JP5256796B2 - ラインヘッドおよびそれを用いた画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、潜像担持体の被走査面に対して光を走査するラインヘッドおよび画像形成装置に関する。

潜像担持体である感光体の被走査面に対して光を走査して潜像を形成するラインヘッドは、画像形成装置である電子写真式プリンタの光源として使用されている。ラインヘッドである光プリンタヘッドとしては、例えば特許文献１に記載のように、発光素子である発光ダイオード素子（以下ＬＥＤ：Light Emitting Diode）を複数個配列して構成される発光素子グループ（同特許文献１における「ＬＥＤアレイ」）を用いたものが提案されている。
特許文献１に記載のラインヘッドでは、複数の発光素子グループを並べて配置するとともに、複数の発光素子グループに対して、一対一で複数の結像レンズを対向配置している。さらに、ＬＥＤアレイ間に遮光部材である遮光板を配することで、ＬＥＤアレイからの光が、隣接するＬＥＤアレイあるいは外部に漏れ出て潜像ににじみ等が発生する現象、いわゆるクロストークを低減させる構成が知られている。

特開平６−２７０４６８号公報（４頁、段落番号［００２６］、図１および図２）

発光素子から射出された光は、発光素子グループに対向する結像レンズにより結像し、被走査面に発光素子に対応したスポットが形成される。ここで、例えば結像レンズの光学倍率が０．５倍の場合、発光素子から結像レンズに直接向かう光の量は、発光素子から射出される光の量の２．５％程度である。残りの光はクロストークおよび迷光の原因となる。
発光素子と結像レンズとの間に配置された遮光部材によってクロストークは低減できる。しかし、遮光部材自体によって反射された光は、結像レンズに色々な入射角度で入射し、本来スポットが形成される位置とは大きく外れた位置に向かう。迷光であるこれらの反射された光によって、本来形成されるスポットの領域外にいわゆるゴーストが発生する。ゴーストによって感光体に形成される潜像が不鮮明になり、画像形成装置によって得られる画像の画質も低下する。
本発明の目的は、迷光の発生の少ない遮光部材、それを用いたゴーストの発生が抑えられたラインヘッドおよびそれを用いた画質の低下の少ない画像形成装置を提供することにある。

この発明にかかるラインヘッドは、上記目的を達成するために、複数の発光素子をグループ化した発光素子グループが複数配されたヘッド基板と、第１方向で発光素子グループに対向するレンズが発光素子グループ毎に設けられたレンズアレイと、ヘッド基板とレンズアレイとの間に配された遮光部材とを備え、遮光部材は第１方向に空隙層を隔てて並ぶ複数の遮光板を有しており、各遮光板には、第１方向に貫通する導光孔が第１方向で発光素子グループに対向して設けられており、発光素子グループに対向する各導光孔が第１方向に配されて導光部を形成し、発光素子グループからの光は当該発光素子グループに対向して設けられた導光部を通過してレンズに入射可能であり、第１方向において各遮光板の間の空隙層の厚みは遮光板の厚みの５〜３０倍であるとともに、複数の遮光板のうち最もレンズアレイ側に位置している遮光板のレンズアレイ側の面に、複数の遮光板のそれぞれよりも大きな厚みを有する第２遮光板が当接して配置されていることを特徴としている。

また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、潜像担持体と、発光素子が射出する光をレンズを用いて結像して、潜像担持体の表面を露光するラインヘッドとを備え、ラインヘッドは、複数の発光素子をグループ化した発光素子グループが複数配されたヘッド基板と、第１方向で発光素子グループに対向してレンズを発光素子グループ毎に設けたレンズアレイと、ヘッド基板とレンズアレイとの間に配された遮光部材とを有し、遮光部材は第１方向に空隙層を隔てて並ぶ複数の遮光板を有しており、各遮光板には、第１方向に貫通する導光孔が第１方向で発光素子グループに対向して設けられており、発光素子グループに対向する各導光孔が第１方向に配されて導光部を形成し、発光素子グループからの光は当該発光素子グループに対向して設けられた導光部を通過してレンズに入射可能であり、第１方向において各遮光板の間の空隙層の厚みは遮光板の厚みの５〜３０倍であるとともに、複数の遮光板のうち最もレンズアレイ側に位置している遮光板のレンズアレイ側の面に、複数の遮光板のそれぞれよりも大きな厚みを有する第２遮光板が当接して配置されていることを特徴としている。

このように構成された発明（ラインヘッド、画像形成装置、遮光部材）では、第１方向に並ぶ複数の遮光板が設けられており、各遮光板には、第１方向に貫通する導光孔が設けられている。そして、発光素子グループからの光は、当該発光素子グループに対向して設けられた各導光孔を通過してレンズに入射する。また、この発明では、複数の遮光板は空隙層を隔てて並んでいるため、遮光部材による反射光のレンズへの入射が効果的に抑制されている。つまり、遮光板に設けられた導光孔の縁により反射された光の一部はレンズに入射する場合があるものの、導光孔の縁で反射されずに空隙層に入った光のほとんどは、遮光板の面で反射されてレンズに入射すること無く減衰する。したがって、遮光部材による反射光のレンズへの入射が抑えられており、迷光が画像形成に与える影響（ゴースト等）を抑制することが可能となっている。

また、第１方向において各遮光板の間の空隙層の厚みは遮光板の厚みの５〜３０倍であるように構成しても良い。なぜなら、このように構成した場合、遮光部材による反射光のレンズへの入射がより効果的に抑えられるからである。

また、第１方向に隣り合う２枚の遮光板の間に配されて、当該２枚の遮光板の間の空隙層の第１方向における厚みを規定する空隙層規定部材を備えるように構成しても良い。なぜなら、このように空隙層規定部材を備えることで、空隙層の厚みを高精度に設定することが可能となるからである。

また、複数の遮光板のうち、第１方向においてヘッド基板に最も近い遮光板と、ヘッド基板との間にはギャップが設けられているように構成しても良い。このように構成した場合、導光孔の縁で反射される光を減少させる一方で、ギャップに入る光を増大させることが可能となる。そして、このギャップに入った光も、空隙層に入った光と同様に、そのほとんどが遮光板の面で反射されてレンズに入射すること無く減衰する。したがって、遮光部材による反射光のレンズへの入射がより効果的に抑えられる。

また、第１方向においてヘッド基板に最も近い遮光板とヘッド基板との間に配されて、ギャップの第１方向における厚みを規定するギャップ規定部材を備えるように構成しても良い。なぜなら、このようにギャップ規定部材を備えることで、ギャップの厚みを高精度に設定することが可能となるからである。

また、第１方向においてギャップの厚みは空隙層の厚みよりも大きいように構成しても良い。このように構成することで、ギャップの厚みが十分に確保されるため、導光孔の縁で反射される光を減少させる一方で、ギャップに入る光を増大させることが可能となっており、遮光部材による反射光のレンズへの入射がより効果的に抑えられている。

また、遮光部材は第１方向に並ぶ３枚以上の遮光板を有しており、各遮光板の間の空隙層のうち、第１方向においてヘッド基板に近い空隙層ほど、第１方向に大きい厚みを有しているように構成しても良い。このように構成することで、レンズから比較的はなれた空隙層に迷光を効率的に取り込むことが可能となる。したがって、レンズから比較的離れて配された遮光板の面で迷光を反射させて減衰させることができる。よって、遮光部材による反射光のレンズへの入射がより効果的に抑えられる。

また、発光素子グループに対向して設けられた各導光孔のうち、第１方向において発光素子グループに近い導光孔ほど広い幅を有するように構成しても良い。このように構成することで、露光に必要な光をレンズに効果的に取り込むことができるため、良好な露光が可能となる。

遮光板の面には、光の反射を抑制する反射防止層が施されているように構成しても良い。なぜなら、このように構成することで、迷光をより確実に減衰させることが可能となるからである。

また、反射防止層は黒色メッキであってもよい。なぜなら、このように構成することで、より簡便な構成で反射防止層を形成することができ、ラインヘッドの製造工程の簡素化やラインヘッドの低コスト化が可能となるからである。

発光素子は有機ＥＬ素子であるように構成しても良い。また、有機ＥＬ素子はボトムエミッション型であってもよい。つまり、有機ＥＬ素子はＬＥＤ等と比較して光量が少ない。特に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子では、より光量が少なくなる傾向にある。したがって、これらの構成に対しては、本発明を適用して、上述のような迷光の画像へ影響を極力抑制することが好適である。

本発明の遮光部材は、複数の遮光板と、前記遮光板の厚さ方向に形成された複数の導光孔とを備え、前記遮光板は、前記導光孔が連通するように、空隙層を介して重ねられていることを特徴とする。

この発明によれば、遮光部材の連通した導光孔に入射した光は、複数の遮光板に形成された導光孔の内面のみで反射する。一方、遮光板間の空隙層に向かった光は遮光板によって入射方向に反射される。また、遮光板間の空隙層に向かった光は複数の反射によって減衰する。したがって、反射によって遮光部材を通過する迷光の少ない遮光部材が得られる。

本発明では、前記空隙層の厚さは、前記遮光板の厚さの５〜３０倍であるのが好ましい。
この発明では、遮光板の厚さ方向に形成した導光孔の内面の高さと比較して、空隙層の厚さが５〜３０倍と厚いので、導光孔の内面で反射する光の量が、空隙層に向かう光の量と比較して小さく、より遮光部材を通過する迷光の少ない遮光部材が得られる。

本発明では、前記遮光部材は、重ねられた前記遮光板の最も外側の遮光板のどちらか一方側に凹部を備えるのが好ましい。
この発明では、凹部側から入射した光は凹部に向かう量が多くなり、導光孔の内面での反射がより抑えられる。

本発明では、前記凹部の深さが前記空隙層の厚みと比較して深いのが好ましい。 この発明では、光の入射した近くの導光孔の内面で反射した光の単位面積当りの反射光量は、光の入射位置から遠い導光孔の内面での反射より多い。凹部の深さが空隙層の厚さと比較して深いので、凹部側から入射した光の凹部に向かう量がより多くなり、より遮光部材を通過する迷光の少ない遮光部材が得られる。

