JP5252498B2 - 1−置換−2−ピリドン−3−カルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
(式中、R1は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキル、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニル、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニル;
R2及びR3はそれぞれ独立して、アルキル、アルキルオキシアルキル、又はアルキルオキシ;又は
R2及びR3は隣接する炭素原子と一緒になって、シクロアルケンを形成してもよい;
R4は水素原子又はヒドロキシ;及び
R5はアルキル )で示される化合物を加水分解する工程A、
及び、工程Aで生成した一般式(I)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(II):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は上記と同意義)で示される化合物を得る工程Bを含む、一般式(II)で示される化合物の製造方法、に関する。
なお、工程Aは、酸存在下又は塩基存在下で行うことができる。工程Aを塩基存在下で行う場合は、塩基で処理した後に酸を添加することもできる。また、工程Bにおいて、酸を添加することもできる。
さらに、以下に示す2)〜18)に関する。
2)工程A及び工程Bを連続して行うことを特徴とする、1)記載の製造方法。
3)一般式(III):
(式中、R1は1)と同意義)で示される化合物を、一般式(IV):
(式中、R2及びR3は1)と同意義)で示される化合物と反応させる工程C、
及び、工程Cで生成した化合物を、一般式(V):
(式中、R4及びR5は1)と同意義;R6はアルキル)で示される化合物と反応させ、
一般式(I):
(式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は1)と同意義)で示される化合物を生成させる工程Dを含む、1)又は2)記載の製造方法。
。
4)R6がC1−C2アルキルである3)に記載の製造方法。
5)R5がC1−C2アルキルである1)〜4)のいずれかに記載の製造方法。
6)一般式(III):
(式中、R1は1)と同意義)で示される化合物を、一般式(IV):
(式中、R2及びR3は1)と同意義)で示される化合物と反応させる工程C、
工程Cで生成した化合物を、一般式(V):
(式中、R4及びR5は1)と同意義;R6は3)と同意義)で示される化合物と反応させ、一般式(I):
(式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は1)と同意義)で示される化合物を生成させる工程D、
一般式(I)で示される化合物を加水分解する工程A、
工程Aで生成した一般式(I)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(II):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は1)と同意義)で示される化合物を得る工程B、一般式(II)で示される化合物をハロゲン化試薬と反応させ、一般式(VI):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は1)と同意義;Halはハロゲン原子)で示される化合物を生成させる工程E、及び、
一般式(VI)で示される化合物を、一般式(VII):
(式中、R7は水素原子又はアルキル;
Xはヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルケンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイル;及び
Yは単結合、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン)で示される化合物と反応させ、必要に応じて加水分解反応に付する工程F、を含む一般式(VIII):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は1)と同意義;R7、X、及びYは上記と同意義)で示される化合物の製造方法。
7)工程E及びFを連続して行うことを特徴とする、6)記載の製造方法。
8)Halが塩素原子である6)又は7)記載の製造方法。
9)R7がC1−C2アルキルである6)〜8)のいずれかに記載の製造方法。
10)Xがアルキレン、シクロアルカンジイル、アリールジイル、ヘテロアリールジイル、又は非芳香族複素環ジイルである6)〜9)のいずれかに記載の製造方法。
11)Yが単結合又はアルキレンである6)〜10)のいずれかに記載の製造方法。
12)工程C、D、A、及びBを連続して行うことを特徴とする、3)〜11)のいずれかに記載の製造方法。
13)一般式(II)で示される化合物を結晶として得る1)〜12)のいずれかに記載の製造方法。
14)R4が水素原子である1)〜13)のいずれかに記載の製造方法。
15)R2がC1−C3アルキル又はC1−C3アルキルオキシである1)〜14)のいずれかに記載の製造方法。
16)R3がC1−C3アルキル又はC1−C3アルキルオキシC1−C3アルキルである1)〜15)のいずれかに記載の製造方法。
17)R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒になって、シクロオクテンである1)〜15)のいずれかに記載の製造方法。
18)R1が非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルである1)〜17)のいずれかに記載の製造方法。
19)R1が非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルであり、R2がC1−C3アルキルであり、R3がC1−C3アルキルであり、R4が水素原子であり、及びR5がC1−C2アルキルである1)〜16)及び18)のいずれかに記載の製造方法。
