JP5935186B2 - 配線基板 - Google Patents
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次に、導体パターンの露出表面を低粗化タイプのナノ黒化処理液でエッチング処理した。このエッチング処理により半導体素子接続パッドの露出面の算術平均粗さRaは、150〜1000nmとなった。
次に、半導体素子接続パッドが形成された第1の絶縁層の上面に第2の絶縁層を積層した。第2の絶縁層としては、第1の絶縁層と実質的に同様のものを用いた。積層には、第2の絶縁層用の接着剤層を含む樹脂シートを絶縁層1の上に真空プレスにより貼り付けた後、150〜180℃の温度で100分間加熱して熱硬化させる方法を採用した。
次に、第2の絶縁層にレーザ加工法を用いてビアホールを形成した。ビアホールは、その下に導体パターンが位置するように、リード接続パッドに対応する位置にそれぞれ1〜3個ずつ形成した。レーザとしては、355nmYAGレーザを用い、出力が0.5W、周波数40KHzのレーザパルスを120ショット照射することにより各ビアホールを穿孔した。ビアホールの直径は、底面側で23〜27μm、開口部側で30〜35μmであった。
続いて、ビアホール内および第2の絶縁層の表面にプラズマを照射し、デスミア処理を行なった後、第2の絶縁層の表面に幅が100μmで長さが1000μmのリード接続パッドを150μmのピッチで100個形成した。また、これと同時に各リード接続パッドの下のビアホール内をビア導体で充填した。リード接続パッドの形成には、上述した半導体素子接続パッドの場合と実質的に同様のセミアディティブ法を実質的に同様の条件で用いた。形成されたリード接続パッドの露出面の算術平均粗さRaは100〜200nmであった。 次に、第2の絶縁層における各半導体素子接続パッドに対応する位置にレーザ加工法を用いて開口部を形成した。レーザとしては、355nmYAGレーザを用い、出力が0.5W、周波数40KHzのレーザパルスを120ショット照射することにより各開口部を穿孔した。開口部の直径は、底面側で23〜27μm、開口部側で30〜35μmであった。また、開口部内に露出する半導体素子接続パッドの算術平均粗さRaがレーザパルスの照射により60〜80nmとなった。
続いて、開口部内および第2の絶縁層の表面にプラズマを照射し、デスミア処理を行なった後、開口部内に露出する半導体素子接続パッドの表面および第2の絶縁層上のリード接続パッドの表面に厚みが6〜8μmの無電解ニッケルめっき層を被着させた。無電解ニッケルめっき液としては、上村工業社製のNPR4を用い、85℃の温度でエア攪拌を行ないながら35分間めっきを行い、実施例1の試料を作成した。
2 第2の絶縁層
3 半導体素子接続パッド
4 リード接続パッド
5 開口部
7 ニッケルめっき層
Claims (1)
- 第1の絶縁層と、該第1の絶縁層上に形成された銅から成る半導体素子接続パッドと、前記第1の絶縁層上に積層されており、前記半導体素子接続パッドを露出させる直径が15〜40μmの円形の開口部を有する第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層上に形成された銅めっき層から成るリード接続パッドとを具備して成る配線基板であって、前記半導体素子接続パッドの表面および前記リード接続パッドの表面にニッケルめっき層が被着されているとともに、前記半導体素子接続パッドの前記ニッケルめっき層との界面の算術平均粗さRaが20〜80nmであり、前記リード接続パッドの前記ニッケルめっき層との界面の算術平均粗さRaが100〜200nmであることを特徴とする配線基板。
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