JP5258729B2 - 配線回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施の形態に係る配線回路基板の平面図および断面図である。図1(b)の断面は、図1(a)におけるA−A線断面に相当する。
次に、図1および図2の配線回路基板100の製造方法について説明する。図3および図4は、配線回路基板100の製造工程を示す断面図である。
次に、上記の図4(g)の工程および図4(h)の工程の詳細について説明する。
本実施の形態に係る配線回路基板100においては、配線被覆層4がカバー絶縁層5の下面の一端まで延びるように設けられる。また、配線被覆層4の端面、配線部3bから離間する配線被覆層4の下面の部分、配線被覆層4から離間する配線部3bの上面の部分、および端子部3aの表面を被覆するように端子被覆層6が設けられる。
(5−1)第1の変形例
図6は、配線回路基板100の第1の変形例の拡大断面図である。図6には、図2と同様に、導体パターン3の端子部3aと配線部3bとの境界部周辺が示される。
図7は、配線回路基板100の第2の変形例の拡大断面図である。図7には、図2と同様に、導体パターン3の端子部3aと配線部3bとの境界部周辺が示される。
上記実施の形態では、ベース絶縁層2下に金属基板1が設けられるが、ベース絶縁層2下に金属基板1が設けられなくてもよい。
(7−1)実施例
図3〜図5の製造方法に基づいて、図1および図2の配線回路基板100を作製した。なお、金属基板1の材料としてステンレス鋼を用い、ベース絶縁層3の材料として感光性ポリイミドを用い、導体パターン3の材料として銅を用い、配線被覆層4の材料としてニッケルを用い、カバー絶縁層5の材料として感光性ポリイミドを用い、端子被覆層6の材料として金を用いた。
比較例においては、以下の点を除いて、上記実施例と同様に配線回路基板100を作製した。
図8(a)は、実施例において作製された配線回路基板100の断面のSEM写真を模式的に示した図である。図8(b)は、比較例において作製された配線回路基板100の断面のSEM写真を模式的に示した図である。なお、図8(a),(b)には、導体パターン3の端子部3aと配線部3bとの境界部周辺が示される。
2 ベース絶縁層
3 導体パターン
3a 端子部
3b 配線部
4 配線被覆層
5 カバー絶縁層
6 端子被覆層
Claims (8)
- ベース絶縁層と、
前記ベース絶縁層上に形成され、端子部および配線部を有する導体パターンと、
前記導体パターンの前記配線部を被覆するように形成される配線被覆層と、
前記配線被覆層の少なくとも一部を覆うように前記ベース絶縁層上に形成されるカバー絶縁層と、
前記導体パターンの前記端子部を被覆するように形成される端子被覆層とを備え、
前記導体パターンの前記端子部の厚みおよび前記配線被覆層の端部下における前記配線部の一部分の厚みは、前記配線部の他の部分の厚みよりも小さく、
前記配線被覆層は、前記配線部の前記他の部分上から前記配線部の前記一部分の上方に突出するように延び、前記配線被覆層の突出する部分の下面と前記配線部の前記一部分の上面との間に隙間が形成され、
前記端子被覆層は、前記配線被覆層の前記突出する部分の下面、前記配線部の前記一部分の上面および前記端子部の表面を被覆するように形成され、
前記カバー絶縁層は、前記配線被覆層の端部から前記端子部上にはみ出さないように形成されることを特徴とする配線回路基板。 - 前記端子被覆層は、前記配線被覆層の端面を被覆するように設けられることを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。
- 前記導体パターンは銅を含み、前記配線被覆層はニッケルを含み、前記端子被覆層は金を含むことを特徴とする請求項1または2記載の配線回路基板。
- 前記配線被覆層の厚みが0.01μm以上2μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の配線回路基板。
- ベース絶縁層上に端子部および配線部を有する導体パターンを形成する工程と、
前記導体パターンの前記配線部および前記端子部を被覆するように配線被覆層を形成する工程と、
前記導体パターンの前記端子部上を除く前記配線被覆層の少なくとも一部を覆うように前記ベース絶縁層上にカバー絶縁層を形成する工程と、
前記導体パターンの前記端子部上に形成された前記配線被覆層の部分を除去するとともに、前記配線被覆層の下面と前記端子部に連続する前記配線部の部分の上面との間に隙間が形成されるように前記端子部および前記端子部に連続する前記配線部の部分を所定の深さまで除去する工程と、
前記隙間で露出する前記配線被覆層の下面、前記隙間で露出する前記配線部の上面および前記端子部の表面を被覆するように、電解めっきにより端子被覆層を形成する工程とを備えたことを特徴とする配線回路基板の製造方法。 - 前記除去する工程において、
前記配線被覆層に対するエッチング速度よりも前記導体パターンに対するエッチング速度が大きい選択エッチングを行うことを特徴とする請求項5記載の配線回路基板の製造方法。 - 前記除去する工程において、
前記配線被覆層を溶解させる速度よりも前記導体パターンを溶解させる速度が大きい薬液を用いてエッチングを行うことを特徴とする請求項6記載の配線回路基板の製造方法。 - 前記配線被覆層はニッケルを含み、前記導体パターンは銅を含み、前記薬液は硫酸過水を含むことを特徴とする請求項7記載の配線回路基板の製造方法。
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