本発明では、前記遮光板間に設けられた前記空隙層の厚みが、前記凹部に向かうにしたがって厚くなっているのが好ましい。
この発明では、凹部に向かうにしたがって空隙層の厚みも厚くなるので、凹部側から入射した光の空隙層に向かう量がより多くなり、より遮光部材を通過する迷光の少ない遮光部材が得られる。

本発明では、前記遮光板に設けられた前記導光孔の大きさが、前記凹部に向かうにしたがって大きくなっているのが好ましい。
この発明では、凹部側から入射する光を多く取り入れるとともに、凹部側から入射した光の反射をより抑えられる。

本発明のラインヘッドは、基板と、発光素子を複数個有するとともに、前記基板に離散的に並べて配置された複数の発光素子グループと、前記発光素子グループに対して一対一で対向して配置されるとともに、それぞれが対向する前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子から射出される光を被走査面に結像する複数の結像レンズと、前記基板と前記結像レンズとの間に遮光部材とを有し、前記遮光部材は、複数の遮光板と、前記遮光板の厚さ方向に形成された複数の導光孔とを備え、前記遮光板は、前記導光孔が前記発光素子グループと対向する前記結像レンズとの間で連通するように、空隙層を介して重ねられていることを特徴とする。

この発明によれば、発光素子から射出された光は、遮光部材の連通した導光孔に入射し、複数の遮光板に形成された導光孔の内面で反射する。一方、遮光板間の空隙層に向かった光は遮光板によって入射方向に反射される。さらに、遮光板間の空隙層に向かった光は複数の反射によって減衰する。したがって、導光孔の内面で反射して遮光部材を通過する迷光の発生が少なくなり、結像レンズに入射する迷光によるゴーストの発生が抑えられたラインヘッドが得られる。

本発明では、前記空隙層の厚さは、前記遮光板の厚さの５〜３０倍であるのが好ましい。
この発明では、前述の効果を有する遮光部材を有しているので、前述の効果をより達成できるラインヘッドが得られる。

本発明では、前記遮光板は、前記基板に対向する面に凹部を備えているのが好ましい。 この発明では、前述の効果を有する遮光部材を有しているので、前述の効果をより達成できるラインヘッドが得られる。

本発明では、前記凹部の深さが前記空隙層の厚みと比較して深いのが好ましい。 この発明では、前述の効果を有する遮光部材を有しているので、前述の効果をより達成できるラインヘッドが得られる。

本発明では、前記遮光板間に設けられた前記空隙層の厚みが、前記凹部に向かうにしたがって厚くなっているのが好ましい。
この発明では、前述の効果を有する遮光部材を有しているので、前述の効果をより達成できるラインヘッドが得られる。

本発明では、前記遮光板に設けられた前記導光孔の大きさが、前記凹部に向かうにしたがって大きくなっているのが好ましい。
この発明では、前述の効果を有する遮光部材を有しているので、前述の効果をより達成できるラインヘッドが得られる。

本発明の画像形成装置は、その表面が副走査方向に搬送される潜像担持体と、前記潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する上述のラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えていることを特徴とする。

この発明によれば、画像形成装置が前述の効果を達成できる露光手段としてのラインヘッドを有しているので、被走査面である潜像担持体表面にゴーストの発生が抑えられたスポットが形成される。したがって、潜像が鮮明になり、画質の低下の少ない画像形成装置が得られる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
図１は、本実施形態にかかる画像形成装置１を模式的にかつ部分的に示す図である。画像形成装置１は、トナー粒子を液体キャリアに分散させた液体現像剤を用いて画像を形成する装置である。なお、回転する部材については、回転方向を実線矢印で示した。 図１において、画像形成装置１は、中間転写媒体である無端状の中間転写ベルト１０と、中間転写ベルト１０を張架する駆動ローラ１１および従動ローラ１２と、２次転写装置１４と、中間転写ベルトクリーニング装置１５と１次転写ユニットとを備えている。 １次転写ユニットは、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）およびブラック（Ｋ）のそれぞれの色に対応した、１次転写ユニット５０Ｙ、１次転写ユニット５０Ｍ、１次転写ユニット５０Ｃおよび１次転写ユニット５０Ｋを備えている。以下、各色に対応する装置、部材等についても、装置、部材等の符号にそれぞれ各色を表すＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋを付して表記する。

なお、図示しないが、画像形成装置１は２次転写を行う従来の一般的な画像形成装置と同様に、２次転写装置１４より転写材搬送方向上流側に、例えば紙等の転写材を収納する転写材収納装置と、この転写材収納装置からの転写材を２次転写装置１４へ搬送供給するローラ対とを備えている。図１において、転写材の搬送方向は、破線矢印で示した。また、この画像形成装置１は、２次転写装置１４より転写材搬送方向下流側に定着装置および排紙トレイを備えている。

図１において、中間転写ベルト１０は、互いに離間して配設された一対の駆動ローラ１１および従動ローラ１２に張架されて、反時計回りに回転可能に設けられている。この中間転写ベルト１０は、紙等の転写材への２次転写の転写効率を向上させるうえで弾性中間転写ベルトにすることが好ましい。
また、画像形成装置１では、各１次転写ユニット５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋは、中間転写ベルト１０の回転方向上流側から色Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの順に配設されているが、色Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの配置順は任意に設定することができる。なお、中間転写ベルト１０は中間転写ドラムで構成することもできる。

中間転写ベルト１０の駆動ローラ１１側には２次転写装置１４が設けられ、また中間転写ベルト１０の従動ローラ１２側には中間転写ベルトクリーニング装置１５が設けられている。
２次転写装置１４は、２次転写ローラ４３を備えている。この２次転写ローラ４３は、駆動ローラ１１に掛けられた中間転写ベルト１０に紙等の転写材を当接させて、中間転写ベルト１０上の各色のトナー像が合わせられたカラーのトナー像を転写材に転写するものである。その場合、駆動ローラ１１は２次転写時のバックアップローラとしても機能する。
また、２次転写装置１４は、２次転写ローラクリーナ４６と２次転写ローラクリーナ回収液貯留容器４７とを備えている。２次転写ローラクリーナ４６は、ゴム等の弾性体からなる。そして、この２次転写ローラクリーナ４６は２次転写ローラ４３に当接されて２次転写後に２次転写ローラ４３の表面に残留する液体現像剤を掻き落として除去する。また、２次転写ローラクリーナ回収液貯留容器４７は、２次転写ローラクリーナ４６によって２次転写ローラ４３から掻き落とされた液体現像剤を回収して貯留する。

中間転写ベルトクリーニング装置１５は、中間転写ベルトクリーナ４４と中間転写ベルトクリーナ回収液貯留容器４５とを備えている。中間転写ベルトクリーナ４４は中間転写ベルト１０に当接されて２次転写後に中間転写ベルト１０の表面に残留する液体現像剤を掻き落として除去するものである。その場合、従動ローラ１２は中間転写ベルトクリーニング時のバックアップローラとしても機能する。この中間転写ベルトクリーナ４４はゴム等の弾性体からなっている。また、中間転写ベルトクリーナ回収液貯留容器４５は、中間転写ベルトクリーナ４４が中間転写ベルト１０から掻き落とした液体現像剤を回収して貯留するものである。

各１次転写ユニット５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋは、それぞれ対応した現像装置５Ｙ，５Ｍ，５Ｃ，５Ｋと、１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋと、直列に配置されたイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）およびブラック（Ｋ）の潜像担持体である感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋとを備えている。
また、各１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋより中間転写ベルト１０の回転方向下流側の各１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋの近傍には、それぞれ、中間転写ベルトスクイーズ装置１３Ｙ，１３Ｍ，１３Ｃ，１３Ｋが配設されている。

各感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋは、図１に示す例ではいずれも、感光体ドラムから構成されている。そして、これらの感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋは、いずれも作動時に図１に実線矢印で示すように時計回りに回転するようにされている。なお、各感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋは、無端ベルト状に構成してもよい。
各１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋは、それぞれ、中間転写ベルト１０を各感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋに当接させる１次転写用のバックアップローラ３７Ｙ，３７Ｍ，３７Ｃ，３７Ｋを備えている。

以下に、１次転写ユニット５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋについて、１次転写ユニット５０Ｙを例に詳しく説明する。１次転写ユニット５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋの構成要素は、色Ｍ，Ｃ，Ｋにかかるものが異なるだけで構造および配置は、１次転写ユニット５０Ｙと同様である。

図２に、１次転写ユニット５０Ｙの概略拡大図を示した。
感光体２Ｙの周囲には、回転方向上流側から順に、帯電部材３Ｙ、露光手段としてのラインヘッド４Ｙ、現像装置５Ｙ、感光体スクイーズ装置６Ｙ、１次転写装置７Ｙ、および除電装置８Ｙが配設されている。

帯電部材３Ｙは、例えば帯電ローラからなる。帯電部材３Ｙには、図示しない電源装置から液体現像剤の帯電極性と同極性のバイアスが印加される。そして、帯電部材３Ｙは、感光体２Ｙを帯電するようになっている。
ラインヘッド４Ｙは、例えば有機ＥＬ素子、ＬＥＤを用いた走査光学系等から光を感光体２Ｙの表面２００に照射することによって、帯電された感光体２Ｙ上に静電潜像を形成する。また、ラインヘッド４Ｙは、感光体２Ｙから離間配置されている。ラインヘッド４Ｙから引き出された実線矢印で光の照射方向を示した。
なお、走査光学系の走査方向は、図２の紙面に対して垂直な方向を主走査方向ＸＸとし、主走査方向ＸＸに直交し、光が照射される感光体２Ｙの表面２００の接線方向を副走査方向ＹＹとする。