20)R1が非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルであり、R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒になって、シクロオクテンであり、R4が水素原子であり、及びR5がC1−C2アルキルである1)〜14)及び17)〜18)のいずれかに記載の製造方法。
21)加水分解物に添加するアルコールがイソプロパノールである1)〜20)のいずれかに記載の製造方法。
22)一般式(II):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は請求項1と同意義)で示される化合物を含有する溶液に、アルコールを添加することを特徴とする、一般式(II)で示される化合物の結晶の製造方法。
なお、上記溶液における溶媒としては、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン)、脂肪族カルボン酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン)、ケトン類(例えば、アセトン、エチルメチルケトン)、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、および水から選択される溶媒を、単独又は混合して用いることができる。
23)アルコールがイソプロパノールである22)記載の製造方法。
(1)一般式(IX):
(式中、R1aは非反応性置換基で置換されていてもよいアルキル、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニル、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニル;
R2a及びR3aはそれぞれ独立して、アルキル、アルキルオキシアルキル、もしくはアルキルオキシ;又は
R2a及びR3aは隣接する炭素原子と一緒になって、シクロアルケンを形成してもよい;
R4aは水素原子又はヒドロキシ;及び
R5aはアルキル )で示される化合物を加水分解する工程Aa、
及び、工程Aaで生成した一般式(IX)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(X):
(式中、R1a、R2a、R3a、及びR4aは上記と同意義)で示され化合物の結晶を生成させる工程Baを含む、一般式(X)で示される化合物の製造方法。
なお、工程Aaは、酸存在下又は塩基存在下で行うことができる。工程Aaを塩基存在下で行う場合は、塩基で処理した後に酸を添加することもできる。
(2)工程Aa及び工程Baを連続して行うことを特徴とする、(1)記載の製造方法。
(3)一般式(XI):
(式中、R1aは(1)と同意義)で示される化合物を、一般式(XII):
(式中、R2a及びR3aは(1)と同意義)で示される化合物と反応させる工程Ca、
及び、工程Caで生成した化合物を、一般式(XIII):
(式中、R4a及びR5aは(1)と同意義;R6はアルキル)で示される化合物と反応させ、一般式(IX):
(式中、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは(1)と同意義)で示される化合物を生成させる工程Daを含む、(1)又は(2)記載の製造方法。
(4)工程Ca、Da、Aa、及びBaの順に連続して行うことを特徴とする、(3)記載の製造方法。
(5)R6aがC1−C2アルキルである(3)又は(4)に記載の製造方法。
(6)R5aがC1−C2アルキルである(1)〜(5)のいずれかに記載の製造方法。
(7)一般式(XI):
(式中、R1aは(1)と同意義)で示される化合物を、一般式(XII):
(式中、R2a及びR3aは(1)と同意義)で示される化合物と反応させる工程Ca、
工程Caで生成した化合物を、一般式(XIII):
(式中、R4a及びR5aは(1)と同意義;R6aは(3)と同意義)で示される化合物と反応させ、一般式(IX):
(式中、R1a、R2a、R3a、R4a、及びR5aは(1)と同意義)で示される化合物を生成させる工程Da、
一般式(IX)で示される化合物を加水分解する工程Aa、
工程Aaで生成した一般式(IX)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(X):
(式中、R1a、R2a、R3a、及びR4aは(1)と同意義)で示される化合物を得る工程Ba、一般式(X)で示される化合物をハロゲン化試薬と反応させ、一般式(XIV):
(式中、R1a、R2a、R3a、及びR4aは(1)と同意義;Halaはハロゲン原子)で示される化合物を生成させる工程Ea、及び、
一般式(XIV)で示される化合物を、一般式(XV):
(式中、R7aは水素原子又はアルキル;
Xaはヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルケンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイル;
Yaは単結合、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン)で示される化合物と反応させ、必要に応じて加水分解反応に付する工程Fa、を含む一般式(XVI):
(式中、R1a、R2a、R3a、及びR4aは(1)と同意義;R7a、Xa、及びYaは上記と同意義)で示される化合物の製造方法。
(8)工程Ca、Da、Aa、及びBaを連続して行うことを特徴とする、(7)記載の製造方法。
(9)工程Ea及びFaを連続して行うことを特徴とする、(7)記載の製造方法。
(10)Halaが塩素原子である(7)〜(9)のいずれかに記載の製造方法。
(11)R7aがC1−C2アルキルである(7)〜(10)のいずれかに記載の製造方法。
(12)Xaがアルキレン、シクロアルカンジイル、アリールジイル、ヘテロアリールジイル、又は非芳香族複素環ジイルである(7)〜(11)のいずれかに記載の製造方法。
(13)Yaが単結合又はアルキレンである(7)〜(12)のいずれかに記載の製造方法。
(14)R4aが水素原子である(1)〜(13)のいずれかに記載の製造方法。
(15)R2aがC1−C2アルキル又はC1−C2アルキルオキシである(1)〜(14)のいずれかに記載の製造方法。
(16)R3aがC1−C3アルキル又はC1−C2アルキルオキシC1−C2アルキルである(1)〜(15)のいずれかに記載の製造方法。
