの走査領域に対する位置を
示す座標信号に変換される。

32はこれらメモリ30及び変調回路31を含むビームポジ
ション制御回路である。

33a、33bは上記変調回路31に接続されたD/A変換回
路、34a、34bは上記D/A変換回路33a、33bと各別に接続
されかつ第１のビームスキャナー12、第２のビームスキ
ャナー13と各別に接続されたゲートであり、変調回路31
で変換された座標信号のうちＸ方向、即ち、第１の走査
方向における信号はD/A変換回路33aにおいてアナログ信
号に変換された後ゲート34aを経て第１のビームスキャ
ナー12の駆動部15へ出力され、また、Ｙ方向、即ち、第
２の走査方向における座標信号はD/A変換回路33bにおい
てアナログ信号に変換された後ゲート34bを経て第２の
ビームスキャナー13の駆動部15′へ出力されるようにな
っており、駆動部15、15′はそれぞれの信号の入力が為
されている間揺動ミラー16、16′をそれぞれ揺動するこ
ととなる。

35はライン走査方向切換回路、即ち、露光ビーム18の
ビームスポット18aのラスタ走査のライン方向を第１の
走査方向と第２の走査方向に順次切り換えるための回路
であり、ゲート34a、34bはこのライン走査方向切換回路
35からの指令により開閉され、１つの分解平面について
のラスタ走査が終了する度にライン走査方向が第１の走
査方向又は第２の走査方向に切り換えられる。即ち、あ
る分解平面についての露光ビーム18の走査が第１の走査
方向をライン走査方向として行なわれたとき次の分解平
面についての露光ビーム18の走査は第２の走査方向をラ
イン走査方向として行なわれ、更にその次の分解平面に
ついては第１の走査方向をライン走査方向として行なわ
れる。従って、ライン走査方向を第１の走査方向とする
ときは、ゲート34bは第１の走査方向における１つの走
査ラインの走査が終了する度に一瞬開放され、これによ
って、第２のビームスキャナー13の揺動ミラー16′を少
し回動して露光ビーム18のライン走査のライン位置を第
２の走査方向における隣りのライン上に移動させる。ま
た、ライン走査方向を第２の走査方向とするときは、露
光ビーム18のゲート34aが第２の走査方向における１つ
の走査ラインの走査が終了する度に一瞬開放され、これ
によって、第１のビームスキャナー12の揺動ミラー16を
少し回動して露光ビーム18のライン走査のライン位置を
第１の走査方向における隣りのライン上に移動させる。

36はビームポジション制御回路32と接続されたA/Oモ
ジュレータ駆動回路であり、平面データのうちＸ方向に
おける１つのライン上又はＹ方向における１つのライン
上の信号の有無に応じ制御信号をA/Oモジュレータ21の
トランスジューサへ出力して、レーザビーム発振器17か
ら発振された露光ビーム18のA/Oモジュレータ21から先
の光路をON−OFFする。

37はフォーカス制御回路であり、露光ビーム18が光硬
化性溶融樹脂４の液面4aに対して、常時、所定の径のス
ポットで集光するようにフォーカシングレンズ23のフォ
ーカシング方向における位置を制御する。

38はモータ駆動回路であり、前記ステッピングモータ
９はこのモータ駆動回路38からの指令によって駆動さ
れ、該駆動は物体の形成動作が開始される時はエレベー
タ５をそのステージ６が光硬化性溶融樹脂４の液面4aよ
り１階層ピッチ分下方にある位置（以下、「初期位置」
と言う。）に移動されるように制御され、また、上記形
成動作が開始された後は１つの分解平面についての形成
が終了する度にエレベータ５を１階層ピッチ分下方へ移
動せしめるように制御される。

（b.立体像形成方法）そこで、このような立体像形成装置１を使用しての立
体像の形成は次のように行なわれる。

尚、設計された立体像イメージは第７図に示す立体像
イメージｍと同じ形状を有するものとする。

そこで、形成動作が開始すると、先ず、エレベータ５
が初期位置へと移動され、エレベータ５のステージ６の
上面には光硬化性溶融樹脂４が１階層ピッチ分の厚みで
位置する。

そして、この状態から露光ビーム18の光硬化性溶融樹
脂液面4aのステージ６に対応した領域に対するラスタ走
査が為される。このラスタ走査は当該立体像の各分解平
面について行なわれ、その順序は多数の分解平面のうち
Ｚ方向における両端の２つの分解平面のいずれか一方の
ものから順次行なわれる。また、１つの分解平面につい
ての走査は、ライン走査方向を第１の走査方向又は第２
の走査方向のいずれかとして行なわれ、第１の走査方向
をライン走査方向とするときは第１のビームスキャナー
12の揺動ミラー16を揺動させることによってライン走査
を行ない、１つのライン走査が終了する度に第２のビー
ムスキャナー13の揺動ミラー16′を１ラインピッチに相
当する角度回動させてライン走査のライン位置を第２の
走査方向へ順次移動させて行くことにより当該１つの分
解平面についてのラスタ走査を行ない、また、第２の走
査方向をライン走査方向とするときは第２のビームスキ
ャナー13の揺動ミラー16′を揺動させることによってラ
イン走査を行ない、１つのライン走査が終了する度に第
１のビームスキャナー12の揺動ミラー16を１ラインピッ
チに相当する角度回動させてライン走査のライン位置を
第１の走査方向へ順次移動させて行くことにより当該１
つの分解平面についての走査を行なう。