以下に、本実施形態におけるラインヘッド４Ｙを図に基づいて詳しく説明する。 図３は、本実施形態にかかるラインヘッド４Ｙの概略を示す斜視図である。また、図４は、ラインヘッド４Ｙの副走査方向ＹＹの断面図である。
図３において、ラインヘッド４Ｙは、主走査方向ＸＸに配列された発光素子グループ４１０を備えている。発光素子グループ４１０は、複数の発光素子４１１を備えている。これらの発光素子４１１から、図２に示したように、帯電部材３Ｙにより帯電された感光体２Ｙの被走査面である表面２００に対して光が照射され、表面２００に静電潜像が形成される。

図３において、ラインヘッド４Ｙは、主走査方向ＸＸを長手方向とするケース４２０を備えるとともに、かかるケース４２０の両端には、位置決めピン４２１とねじ挿入孔４２２が設けられている。かかる位置決めピン４２１を、図示しない感光体カバーに穿設された位置決め孔に嵌め込むことで、ラインヘッド４Ｙが感光体２Ｙに対して位置決めされている。感光体カバーは、図２に示した感光体２Ｙを覆うとともに感光体２Ｙに対して位置決めされている。また、ねじ挿入孔４２２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、ラインヘッド４Ｙが感光体２Ｙに対して位置決め固定されている。

図３および図４において、ケース４２０は、感光体２Ｙの表面２００に対向する位置に結像レンズが配列されたマイクロレンズアレイ４３０を保持するとともに、その内部に、マイクロレンズアレイ４３０に近い順番で、遮光部としての遮光部材４４０および基板としてのガラス基板４５０を備えている。ガラス基板４５０は透明基板である。
ガラス基板４５０のうら面４５２（ガラス基板４５０が有する２つの面のうち遮光部材４４０に対向するおもて面４５１とは逆側の面）には、複数の発光素子グループ４１０が設けられている。複数の発光素子グループ４１０は、ガラス基板４５０のうら面４５２に、図３に示すように、主走査方向ＸＸおよび副走査方向ＹＹに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に、離散的に並べて配置されている。ここで、複数の発光素子グループ４１０の各々は、図３中の円で囲んだ部分に示すように、複数の発光素子４１１が２次元的に配列して構成されている。

本実施形態では、発光素子として有機ＥＬを用いる。つまり、本実施形態では、ガラス基板４５０のうら面４５２に有機ＥＬを発光素子４１１として配置している。そして、複数の発光素子４１１のそれぞれから感光体２Ｙの方向に射出される光は、ガラス基板４５０を介して遮光部材４４０へ向かう。
発光素子はＬＥＤであってもよい。この場合、基板はガラス基板でなくてもよく、ＬＥＤは、おもて面４５１に設けることができる。

図３および図４において、遮光部材４４０は、遮光板４４５および遮光板４４２が空隙層４４３を介して重ねあわされることによって形成されている。遮光板４４５には遮光板４４１が貼り付けられている。ここで、空隙層４４３は、略同じ厚さである。
遮光板４４１および遮光板４４２には、複数の発光素子グループ４１０に対して一対一で複数の導光孔４４４が形成されている。また、遮光板４４５には、絞り孔４４６が設けられている。
ガラス基板４５０とガラス基板４５０に対向する遮光板４４１との間には空隙層４４７が設けられている。空隙層４４３および空隙層４４７の厚さは略同じである。
ここで、空隙層４４７は、遮光部材４４０を単体として取り出した場合には、凹部（４４７）となる。
遮光板４４１および各遮光板４４２に設けられた導光孔４４４と遮光板４４５に設けられた絞り孔４４６が連通するように、遮光板４４１，４４２および遮光板４４５は空隙層４４３を介して重ねられている。本実施形態では、ガラス基板４５０に対する垂線と平行な線（図中一点差線で示した）を中心軸として連通するように重ねられている。

図３および図４において、発光素子グループ４１０に属する発光素子４１１から射出された光は、該発光素子グループ４１０に一対一で対応する導光孔４４４および絞り孔４４６によって、マイクロレンズアレイ４３０に導かれる。そして、遮光部材４４０に設けられた導光孔４４４を通過した光は、２点鎖線で示すように、マイクロレンズアレイ４３０により、感光体２Ｙの表面２００にスポットとして結像されることとなる。

図４に示すように、固定器具４６０によって、裏蓋４７０はガラス基板４５０を介してケース４２０に押圧されている。つまり、固定器具４６０は、裏蓋４７０をケース４２０側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋４７０を押圧することで、ケース４２０の内部を光密に（つまり、ケース４２０内部から光が漏れないように、および、ケース４２０の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具４６０は、図３に示すケース４２０の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ４１０は、封止部材４８０により覆われている。

本実施形態において、例えば遮光板４４１の厚みは０．４０ｍｍ程度で、遮光板４４２，４４５の厚みは０．０３ｍｍである。遮光板４４１および４４２への導光孔４４４および絞り孔４４６の形成は、エッチング加工、プレス加工によって行うことができる。これらの孔の径は異なるものの、１ｍｍ程度であり、孔間の距離は、０．１０ｍｍ〜０．１６ｍｍである。よく知られているように、材質が金属で孔間の距離が板厚の１．５倍程度であれば、複数の孔をプレス加工で抜くことができる。
本実施形態では、導光孔４４４の径は全て１．００ｍｍとし、絞り孔４４６を０．８０ｍｍとした。
遮光板４４１，４４２および４４５を形成する材料には、金属、例えばリン青銅のほか、合成樹脂、セラミック等を用いることができる。合成樹脂、セラミックの場合は、成形により形成することができる。

図５は、マイクロレンズアレイ４３０の概略を示す斜視図である。また、図６は、マイクロレンズアレイ４３０の主走査方向ＸＸの断面図である。
マイクロレンズアレイ４３０は、ガラス基板４３１を有するとともに、ガラス基板４３１を挟むように一対一で配置された２枚のレンズ４３２，４３３により構成されるレンズ対を複数有している。なお、これらレンズ４３２，４３３は樹脂により形成することができる。

図６において、ガラス基板４３１のおもて面４３４には複数のレンズ４３２が配置されるとともに、複数のレンズ４３２に一対一で対応するように、複数のレンズ４３３がガラス基板４３１のうら面４３５に配置されている。また、レンズ対を構成する２枚のレンズ４３２，４３３は、相互に図中一点差線で示した光軸ＯＡを共通にする。また、これら複数のレンズ対は、図３に示した複数の発光素子グループ４１０に一対一で配置されている。なお、この明細書では、一対一の対を成すレンズ４３２，４３３と、かかるレンズ対によって挟まれたガラス基板４３１とから成る光学系を「マイクロレンズＭＬ」と称することとする。結像レンズとしてのマイクロレンズＭＬは、発光素子グループ４１０の配置に対応して、主走査方向ＸＸおよび副走査方向ＹＹに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。

図７は、複数の発光素子グループ４１０の配置を示す図である。
本実施形態では、主走査方向ＸＸに４個の発光素子４１１を所定間隔ごとに並べて構成される発光素子列Ｌ４１１を、副走査方向ＹＹに２列並べて、１つの発光素子グループ４１０を構成している。つまり、同図の２点鎖線の円形で示される１つのマイクロレンズＭＬの外径の位置に対応して８個の発光素子４１１が、発光素子グループ４１０を構成している。そして、複数の発光素子グループ４１０は次のように配置されている。

主走査方向ＸＸに発光素子グループ４１０を所定個数（２個以上）並べて構成される発光素子グループ列Ｌ４１０（グループ列）が副走査方向ＹＹに３列並ぶように、発光素子グループ４１０は２次元的に配置されている。また、全ての発光素子グループ４１０は、互いに異なる主走査方向位置に配置されている。さらに、主走査方向位置が隣り合う発光素子グループ（例えば、発光素子グループ４１０Ｃ１と発光素子グループ４１０Ｂ１）の副走査方向位置が互いに異なるように、複数の発光素子グループ４１０は配置されている。
なお、主走査方向位置および副走査方向位置とはそれぞれ注目する位置の主走査方向成分および副走査方向成分を意味する。また、本明細書において「発光素子グループの幾何重心」とは、同一の発光素子グループ４１０に属する全ての発光素子４１１の位置の幾何重心を意味する。以後、幾何重心の位置を幾何重心位置Ｅ０と表す。

図８には、ガラス基板４５０、遮光部材４４０およびマイクロレンズアレイ４３０付近の部分拡大断面図を示した。部分拡大断面図中には、発光素子グループ４１０から射出された光の進む様子を合わせて示した。

図８において、図７に示した発光素子グループ４１０の配置に対応して、遮光部材４４０に導光孔４４４および絞り孔４４６ａ，４４６ｂが設けられるとともに、マイクロレンズＭＬが配置される。つまり、本実施形態においては、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０と、導光孔４４４および絞り孔４４６ａの中心軸と、図６に示したマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡとは、略一致するように構成されている。そして、発光素子グループ４１０から射出された光は、対応する導光孔４４４および絞り孔４４６ｂを通過してマイクロレンズアレイ４３０に入射するとともに、マイクロレンズＭＬにより、図４に示した感光体２Ｙの表面２００にスポットとして結像される。

図８において、ガラス基板４５０のうら面４５２に、複数の発光素子グループ４１０が離散的に並べて配置されている。
遮光部材４４０は、その一方面がガラス基板４５０のおもて面４５１に対向するとともにその他方面がマイクロレンズアレイ４３０に対向するように配置されている。

発光素子グループ４１０から射出された光のうち、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０から射出される光の光路を実線で、幾何重心位置Ｅ０から最も距離の離れた位置Ｅ１から射出される光の光路を破線で表した。２点鎖線は、遮断された光を示している。 かかる光路が示すように、各位置から射出された光は、ガラス基板４５０のうら面４５２に入射した後、ガラス基板４５０のおもて面４５１から射出される。そして、ガラス基板４５０のおもて面４５１から射出された光は、導光孔４４４および絞り孔４４６ａ，４４６ｂを通過し、マイクロレンズアレイ４３０を透過して、図２および図４に示した被走査面である感光体２Ｙの表面２００に到達する。