(17)R2a及びR3aが隣接する炭素原子と一緒になって、シクロオクテンである(1)〜(14)のいずれかに記載の製造方法。
(18)R1aが非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルである(1)〜(17)のいずれかに記載の製造方法。
(19)加水分解物に添加するアルコールがイソプロパノールである(1)〜(18)のいずれかに記載の製造方法。
本明細書中、「ヘテロ原子」とは、酸素原子、硫黄原子、窒素原子を意味する。
本明細書中、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。
本明細書中、「アルキル」とは、炭素原子数1〜8の直鎖または分枝鎖の1価の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル等が挙げられる。好ましくは、C1−C6アルキルが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキル」を意味する。
R1およびR1aの「アルキル」としては、C1−C6アルキルが好ましい。
R2およびR2aの「アルキル」としては、C1−C4アルキルが好ましく、さらに、C1−C3アルキルが好ましく、C1−C2アルキルがもっとも好ましい。
R3およびR3aの「アルキル」としては、C1−C4アルキルが好ましい。
R5およびR5aの「アルキル」としては、C1−C4アルキルが好ましく、さらに、C1−C3アルキルが好ましい。
R6およびR6aの「アルキル」としては、C1−C4アルキルが好ましく、さらに、C1−C2アルキルが好ましい。
本明細書中、「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキル」の異なる炭素原子にに下記「アルキルオキシ」が1個または2個置換した基を意味する。例えば、メチルオキシメチル、エチルオキシメチル、n−プロピルオキシメチル、イソプロピルオキシメチル、n−ブチルオキシメチル、2−メチルオキシエチル、2−エチルオキシエチル、2−n−プロピルオキシエチル、1−イソプロピルオキシエチル、1−n−ブチルオキシエチル、3−メチルオキシプロピル、3−エチルオキシプロピル、3−n−プロピルオキシプロピル、2−イソプロピルオキシプロピル、2−n−ブチルオキシプロピル、等が挙げられる。好ましくは、C1−C4アルキルオキシC1−C4アルキルが挙げられる。さらに好ましくは、C1−C2アルキルオキシC1−C2アルキルが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキルオキシアルキル」を意味する。
R2およびR2aの「アルキルオキシアルキル」としては、C1−C4アルキルオキシC1−C4アルキルが好ましく、さらに、C1−C2アルキルオキシC1−C2アルキルが好ましい。
R3およびR3aの「アルキルオキシアルキル」としては、C1−C4アルキルオキシC1−C4アルキルが好ましく、さらに、C1−C2アルキルオキシC1−C2アルキルが好ましい。
本明細書中、「アルケニル」とは、炭素原子数が2〜8個であり、1個もしくは2個以上の二重結合を有する、直鎖または分枝鎖の1価の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、1−プロペニル、2−ブテニル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル、2−ヘプテニル、2−オクテニル等が挙げられる。好ましくは、C2−C6アルケニルが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルケニル」を意味する。
R1およびR1aの「アルケニル」としては、C2−C6アルケニルが好ましい。
本明細書中、「アルキニル」とは、炭素原子数が2〜8個であり、1個もしくは2個以上の三重結合を有する、直鎖または分枝鎖の1価の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、2−ブチニル、2−ペンチニル、2−ヘキシニル、2−ヘプチニル、2−オクチニル等が挙げられる。好ましくは、C2−C6アルキニルが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルケニル」を意味する。
R1およびR1aの「アルキニル」としては、C2−C6アルキニルが好ましい。
本明細書中、「シクロアルキル」とは、炭素原子数が3〜8個であるシクロアルキルを包含する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられる。好ましくはC3−C6シクロアルキルが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「シクロアルキル」を意味する。
本明細書中、「シクロアルケニル」とは、炭素原子数が3〜8個であるシクロアルケニルを包含する。例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニルが挙げられる。好ましくはC3−C6シクロアルケニルが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「シクロアルケニル」を意味する。
本明細書中、「R2及びR3は隣接する炭素原子と一緒になって、シクロアルケンを形成してもよい」の「シクロアルケン」とは、R2が隣接する炭素原子とR3が隣接する炭素原子間にのみ二重結合を1個有する5〜10員環のシクロアルケンを包含する。例えば、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、およびシクロデセンが挙げられる。好ましくはC5−C8シクロアルケンが挙げられる。さらに好ましくは、シクロオクテンが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「シクロアルケニル」を意味する。
本明細書中、「R2a及びR3aは隣接する炭素原子と一緒になって、シクロアルケンを形成してもよい」の「シクロアルケン」とは、R2aが隣接する炭素原子とR3aが隣接する炭素原子間にのみ二重結合を1個有する5〜10員環のシクロアルケンを包含する。例えば、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、およびシクロデセンが挙げられる。好ましくはC5−C8シクロアルケンが挙げられる。さらに好ましくは、シクロオクテンが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「シクロアルケニル」を意味する。