このようにして、１つの分解平面についての光硬化性
溶融樹脂４の液面4aに対する露光ビーム18のラスタ走査
が終了すると、上記液面4aのうち露光ビーム18がラスタ
走査した領域が硬化し、それにより、第１番目に形成さ
れるべき分解平面の形状と同じ形状を有する１つの硬化
層39が形成される。尚、第４図においてこれら硬化層3
9、39、・・・に一部記載した破線40、40、・・・又は4
1、41、・・・はライン走査方向を示し、例えば、硬化
層39₁は第１の走査方向を露光ビーム18のライン走査方
向として形成されている。

そして、１つの硬化層39が形成されるとエレベータ５
が１階層ピッチ分下方へ移動される。これにより、既に
形成された硬化層39₁上に光硬化性溶融樹脂４が１階層
ピッチ分の厚みで流れ込む。

この状態から次の順位、即ち、第２の分解平面につい
ての露光ビーム18のラスタ走査が行なわれる。この場
合、露光ビーム18のライン走査方向は第２の走査方向と
される。

これにより、第２の分解平面に相当する硬化層39₂が
形成され、該硬化層39₂はこれが硬化するとき、第１の
硬化層39₁の上面に接着される。

しかして、このような動作がくり返し行なわれること
によって多数の硬化層39₁、39₂、・・・、39nがステー
ジ６上で積層され、それによって、立体像イメージｍの
三次元形状と同じ三次元形状を有する立体像42が形成さ
れる。

そして、このように形成された立体像42はその硬化層
39、39、・・・のライン走査方向が隣接する硬化層との
間で互いに直交する方向になっているので、硬化すると
きの収縮作用による反りの方向が一定で無く、従って、
例示した立体像42のように一部その他の部分から張り出
すように位置した部分42aがあっても、この部分42aは著
しい反りが生ずることは無い。

また、ライン走査方向が硬化層１つおきに異なるの
で、このライン走査の始点及び終点が立体像の一の側面
にのみ現われることがなく、従って、どの側面も滑らか
な表面の立体像を得ることができる。

（G.発明の効果）以上に記載したところから明らかなように、本発明立
体像形成方法は、光スポットで溶融光硬化樹脂の表面を
第１の方向に走査して所定の厚さの硬化層を形成し、そ
の後、該第１の硬化層の上に所定の厚さの溶融光硬化樹
脂層を位置させて光スポットで該溶融光硬化樹脂層を前
記第１の走査方向と交差する第２の方向に走査して上記
第１の硬化層の上に第２の硬化層を積層させるようにし
て立体像を形成することを特徴とする。

尚、前記実施例においては、ビームスポットのライン
走査の方向を１つの硬化層の形成が為される毎に切り換
えるようにしたが、場合によっては、２以上のある程度
の数の硬化層の形成が終了する毎にライン走査の方向を
切り換えるようにしても良く、また、走査の方向の切換
が常に一定の硬化層毎に為されることは必要無く、当該
立体像の形状に応じて適宜設定すれば良い。

また、上記実施例において、第１のライン走査の方向
と、第２のライン走査の方向とを直交するようにした
が、これに限らず、例えば、60゜ずらしてライン走査し
て、形成された立体像にライン走査の方向を異にする３
種類の硬化層があるようにしても良い。

そして、本発明立体像形成方法は、前記実施例に示し
た構造を有する立体像形成装置により実施される方法に
特定されることは無く、実施例に示した立体像形成装置
は、あくまでも、本発明立体像形成方法を実施するため
の装置の一例を示したものであり、光硬化性溶融樹脂の
種類や露光ビームの種類あるいは立体像の形状等が実施
例に示したものに限られることは無い。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は本発明立体像形成方法を実施するた
めの立体像形成装置の一例を示すものであり、第１図は
一部を切り欠いて示す全体の斜視図、第２図は作業部を
一部切断して示す正面図、第３図は制御部のブロック回
路図、第４図は形成された立体像を一部硬化層毎に分離
して示す概念図、第５図及び第６図は従来の立体像形成
方法を説明するためのものであり、第５図は立体像形成
装置の一例を示す断面図、第６図は光スポットの走査を
説明するための図、第７図は従来の立体像形成方法にお
ける問題点を説明するための図である。符号の説明４……光硬化樹脂、 4a……光硬化樹脂の表面、 18a……光スポット、 39……硬化層、40……第１の方向、 41……第２の方向

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光スポットで溶融光硬化樹脂の表面を第１
の方向に走査して所定の厚さの硬化層を形成し、その後、該第１の硬化層の上に所定の厚さの溶融光硬化
樹脂層を位置させて光スポットで該溶融光硬化樹脂層を
前記第１の走査方向と交差する第２の方向に走査して上
記第１の硬化層の上に第２の硬化層を積層させるように
して立体像を形成することを特徴とする立体像形成方法