以下に、光路について詳しく説明する。
例えば、位置Ｅ１から射出された光のうち、絞り孔４４６ａに向かう光４１２，４１３，４１４は、絞り孔４４６ａを透過して、マイクロレンズＭＬに到達する。ここで、導光孔４４４の径の大きさは、絞り孔４４６ａ内に向かう光を妨げない大きさに形成されている。
絞り孔４４６ａ，４４６ｂは、マイクロレンズＭＬに入射する光を規定している。したがって、絞り孔４４６ａ，４４６ｂによって、光量、焦点深度等の調整が可能になる。また、遮光板４４１が厚くなっているのは、隣り合うマイクロレンズＭＬへ光が漏れるのを防ぐためである。

次に、位置Ｅ１から射出される光を例に、空隙層４４３に向かう光について説明する。 例えば、光４１５，４１６は空隙層４４３に向かい、遮光板４４２のガラス基板４５０に対向する面で反射される。反射によって光４１５，４１６の光量は減衰する。さらに、反射した光４１５，４１６は遮光板４４２のマイクロレンズアレイ４３０に対向する面でも反射される。したがって、遮光板４４２の面によって複数回反射した光の光量はより減衰する。
導光孔４４４の内面の面積と比較して、空隙層４４３の厚さが厚いので、導光孔４４４の内面で反射される光の光量は少ない。ここで、空隙層４４３の厚さは、遮光板４４１の厚さよりも厚く、５倍以上あるのが導光孔４４４の内面で反射される光の光量を減少でき好ましい。空隙層４４３の厚さの上限は、光学系で定まる発光素子グループ４１０からマイクロレンズアレイ４３０までの距離、つまり、遮光部材４４０の厚さと遮光板４４２の厚さおよび枚数によって決まるが３０倍以下が好ましい。
また、反射によって光４１５，４１６の強度をより効果的に減衰させるには、遮光板４４２の面に反射防止層、例えば、よく知られている黒色メッキ等を施すとよい。

本実施形態の光学系は、発光素子グループ４１０を図２および図４に示した感光体２Ｙの表面２００に縮小して結像させるいわゆる縮小光学系である。
また、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０から射出される光は、感光体２Ｙの表面２００と図６に示したマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡとの交点となる結像位置に結像される。これは、上述の通り、本実施形態では、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０がマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡの上に在ることに起因するものである。
また、位置Ｅ１から射出される光は、図６に示す主走査方向ＸＸにおいてマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡを挟んで逆側の位置に結像される。即ち、マイクロレンズＭＬは、反転特性を有するいわゆる倒立光学系である。
さらに、縮小光学系であるので、感光体２Ｙの表面２００では、幾何重心位置Ｅ０から射出される光の結像位置と位置Ｅ１から射出される光の結像位置との距離が、発光素子グループ４１０における幾何重心位置Ｅ０と位置Ｅ１との距離より短くなる。
本実施形態では、マイクロレンズＭＬが、本発明における「結像レンズ」として機能している。

図９は、ラインヘッド４Ｙによるスポット形成動作を示す図である。スポットの集まりによって静電潜像が形成される。
以下に、図７、図９を用いて実施形態におけるラインヘッドによるスポット形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、ここでは主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する場合について説明する。本実施形態では、感光体２Ｙの表面２００を副走査方向ＹＹに搬送しながら、複数の発光素子を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。

図７において、本実施形態のラインヘッド４Ｙでは、副走査方向位置Ｙ１〜Ｙ６の各位置に対応して、副走査方向ＹＹに発光素子列Ｌ４１１が六列配置されている。副走査方向ＹＹの同一の位置にある発光素子列Ｌ４１１は、略同一のタイミングで発光させるとともに、副走査方向ＹＹの異なる位置にある発光素子列Ｌ４１１は、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、副走査方向位置Ｙ１〜Ｙ６の順番で、発光素子列Ｌ４１１を発光させる。そして、感光体２Ｙの表面２００を副走査方向ＹＹに搬送しながら、上述の順番で発光素子列Ｌ４１１を発光させることで、表面２００の主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。

かかる動作を、図７、図９を用いて説明する。最初に、副走査方向ＹＹに最上流の発光素子グループ４１０Ａ１，４１０Ａ２，４１０Ａ３，…に属する副走査方向位置Ｙ１の発光素子列Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」であるマイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図９の「１回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号４１０Ｃ１，４１０Ｂ１，４１０Ａ１，４１０Ｃ２でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ４１０により形成されるスポットであることを示す。

次に、発光素子グループ４１０Ａ１，４１０Ａ２，４１０Ａ３，…に属する副走査方向位置Ｙ２の発光素子列Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図９において、「２回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、感光体２Ｙの表面２００の搬送方向が副走査方向ＹＹであるのに対して、副走査方向ＹＹの下流側の発光素子列Ｌ４１１から順番に（つまり、副走査方向位置Ｙ１，Ｙ２の順番に）発光させたのは、マイクロレンズＭＬが反転特性を有することに対応するためである。

次に、副走査方向ＹＹの上流側から２番目の発光素子グループ４１０Ｂ１，４１０Ｂ２，４１０Ｂ３，…に属する副走査方向位置Ｙ３の発光素子列Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図９の「３回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。

次に、発光素子グループ４１０Ｂ１，４１０Ｂ２，４１０Ｂ３，…に属する副走査方向位置Ｙ４の発光素子列Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図９の「４回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。

次に、副走査方向ＹＹ最下流の発光素子グループ４１０Ｃ１，４１０Ｃ２，４１０Ｃ３，…に属する副走査方向位置Ｙ５の発光素子列Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図９の「５回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。

そして最後に、発光素子グループ４１０Ｃ１，４１０Ｃ２，４１０Ｃ３，…に属する副走査方向位置Ｙ６の発光素子列Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図９の「６回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、１〜６回目までの発光動作を実行することで、主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。

次に、図２に戻って現像装置５Ｙについて説明する。現像装置５Ｙは、感光体２Ｙに形成された静電潜像を液体現像剤２１Ｙによって現像する。
図２において、現像装置５Ｙは、それぞれ、現像剤供給部１６Ｙと、現像ローラ１７Ｙと、コンパクションローラ１８Ｙと、現像ローラクリーナ１９Ｙと、現像ローラクリーナ回収液貯留部２０Ｙとから構成されている。

現像剤供給部１６Ｙは、それぞれ、トナー粒子および不揮発性の液体キャリアからなる液体現像剤２１Ｙを収納する現像剤容器２２Ｙと、現像剤汲み上げローラ２３Ｙと、アニロクスローラ２４Ｙと、現像剤規制ブレード２５Ｙとからなっている。

現像剤容器２２Ｙ内に収納される液体現像剤２１Ｙにおいて、トナーとしては、トナーに使用される公知の熱可塑性樹脂中へ同じく公知の顔料等の着色剤を分散させた例えば平均粒径１μｍの粒子を用いることができる。また、低粘性低濃度の液体現像剤を得るには、液体キャリアとして、例えば、有機溶媒、フェニルメチルシロキサン、ジメチルポリシロキサンおよびポリジメチルシクロシロキサン等の引火点２１０℃以上のシリコーンオイル、鉱物油等の絶縁性液体キャリアを用いることができる。そして、液体現像剤２１Ｙはトナー粒子を液体キャリアへ分散剤とともに添加し、トナー固形分濃度を約２０％としたものである。

現像剤汲み上げローラ２３Ｙは、それぞれ、現像剤容器２２Ｙ内の液体現像剤２１Ｙを汲み上げてアニロクスローラ２４Ｙに供給するローラである。現像剤汲み上げローラ２３Ｙは、図２において矢印で示す時計回りに回転するようにされている。また、アニロクスローラ２４Ｙは、円筒状の部材で表面に微細かつ一様に螺旋状の溝を形成したローラである。溝の寸法は、例えば、溝ピッチが約１３０μｍ、溝深さが約３０μｍに設定される。もちろん、溝の寸法はこれらの値に限定されることはない。アニロクスローラ２４Ｙは、現像ローラ１７Ｙと同じ回転方向で図２において矢印で示す反時計回りに回転するようにされている。なお、アニロクスローラ２４Ｙは、いずれも現像ローラ１７Ｙと連れ回りで時計回りに回転するようにすることもできる。すなわち、アニロクスローラ２４Ｙの回転方向は、限定されず任意である。

現像剤規制ブレード２５Ｙは、アニロクスローラ２４Ｙの表面に当接して設けられている。これらの現像剤規制ブレード２５Ｙは、アニロクスローラ２４Ｙの表面に当接する、ウレタンゴム等からなるゴム部と、このゴム部を支持する金属等の板とから構成されている。そして、現像剤規制ブレード２５Ｙは、アニロクスローラ２４Ｙの溝部以外の表面に付着する液体現像剤２１Ｙをゴム部で掻き落として除去する。したがって、アニロクスローラ２４Ｙは、それらの溝部内に付着する液体現像剤２１Ｙのみを各現像ローラ１７Ｙに供給するようになっている。

現像ローラ１７Ｙは、例えば鉄等金属シャフトの外周部に、導電性ウレタンゴム等の導電性樹脂層や導電性ゴム層からなる所定幅の円筒状の導電性弾性体を備えたものである。これらの現像ローラ１７Ｙは感光体２Ｙに当接され、かつ図２において矢印で示すように反時計回りに回転するようにされている。

コンパクションローラ１８Ｙは、それらの外周面が対応する現像ローラ１７Ｙの外周面に当接されて配置されている。このとき、コンパクションローラ１８Ｙと現像ローラ１７Ｙとは互いに所定量の食い込みになっている。

そして、コンパクションローラ１８Ｙは、図２において矢印で示すように時計回りに回転するようにされている。そして、コンパクションローラ１８Ｙはそれぞれ電圧を印加されて、対応する現像ローラ１７Ｙを帯電するようになっている。その場合、コンパクションローラ１８Ｙへの印加電圧は、それぞれ直流電圧（ＤＣ）に設定されている。コンパクションローラ１８Ｙへの印加電圧は、それぞれ直流電圧（ＤＣ）に交流電圧（ＡＣ）が重畳された電圧に設定することもできる。

これらのコンパクションローラ１８Ｙによる現像ローラ１７Ｙの帯電で、コンパクションローラ１８Ｙは、それぞれ、現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙに対して接触転圧を行う。

コンパクションローラ１８Ｙによる接触転圧で、それぞれ、現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙが現像ローラ１７Ｙに押し付けられる。

コンパクションローラ１８Ｙには、それぞれ、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｙと、コンパクションローラクリーナ回収液貯留部２７Ｙとが設けられている。これらのコンパクションローラクリーナブレード２６Ｙは、それぞれ対応するコンパクションローラ１８Ｙの表面に当接する例えばゴム等で構成され、コンパクションローラ１８Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙを掻き落として除去するためのものである。さらに、コンパクションローラクリーナ回収液貯留部２７Ｙは、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｙによってコンパクションローラ１８Ｙから掻き落とされた液体現像剤２１Ｙを貯留するタンク等の容器から構成されている。

また、現像ローラクリーナ１９Ｙは、現像ローラ１７Ｙの表面に当接する例えばゴム等で構成され、現像ローラ１７Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙを掻き落として除去するためのものである。さらに、現像ローラクリーナ回収液貯留部２０Ｙは、それぞれ、現像ローラクリーナ１９Ｙによって現像ローラ１７Ｙから掻き落とされた液体現像剤２１Ｙを貯留するタンク等の容器から構成されている。

さらに、画像形成装置１は、それぞれ液体現像剤２１Ｙを現像剤容器２２Ｙに補給する現像剤補給装置２８Ｙを備えている。これらの現像剤補給装置２８Ｙは、それぞれ、トナータンク２９Ｙと、キャリアタンク３０Ｙと、撹拌装置３１Ｙとからなっている。

トナータンク２９Ｙには、それぞれ高濃度液体トナー３２Ｙが収納されている。また、キャリアタンク３０Ｙには、液体キャリア（キャリアオイル）３３Ｙが収納されている。さらに、撹拌装置３１Ｙには、トナータンク２９Ｙからの所定量の高濃度液体トナー３２Ｙとキャリアタンク３０Ｙからの所定量の液体キャリア３３Ｙとが供給されるようになっている。

そして、撹拌装置３１Ｙは、供給された高濃度液体トナー３２Ｙおよび液体キャリア３３Ｙをそれぞれ混合撹拌して現像装置５Ｙで使用する液体現像剤２１Ｙを作製する。その場合、液体現像剤２１Ｙ全体の粘度は１００ｍＰａｓ〜１０００ｍＰａｓであり、また液体キャリア（キャリアオイル）単体の粘度は１０ｍＰａｓ〜２００ｍＰａｓであることが好ましい。粘度の測定方法は、例えば粘弾性測定装置ＡＲＥＳ（ＴＡインストルメント・ジャパン製）を用いて測定する。撹拌装置３１Ｙで作製された液体現像剤２１Ｙは、それぞれ現像剤容器２２Ｙに供給されるようになっている。

感光体スクイーズ装置６Ｙは、スクイーズローラ３４Ｙと、スクイーズローラクリーナ３５Ｙと、スクイーズローラクリーナ回収液貯留容器３６Ｙとから構成されている。スクイーズローラ３４Ｙは、それぞれ、感光体２Ｙと現像ローラ１７Ｙとの当接部（ニップ部）より感光体２Ｙの回転方向下流側に設置されている。そして、スクイーズローラ３４Ｙは、感光体２Ｙと逆方向（図２において反時計回り）に回転されて、感光体２Ｙ上の液体現像剤２１Ｙを除去するようになっている。

スクイーズローラ３４Ｙとしては、いずれも、金属製芯金の表面に導電性ウレタンゴム等の弾性部材とフッ素樹脂製表層を配した弾性ローラが好適である。また、スクイーズローラクリーナ３５Ｙは、いずれもゴム等の弾性体からなり、それぞれ対応するスクイーズローラ３４Ｙの面に当接され、これらのスクイーズローラ３４Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙを掻き落として除去するものである。さらに、スクイーズローラクリーナ回収液貯留容器３６Ｙは、それぞれ対応するスクイーズローラクリーナ３５Ｙが掻き落とした液体現像剤２１Ｙを貯留するタンク等の容器である。

バックアップローラ３７Ｙは、トナー粒子の帯電極性と逆極性の例えば約−２００Ｖが印加されて、感光体２Ｙ上の液体現像剤２１Ｙで形成された像を中間転写ベルト１０に１次転写する。また、除電装置８Ｙは、１次転写後に感光体２Ｙに残留する電荷を除去するものである。

中間転写ベルトスクイーズ装置１３Ｙは、それぞれ、中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙと、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙと、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ回収液貯留容器４２Ｙとからなっている。中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙは、中間転写ベルト１０上の液体現像剤２１Ｙを回収するものである。また、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙは、それぞれ中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙのローラ上の回収した液体現像剤２１Ｙを掻き取るものである。これらの中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙは、スクイーズローラクリーナ３５Ｙと同様にゴム等の弾性体からなっている。さらに、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ回収液貯留容器４２Ｙは、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙで掻き取った液体現像剤２１Ｙを回収貯留するものである。

画像形成動作が開始されると、感光体２Ｙが帯電部材３Ｙによって一様帯電される。次いで、感光体２Ｙに、ラインヘッド４Ｙによって静電潜像が形成される。
次に、現像装置５Ｙにおいて、イエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙが現像剤汲み上げローラ２３Ｙによってアニロクスローラ２４Ｙに汲み上げられる。アニロクスローラ２４Ｙに付着した液体現像剤２１Ｙは、現像剤規制ブレード２５Ｙによってアニロクスローラ２４Ｙの溝内に適正量付着される。このアニロクスローラ２４Ｙの溝内の液体現像剤２１Ｙは現像ローラ１７Ｙに供給される。

このとき、アニロクスローラ２４Ｙの溝内の液体現像剤２１Ｙの一部がアニロクスローラ２４Ｙの左右両端の方に移動する。さらに、現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙのイエロー（Ｙ）のトナー粒子は、コンパクションローラ１８Ｙによる接触コンパクションでその現像ローラ１７Ｙに押し付けられる。
現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙはコンパクションされた状態で、現像ローラ１７Ｙの回転によって感光体２Ｙの方へ搬送される。

コンパクションローラ１８Ｙによる接触コンパクションが終了してコンパクションローラ１８Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙは、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｙによってコンパクションローラ１８Ｙから除去される。

イエロー（Ｙ）の感光体２Ｙに形成された静電潜像が現像装置５Ｙにおいてイエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙで現像され、感光体２Ｙにイエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙによって像が形成される。現像が終了して現像ローラ１７Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙは、現像ローラクリーナ１９Ｙによって現像ローラ１７Ｙから除去される。感光体２Ｙ上のイエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙによって形成される像は、スクイーズローラ３４Ｙにより感光体２Ｙ上の液体現像剤２１Ｙが回収されてイエロー（Ｙ）のトナー像とされる。さらに、このイエロー（Ｙ）のトナー像は１次転写装置７Ｙで中間転写ベルト１０に転写される。中間転写ベルト１０上のイエロー（Ｙ）のトナー像は、中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙにより中間転写ベルト１０上の液体現像剤２１Ｙが回収されながら、図１に示したマゼンタ（Ｍ）の１次転写装置７Ｍの方へ搬送される。

図１において、次いで、マゼンタ（Ｍ）の感光体２Ｍに形成された静電潜像が現像装置５Ｍにおいて、イエロー（Ｙ）の場合と同様にして搬送されてきたマゼンタ（Ｍ）の液体現像剤で現像され、感光体２Ｍにマゼンタ（Ｍ）の液体現像剤によって像が形成される。
このとき、コンパクションローラ１８Ｍによる接触コンパクションの終了後コンパクションローラ１８Ｍに残留するキャリアは、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｍによってコンパクションローラ１８Ｍから除去される。また、現像が終了して現像ローラ１７Ｍに残留する液体現像剤は、現像ローラクリーナ１９Ｍによって現像ローラ１７Ｍから除去される。

感光体２Ｍ上のマゼンタ（Ｍ）の液体現像剤で形成された像は、スクイーズローラ３４Ｍにより感光体２Ｍ上の液体現像剤が回収されてマゼンタ（Ｍ）のトナー像とされ、このマゼンタ（Ｍ）のトナー像は１次転写装置７Ｍで中間転写ベルト１０にイエロー（Ｙ）のトナー像と色重ねされて転写される。同様にして、色重ねされたイエロー（Ｙ）とマゼンタ（Ｍ）のトナー像は、中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙにより中間転写ベルト１０上の液体現像剤が回収されながらシアン（Ｃ）の１次転写装置７Ｃの方へ搬送される。以下、同様にして、シアン（Ｃ）のトナー像およびブラックのトナー像が中間転写ベルト１０に順次色重ねされて転写され、中間転写ベルト１０にフルカラーのトナー像が形成される。

次いで、２次転写装置１４により、中間転写ベルト１０上のカラーのトナー像が紙等の転写材の転写面に２次転写される。転写材上に転写されたカラーのトナー像は、従来と同様に図示しない定着器によって定着され、フルカラーの定着像が形成された転写材は排紙トレイに搬送されて、カラー画像形成動作が終了する。

図１０は、本実施形態にかかる画像形成装置１によって形成した画像と従来の遮光部材を用いて形成した画像を比較した図である。従来の遮光部材とは、遮光部材に貫通する１つの導光孔が設けられ、導光孔の内面が空隙層によって分断されていない遮光部材である。
従来例では、文字の輪郭が不鮮明で、特に文字の線と線との間の抜けが悪い。 一方、従来例と比較して本実施形態では、文字の輪郭が鮮明で、文字の線と線との間も抜けていることが確認できた。

このような本実施形態によれば、以下の効果がある。
（１）遮光部材４４０の連通した導光孔４４４に入射した光は、複数の遮光板４４２に形成された導光孔４４４の内面のみで反射される。一方、遮光板４４２間の空隙層４４３に向かった光は遮光板４４２によって入射方向に反射される。また、遮光板４４２間の空隙層４４３に向かった光は複数の反射によって減衰される。したがって、反射によって迷光の発生の少ない遮光部材４４０を得ることができる。

（２）遮光板４４２の厚さ方向に形成した導光孔４４４の内面の高さと比較して、空隙層４４３の厚さが５〜３０倍と厚いので、導光孔４４４の内面で反射する光の量が、空隙層４４３に向かう光の量と比較して小さくでき、より迷光の発生の少ない遮光部材４４０を得ることができる。

（３）凹部４４７（空隙層４４７）側から入射した光のうち、凹部４４７に向かう量を多くでき、導光孔４４４の内面での反射をより抑えることができる。

（４）発光素子４１１から射出された光は、遮光部材４４０の連通した導光孔４４４に入射し、複数の遮光板４４２に形成された導光孔４４４の内面で反射する。一方、遮光板４４２間の空隙層４４３に向かった光は遮光板４４２によって入射方向に反射される。さらに、遮光板４４２間の空隙層４４３に向かった光は複数の反射によって減衰される。したがって、導光孔４４４の内面で反射して遮光部材４４０を通過する迷光の発生が少なくなり、マイクロレンズＭＬに入射する迷光によるゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋを得ることができる。

（５）画像形成装置１が前述の効果を達成できるラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋを有しているので、表面２００にゴーストの発生が抑えられたスポットを形成できる。したがって、スポットが鮮明になり、画質の低下の少ない画像形成装置を得ることができる。

（第２実施形態）
本実施形態にかかる画像形成装置およびラインヘッドは、第１実施形態とは遮光部材の構成が異なる。遮光部材以外の構成は第１実施形態と同様である。
図１１は、本発明の第２実施形態にかかるガラス基板４５０、遮光部材４９０およびマイクロレンズアレイ４３０付近の部分拡大断面図である。
図１１において、本実施形態の遮光部材４９０の構成は、遮光板４４５と遮光板４４２との空隙層４４３の厚さｄ１、遮光板４４２間の空隙層４４３の厚さｄ２，ｄ３，ｄ４および遮光板４４２とガラス基板４５０との空隙層４４７の厚さｄ５が異なる。ｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５の関係は、それぞれの間隔がｄ１＜ｄ２＜ｄ３＜ｄ４＜ｄ５となるように、遮光板４４２，４４５は配置されている。その他の遮光部材４９０の構成は、第１実施形態と同様である。

このような実施形態によれば、前述の実施形態の効果に加え以下の効果がある。
（６）光の入射位置近くの導光孔４４４の内面で反射した単位面積当りの反射光量は、光の入射位置から遠い導光孔４４４の内面での反射より多い。凹部４４７（空隙層４４７）の深さが空隙層４４３の厚さと比較して深いので、凹部４４７側から入射した光のうち凹部４４７に向かう量をより多くでき、より迷光の少ない遮光部材４９０、迷光によるゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋ、および画質の低下の少ない画像形成装置を得ることができる。

（７）凹部４４７に向かうにしたがって空隙層４４３の厚みも厚くなるので、凹部４４７側から入射した光のうち空隙層４４３に向かう量をより多くでき、より迷光の少ない遮光部材４９０、迷光によるゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋ、および画質の低下の少ない画像形成装置を得ることができる。

（第３実施形態）
本実施形態にかかる画像形成装置およびラインヘッドは、第２実施形態とは遮光部材の構成が異なる。遮光部材以外の構成は第２実施形態と同様である。
図１２は、本発明の第３実施形態にかかるガラス基板４５０、遮光部材４９１およびマイクロレンズアレイ４３０付近の部分拡大断面図である。
図１２において、本実施形態の遮光部材４９１の構成は、導光孔４４４の大きさが遮光板４４２ごとに異なる。具体的には、マイクロレンズアレイ４３０に一番近い遮光板４４２の導光孔４４４の幅をｗ１として、ガラス基板４５０に向かって遮光板４４２の導光孔４４４の幅をｗ２，ｗ３，ｗ４とすると、それぞれの導光孔の幅はｗ１＜ｗ２＜ｗ３＜ｗ４となっている。遮光板４４５と遮光板４４２との間隔ｄ１、遮光板４４２間の間隔ｄ２，ｄ３，ｄ４および遮光板４４２とガラス基板４５０との間隔ｄ５は、第２実施形態と同様である。

このような実施形態によれば、前述の実施形態の効果に加え以下の効果がある。
（７）凹部４４７側から入射する光を多く取り入れることができ、凹部４４７側から入射した光の反射をより抑えることができる。

（第４実施形態）
本実施形態にかかる画像形成装置およびラインヘッドは、第１実施形態とは遮光部材の構成が異なる。遮光部材以外の構成は第１実施形態と同様である。
図１３は、本発明の第３実施形態にかかる感光体２Ｙ、ガラス基板４５０、遮光部材４９２およびマイクロレンズアレイ４３０付近の部分拡大断面図である。
図１３において、本実施形態の遮光部材４９２は、５枚の遮光板で構成されている。遮光板４４８は同じ厚さで、マイクロレンズアレイ４３０に対向する側の２枚の遮光板４４８は貼り合わされている。遮光板４４８間の空隙層４４９の厚さｄ６は同じ厚さであり、等間隔で遮光板４４８は配置されている。一方、ガラス基板４５０に対向する遮光板４４８とガラス基板４５０との空隙層４４７の厚さｄ７は厚さｄ６よりも大きい。その他の遮光部材４９２の構成は、第１実施形態と同様である。

このような実施形態によれば、以下の効果がある。
（８）同じ厚さ、同じ導光孔を有する遮光板４４８を用いて遮光部材４９２を構成でき、製造が容易で製造コストが低減した遮光部材４９２を得ることができる。

（第５実施形態）
図１４は、本発明の第５実施形態にかかるラインヘッドの部分断面図であり、図３および図７に示したＡ−Ａ線断面図である。つまり、本実施形態のラインヘッド４Ｙ等では、副走査方向ＹＹにおいて互いに異なる位置に配置された３個の発光素子グループ４１０（例えば、発光素子グループ４１０Ａ2、４１０Ｂ2、４１０Ｃ2）から発光素子グループ列が構成されており、この発光素子グループ列を構成する３個の発光素子グループ４１０は主走査方向ＸＸにピッチＰだけ相互にずれている。その結果、発光素子グループ列における３個の発光素子グループ４１０の配列方向Ａ−Ａは、副走査方向ＹＹに対して傾いている。そこで、図１４では、かかるＡ−Ａ線におけるラインヘッド４Ｙ等の断面が示されている。

図１４に示すように、ガラス基板４５０（ヘッド基板）の裏面には、複数の発光素子４４１をグループ化した発光素子グループ４１０が形成されている。この発光素子グループ４１０を構成する発光素子４１１は、ガラス基板４５０裏面に形成された、いわゆるボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。光の進行方向Ｄoa（第１方向）において、ガラス基板４５０に対向する位置にマイクロレンズアレイ４３０が配置されている。マイクロレンズアレイ４３０では、光の進行方向Ｄoaで発光素子グループ４１０に対向する位置にマイクロレンズＭＬが設けられている。このマイクロレンズＭＬは各発光素子グループ４１０毎に対向配置されており、発光素子グループ４１０から射出された光ビームは、対向配置されたマイクロレンズＭＬに入射する。なお、光の進行方向Ｄoaは、発光素子グループ４１０からマイクロレンズＭＬに向う方向であって、主走査方向ＸＸおよび副走査方向ＹＹに直交もしくは略直交する方向である。

ガラス基板４５０とマイクロレンズアレイ４３０との間には遮光部材４４０が設けられている。この遮光部材４４０では、ガラス基板４５０に対向して遮光板４４２、４４５が配置されている。これら、４枚の遮光板４４２（４４２_1、４４２_2、４４２_3、４４２_4）と遮光板４４５とが光の進行方向Ｄoaに並んで配置されている。具体的には、これらの遮光板４４２、４４５は、ガラス基板４５０に近い方から、遮光板４４２_4、４４２_3、４４２_2、４４２_1、４４５の順番で並んでいる。これらの遮光板４４２、４４５の面には、光の反射を抑制する反射防止層として黒色メッキが施されている。各遮光板４４２、４４５の間には空隙層規定部材７１２が介挿されている。この空隙層規定部材７１２は、Ａ−Ａ線方向（換言すれば、副走査方向ＹＹ）の両端に設けられており、この空隙層規定部材７１２により、光の進行方向Ｄoaにおける各遮光板４４２、４４５の間の空隙層４４３の厚みが規定されている。つまり、この実施形態では、遮光板４４２、４４５は、空隙層４４３を隔てて光の進行方向Ｄoaに並んでいる。また、各空隙層４４３の光の進行方向Ｄoaにおける厚みｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４は次の関係式
ｄ1＜ｄ2＜ｄ3＜ｄ4
を満たしている。このように複数の空隙層４４３のうち、ガラス基板４５０に近い空隙層４４３ほど、大きい厚みを有している。

複数の遮光板４４２、４４５のうち、ガラス基板４５０に最も近い遮光板４４２_4と、ガラス基板４５０との間には、ギャップ規定部材７１１が介挿されている。このギャップ規定部材７１１はＡ−Ａ線方向（換言すれば、副走査方向ＹＹ）の両端に設けられており、このギャップ規定部材７１１により、光の進行方向Ｄoaにおける遮光板４４２_4と、ガラス基板４５０との間のギャップ４４７の厚みｄ５が規定されている。また、ギャップ４４７の厚みは、各空隙層４４３の厚みｄ１〜ｄ４よりも大きい。このように本実施形態では、遮光板４４２_4とギャップ規定部材７１１とで囲まれるとともにガラス基板４５０側に開口する空間として、凹部が形成されており、この凹部の深さがギャップ４４７の厚みｄ５に相当している。

遮光板４４５とマイクロレンズアレイ430との間には、遮光板４４１が設けられている。この遮光板４４１は、光の進行方向Ｄoaにおいて遮光板４４５に当接して配置されている。

このように、各遮光板４４２、４４５、４４１は、それぞれの厚み方向が光の進行方向Ｄoaと平行もしくは略平行となるように並べられている。こうして並べられた各遮光板４４２、４４５、４４１には、導光孔４４４が当該方向Ｄoaに貫通形成されている。この導光孔４４４は各発光素子グループ４１０毎に設けられており、光の進行方向Ｄoaにおいて発光素子グループ４１０に対向して穿設されている。したがって、同じ発光素子グループ２９５に対して設けられた各導光孔４４４は、光の進行方向Ｄoaに並ぶこととなる。具体的には、発光素子グループ４１０に近い方から、導光孔４４４_4、４４４_3、４４４_2、４４４_1、４４４_5、４４４_6の順番で、各導光孔は並んでいる。ここで、導光孔４４４_4、４４４_3、４４４_2、４４４_1はそれぞれ、遮光板４４２_4、４４２_3、４４２_2、４４２_1に設けられた導光孔であり、導光孔４４４_5は遮光板４４５に設けられた導光孔であり、導光孔４４４_6は遮光板４４１に設けられた導光孔である。このように、導光孔４４４_4、４４４_3、４４４_2、４４４_1、４４４_5、４４４_6が並んで導光部４４４Ｐが形成されている。したがって、発光素子グループ４１０から射出された光ビームは、当該発光素子グループ４１０に対向して設けられた各導光孔４４４_4、４４４_3、４４４_2、４４４_1、４４４_5、４４４_6を通過して（換言すれば、導光部４４４Ｐを通過して）マイクロレンズＭＬに入射する。なお、各導光孔４４４は、対向するマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡを対称中心とする形状を有している。

導光孔４４４_1、４４４_2、４４４_3それぞれの幅ｗ１〜ｗ３は略同じに設定されている。導光孔４４４_4の幅ｗ４は、幅ｗ１〜ｗ３よりも若干大きく設定されている。また、導光孔４４４_5の幅ｗ５は、幅ｗ１〜ｗ４よりも小さく設定されている。このように、遮光板４４５の導光孔４４４_５の幅ｗ５が設定されているため、導光孔４４４_５はマイクロレンズＭＬへの入射光を絞る開口絞りとして機能している。また、導光孔４４４_6の幅ｗ６は、かかる導光孔４４４_５の幅ｗ５よりも十分大きく設定されており、導光孔４４４_５を通過した光ビームが、遮光板４４１により不要に蹴られないように構成されている。

上述の通り第５実施形態では、光の進行方向Ｄoa（第１方向）に並ぶ複数の遮光板４４２、４４５が設けられており、各遮光板４４２、４４５には、方向Ｄoaに貫通する導光孔４４４が設けられている。しかも、複数の遮光板４４２、４４５は空隙層４４３を隔てて並んでいる。したがって、遮光部材４４０による反射光のマイクロレンズＭＬへの入射が効果的に抑制されている。つまり、遮光板４４２に設けられた導光孔４４４の縁４４４Ｅにより反射された光（例えば、図１４の迷光ＳＬ0）の一部はマイクロレンズＭＬに入射する場合があるものの、導光孔４４４の縁４４４Ｅで反射されずに空隙層４４３に入った光のほとんどは、遮光板４４２の面で反射されてマイクロレンズＭＬに入射すること無く減衰する。図１４を用いて例示すると、迷光ＳＬ1、ＳＬ3、ＳＬ5は、いずれも導光孔４４４の縁４４４Ｅに入射すること無く空隙層４４３に入る。したがって、これらの迷光ＳＬ1、ＳＬ3、ＳＬ5は、遮光板４４２の裏面で反射されて進行方向を逆転するため、遮光板４４２の表面またはガラス基板４５０の表面で再び反射される。このように、迷光ＳＬ1、ＳＬ3、ＳＬ5は複数回反射されるため、その殆んどは減衰してマイクロレンズＭＬに入射しない。このように、第５実施形態では、各遮光板４４２、４４５の間に空隙層４４３が設けられているため、遮光部材４４０による反射光のマイクロレンズＭＬへの入射が抑えられており、迷光が画像形成に与える影響（ゴースト等）を抑制することが可能となっている。

また、上述の議論から理解できるように、空隙層４４３は迷光を減衰させる迷光減衰機能を有すると言える。したがって、迷光のマイクロレンズＭＬへの入射を抑制するとの観点から、導光孔４４４の縁で反射される迷光を減少させる一方、空隙層４４３に入る迷光を増大させることが望ましい。そこで、光の進行方向Ｄoaにおいて各遮光板４４２、４４５の間の空隙層４４３の厚みは遮光板４４２、４４５の厚みの５〜３０倍であるように構成しても良い。このように構成することで、より多くの迷光が空隙層４４３に入ることとなり、迷光のマイクロレンズＭＬへの入射がより効果的に抑えられる。

また、第５実施形態では、光の進行方向Ｄoaに隣り合う２枚の遮光板４４２、４４５（例えば、遮光板４４２_3、４４２_2）の間に配されて、当該２枚の遮光板４４２、４４５の間の空隙層４４３の方向Ｄoaにおける厚み（例えば、ｄ３）を規定する空隙層規定部材７１２が設けられている。したがって、この空隙層規定部材７１２の厚みを調整するだけで、空隙層４４３の厚みを高精度に設定することが可能となっており、第５実施形態は好適である。

また、第５実施形態では、複数の遮光板４４２、４４５のうち、光の進行方向Ｄoaにおいてガラス基板４５０（ヘッド基板）に最も近い遮光板４４２_4と、ガラス基板４５０との間には、ギャップ４４７が設けられている。したがって、導光孔４４４の縁４４４Ｅで反射される迷光を減少させる一方で、ギャップ４４７に入る光を増大させることが可能となる。この理由は次の通りである。

図１５は、ギャップを設けることで奏される作用効果を説明する図であり、主走査方向ＸＸにおける部分断面を示している。同図では、作用効果の理解を容易とするために、遮光板４４２_1とガラス基板４５０との間に十分なギャップ４４７を設けた場合（同図、離間配置）と、ギャップ４４７を殆んど設けない場合（同図、近接配置）とが、比較のために併記されている。ここでは、発光素子グループ４１０の主走査方向ＸＸの端部にある発光素子４１１からの迷光ＳＬ0を考える。同図から明らかなように、発光素子４１１から導光孔４４４の縁４４４Ｅを見込む角度を見込み角θとしたとき、近接配置の場合の見込み角θ１と、離間配置の場合の見込み角θ２との大小関係は、次式
θ１＞θ２
となる。ここで、見込み角θは、発光素子４１１の中心から、導光孔４４４の縁４４４Ｅの方向Ｄoaにおける厚みｄ４４２に対して張る角に相当する。すなわち、遮光板４４２_1をガラス基板４５０に離間配置した場合は、近接配置した場合と比較して、見込み角θが小さいため、導光孔４４４の縁４４４Ｅで反射される迷光ＳＬ0が少なく抑えられる。つまり、ギャップ４４７を設けることで、導光孔４４４の縁４４４Ｅで反射される迷光ＳＬ0を減少させる一方で、ギャップ４４７に入る光を増大させることが可能となる。そして、このギャップ４４７に入った光も、空隙層４４３に入った光と同様に、そのほとんどが遮光板４４２の面で反射されてマイクロレンズＭＬに入射すること無く減衰する。したがって、遮光部材４４０による反射迷光のマイクロレンズＭＬへの入射がより効果的に抑えられる。

また、第５実施形態では、光の進行方向Ｄoaにおいてガラス基板４５０に最も近い遮光板４４２_4とガラス基板４５０との間に配されて、ギャップ７１１の方向Ｄoaにおける厚みｄ５を規定するギャップ規定部材７１１が設けられている。したがって、このギャップ規定部材７１１の厚みを調整するだけで、ギャップ４４７の厚みｄ５を高精度に設定することが可能となっており、第５実施形態は好適である。

また、第５実施形態では、光の進行方向Ｄoaにおいてギャップ４４７の厚みｄ５は空隙層４４３の厚みｄ１〜ｄ４よりも大きく、ギャップ４４７の厚みｄ５が十分に確保されている。したがって、導光孔４４４の縁４４４Ｅで反射される迷光ＳＬ0を減少させる一方で、ギャップ４４７に入る光を増大させることが可能となっており、遮光部材４４０による反射光のマイクロレンズＭＬへの入射がより効果的に抑えられている。

また、第５実施形態では、遮光部材４４０は光の進行方向Ｄoaに並ぶ３枚以上の遮光板４４２、４４５有している。そして、各遮光板４４２、４４５の間の空隙層４４３のうち、方向Ｄoaにおいてガラス基板４５０に近い空隙層４４３ほど、方向Ｄoaに大きい厚みを有している。したがって、マイクロレンズＭＬから比較的はなれた空隙層４４３に迷光を効率的に取り込むことが可能となる。したがって、マイクロレンズＭＬから比較的離れて配された遮光板４４２の面で迷光を反射させて減衰させることができる。よって、遮光部材４４０による反射迷光のマイクロレンズＭＬへの入射がより効果的に抑えられる。

また、第５実施形態では、遮光板４４２、４４５の面には、光の反射を抑制する反射防止層が施されている。したがって、迷光をより確実に減衰させることが可能となっている。しかも、この反射防止層は黒色メッキである。よって、より簡便な構成で反射防止層を形成することができ、ラインヘッド４０Ｙ等の製造工程の簡素化やラインヘッド４０Ｙ等の低コスト化が可能となっている。

また、第５実施形態では、発光素子４１１は有機ＥＬ素子である。かかる有機ＥＬ素子はＬＥＤ等と比較して光量が少ない。しかも、上記実施形態のように、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子では、より光量が少なくなる傾向にある。したがって、このように発光素子４１１が構成されたラインヘッド４０Ｙ等に対しては、本発明を適用して、迷光の画像へ影響を極力抑制することが好適である。

第６実施形態
図１６は、本発明の第６実施形態にかかるラインヘッドの部分断面図であり、図３および図７に示したＡ−Ａ線断面図である。なお、以下では、上述の第５実施形態との差異点について主に説明することとし、共通部分については相当符号を付して説明を省略する。第６実施形態では、ギャップ規定部材７１１および空隙層規定部材７１２が設けられておらず、その代わりに、Ａ−Ａ線の両端部に外枠７１３、７１３が設けられている。これら７１３、７１３は互いに内側を向けて対向しており、各外枠７１３の内側は５つの段７１３１〜７１３５を有する階段状に構成されている。こうして対向する２つの段の上に、遮光板４４２、４４５が架け渡されるようにして載置されている。つまり、互いに対向する段７１３１、７１３１には遮光板４４２_1が載置されており、その他の段の対７１３２、７１３２等にも、同様にして遮光板４４２、４４５が載置されている。

このように遮光板４４２、４４５が階段状の外枠７１３、７１３に載置されているため、複数の遮光板４４２、４４５は空隙層４４３を隔てて並ぶとともに、遮光板４４２_4とガラス基板４５０との間にはギャップ４４７が設けられている。このように第６実施形態では、遮光板４４２_4と外枠７１３、７１３とで囲まれるとともにガラス基板４５０側に開口する空間として、凹部が形成されており、この凹部の深さがギャップ４４７の厚みｄ５に相当している。そして、空隙層４４３の厚さおよびギャップ４４７の厚みは、各段７１３１〜７１３５の高さにより規定されている。

このように、第６実施形態においても、各遮光板４４２、４４５の間に空隙層４４３が設けられているため、遮光部材４４０による反射光のマイクロレンズＭＬへの入射が抑えられており、迷光が画像形成に与える影響（ゴースト等）を抑制することが可能となっている。

また、遮光板４４２_4と、ガラス基板４５０との間には、ギャップ４４７が設けられている。したがって、導光孔４４４の縁４４４Ｅで反射される迷光を減少させる一方で、ギャップ４４７に入る光を増大させることが可能となっている。

その他
なお、本発明は上記した実施形態、変形例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
例えば、上記実施形態では、主走査方向ＸＸに発光素子グループ４１０を所定個数（２個以上）並べて構成される発光素子グループ列Ｌ４１１（グループ列）が副走査方向ＹＹに３列並ぶように、発光素子グループ４１０は２次元的に配置されている。しかし、複数の発光素子グループ４１０の配置の態様は、これに限られるものではなく適宜変更が可能である。

また、上記実施形態では、本発明にかかるラインヘッドを用いて、図７に示すような主走査方向ＸＸに直線状に複数個のスポットを並べて形成している。しかしながら、かかるスポット形成動作は、本発明にかかるラインヘッドの動作の一例を示すものであり、該ラインヘッドが実行可能な動作はこれに限られるものではない。つまり、形成されるスポットは、主走査方向ＸＸに並んで直線状に形成される必要は無く、例えば、主走査方向ＸＸに所定の角度を有するように並べて形成してもよいし、ジグザグ状或いは波状に形成してもよい。

また、上記各実施形態および変形例では、カラー画像形成装置に本発明が適用されているが、本発明の適用対像はこれに限定されるものではなく、いわゆる単色画像を形成するモノクロ画像形成装置に対しても本発明を適用することができる。
さらに、トナー粒子を不揮発性液体キャリアに分散させた液体トナーだけでなく、乾式のトナーを用いた画像形成装置に対しても本発明を適用することができる。

また、上記実施形態では、発光素子４１１としてボトムエミッション型有機ＥＬ素子が用いられているが、発光素子４１１として使用可能な素子はこれに限られない。つまり、トップエミッション型有機ＥＬ素子あるいはＬＥＤを発光素子４１１として用いることも出来る。

また、上記実施形態では、４個の発光素子４１１から成る発光素子列Ｌ４１１を、副走査方向ＹＹに２列並べて、１つの発光素子グループ４１０を構成している。しかしながら、発光素子グループ４１０を構成する発光素子列Ｌ４１１の個数や、発光素子列Ｌ４１１を構成する発光素子４１１の個数はこれに限られない。

また、上記実施形態では、発光素子グループ列Ｌ４１０が副走査方向ＹＹに３列並んでいるが、発光素子グループ列Ｌ４１０の列数はこれに限られない。

また、図１２に示した実施形態では、発光素子グループ４１０に対向して設けられた各導光孔４４４のうち、光の進行方向Ｄoaにおいて発光素子グループ（該当する図面番号がありません）に近い導光孔４４４ほど広い幅を有するように（つまり、ｗ１＜ｗ２＜ｗ３＜ｗ４）となるように構成することで、露光に必要な光をマイクロレンズＭＬに効果的に取り込むようにしている。しかしながら、このような導光孔４４４の幅の設定は、本発明に必須の要件ではなく適宜変更することもできる。

本発明の第１実施形態にかかる画像形成装置を模式的にかつ部分的に示す図。 １次転写ユニットの概略拡大図。 ラインヘッドの概略を示す斜視図。 ラインヘッドの副走査方向の断面図。 マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図。 マイクロレンズアレイの主走査方向の断面図。 複数の発光素子グループの配置を示す図。 ガラス基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の部分拡大断面図。 ラインヘッドによるスポット形成動作を示す図。 本発明の第１実施形態にかかる画像形成装置によって形成した画像と従来の遮光板を用いて形成した画像を比較した図。 本発明の第２実施形態にかかるガラス基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の部分拡大断面図。 本発明の第３実施形態にかかるガラス基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の部分拡大断面図。 本発明の第４実施形態にかかる感光体、ガラス基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の部分拡大断面図。 本発明の第５実施形態にかかるラインヘッドの部分断面図。 ギャップを設けることで奏される作用効果を説明する図。 本発明の第６実施形態にかかるラインヘッドの部分断面図。

符号の説明

１…画像形成装置、 ２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋ…潜像担持体としての感光体、 ４Ｙ…露光手段としてのラインヘッド、 ２００…被走査面としての表面、 ４１０…発光素子グループ、 ４１１…発光素子、 ４３０…マイクロレンズアレイ、 ４４０，４９０，４９１，４９２…遮光部材、 ４４１，４４２，４４５…遮光板、 ４４４…導光孔、 ４４４Ｐ…導光部、 ４４３…空隙層、 ４４７…ギャップ、 ４４７…空隙層および凹部、 ４５０…ガラス基板（ヘッド基板）、 ７１２…空隙層規定部材、 ７１１…ギャップ規定部材、 Ｄoa…光の進行方向（第１方向）

Claims (6)

1. 複数の発光素子をグループ化した発光素子グループが複数配されたヘッド基板と、
   第１方向で前記発光素子グループに対向するレンズが前記発光素子グループ毎に設けられたレンズアレイと、
   前記ヘッド基板と前記レンズアレイとの間に配された遮光部材と
   を備え、
   前記遮光部材は前記第１方向に空隙層を隔てて並ぶ複数の遮光板を有しており、
   前記各遮光板には、前記第１方向に貫通する導光孔が前記第１方向で前記発光素子グループに対向して設けられており、前記発光素子グループに対向する前記各導光孔が前記第１方向に配されて導光部を形成し、
   前記発光素子グループからの光は当該発光素子グループに対向して設けられた前記導光部を通過して前記レンズに入射可能であり、
   前記第１方向において前記各遮光板の間の前記空隙層の厚みは前記遮光板の厚みの５〜３０倍であるとともに、前記複数の遮光板のうち最も前記レンズアレイ側に位置している遮光板の前記レンズアレイ側の面に、前記複数の遮光板のそれぞれよりも大きな厚みを有する第２遮光板が当接して配置されていることを特徴とするラインヘッド。
2. 前記複数の遮光板のうち、前記第１方向において前記ヘッド基板に最も近い遮光板と、前記ヘッド基板との間にはギャップが設けられている請求項１に記載のラインヘッド。
3. 前記第１方向において前記ギャップの厚みは前記空隙層の厚みよりも大きい請求項２に記載のラインヘッド。
4. 前記遮光部材は前記第１方向に並ぶ３枚以上の前記遮光板を有しており、前記各遮光板の間の前記空隙層のうち、前記第１方向において前記ヘッド基板に近い空隙層ほど、前記第１方向に大きい厚みを有している請求項１ないし３のいずれか一項に記載のラインヘッド。
5. 前記発光素子グループに対向して設けられた前記各導光孔のうち、前記第１方向において前記発光素子グループに近い導光孔ほど広い幅を有する請求項１ないし４のいずれか一項に記載のラインヘッド。
6. 潜像担持体と、
   発光素子が射出する光をレンズを用いて結像して、前記潜像担持体の表面を露光するラインヘッドとを備え、
   前記ラインヘッドは、複数の前記発光素子をグループ化した発光素子グループが複数配されたヘッド基板と、第１方向で前記発光素子グループに対向して前記レンズを前記発光素子グループ毎に設けたレンズアレイと、前記ヘッド基板と前記レンズアレイとの間に配された遮光部材とを有し、
   前記遮光部材は前記第１方向に空隙層を隔てて並ぶ複数の遮光板を有しており、
   前記各遮光板には、前記第１方向に貫通する導光孔が前記第１方向で前記発光素子グループに対向して設けられており、前記発光素子グループに対向する前記各導光孔が前記第１方向に配されて導光部を形成し、
   前記発光素子グループからの光は当該発光素子グループに対向して設けられた前記導光部を通過して前記レンズに入射可能であり、
   前記第１方向において前記各遮光板の間の前記空隙層の厚みは前記遮光板の厚みの５〜３０倍であるとともに、前記複数の遮光板のうち最も前記レンズアレイ側に位置している遮光板の前記レンズアレイ側の面に、前記複数の遮光板のそれぞれよりも大きな厚みを有する第２遮光板が当接して配置されていることを特徴とする画像形成装置。

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