本明細書中、「アルキルオキシ」とは、酸素原子に上記「アルキル」が1個置換した基を意味する。例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、2−ペンチルオキシ、3−ペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、2−ヘキシルオキシ、3−ヘキシルオキシ、n−ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ等が挙げられる。好ましくは、C1−C6アルキルオキシが挙げられる。さらに好ましくは、C1−C4アルキルオキシが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキルオキシ」を意味する。
R2およびR2aの「アルキルオキシ」としては、C1−C4アルキルオキシが好ましく、さらに、C1−C2アルキルオキシが好ましい。
R3およびR3aの「アルキルオキシ」としては、C1−C4アルキルオキシが好ましい。
本明細書中、「アルケニルオキシ」とは、酸素原子に上記「アルケニル」が1個置換した基を意味する。例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、1−プロペニルオキシ、2−ブテニルオキシ、2−ペンテニルオキシ、2−ヘキセニルオキシ、2−ヘプテニルオキシ、2−オクテニルオキシ等が挙げられる。好ましくは、C2−C6アルケニルオキシが挙げられる。さらに好ましくは、C2−C4アルケニルオキシが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルケニルオキシ」を意味する。
本明細書中、「アルキニルオキシ」とは、酸素原子に上記「アルケニル」が1個置換した基を意味する。例えば、エチニルオキシ、1−プロピニルオキシ、2−プロピニルオキシ、2−ブチニルオキシ、2−ペンチニルオキシ、2−ヘキシニルオキシ、2−ヘプチニルオキシ、2−オクチニルオキシ等が挙げられる。好ましくは、C2−C6アルキニルオキシが挙げられる。さらに好ましくは、C2−C4アルキニルオキシが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキニルオキシ」を意味する。
本明細書中、「シクロアルキルオキシ」とは、酸素原子に上記「シクロアルキル」が1個置換した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシが挙げられる。好ましくはC3−C6シクロアルキルオキシが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「シクロアルキルオキシ」を意味する。
本明細書中、「アルキルチオ」は、硫黄原子に上記「アルキル」が1個置換した基を意味する。例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、n−ペンチルチオ、イソペンチルチオ、2−ペンチルチオ、3−ペンチルチオ、n−ヘキシルチオ、イソヘキシルチオ、2−ヘキシルチオ、3−ヘキシルチオ、n−ヘプチルチオ、n−オクチルチオ等が挙げられる。好ましくは、C1−C6アルキルチオが挙げられる。さらに好ましくは、C1−C4アルキルチオが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキルチオ」を意味する。
本明細書中、「アルケニルチオ」とは、硫黄原子に上記「アルケニル」が1個置換した基を意味する。例えば、ビニルチオ、アリルチオ、1−プロペニルチオ、2−ブテニルチオ、2−ペンテニルチオ、2−ヘキセニルチオ、2−ヘプテニルチオ、2−オクテニルチオ等が挙げられる。好ましくは、C2−C6アルケニルチオが挙げられる。さらに好ましくは、C2−C4アルケニルチオが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルケニルチオ」を意味する。
本明細書中、「アルキニルチオ」とは、硫黄原子に上記「アルキニル」が1個置換した基を意味する。例えば、エチニルチオ、1−プロピニルチオ、2−プロピニルチオ、2−ブチニルチオ、2−ペンチニルチオ、2−ヘキシニルチオ、2−ヘプチニルチオ、2−オクチニルチオ等が挙げられる。好ましくは、C2−C6アルキニルチオが挙げられる。さらに好ましくは、C2−C4アルキニルチオが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキニルチオ」を意味する。
本明細書中、「シクロアルキルチオ」とは、硫黄原子に上記「シクロアルキル」が1個置換した基を包含する。例えば、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、シクロヘプチルチオ、シクロオクチルチオが挙げられる。好ましくはC3−C6シクロアルキルチオが挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「シクロアルキルチオ」を意味する。
本明細書中、「アルキレン」とは、炭素数1〜10の直鎖状又は分枝状のアルキレンを意味する。例えば、メチレン、1−メチルメチレン、1,1−ジメチルメチレン、エチレン、1−メチルエチレン、1−エチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,2−ジメチルエチレン、1,1−ジエチルエチレン、1,2−ジエチルエチレン、1−エチル−2−メチルエチレン、トリメチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、1,1−ジメチルトリメチレン、1,2−ジメチルトリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1−エチルトリメチレン、2−エチルトリメチレン、1,1−ジエチルトリメチレン、1,2−ジエチルトリメチレン、2,2−ジエチルトリメチレン、2−エチル−2−メチルトリメチレン、テトラメチレン、1−メチルテトラメチレン、2−メチルテトラメチレン、1,1−ジメチルテトラメチレン、1,2−ジメチルテトラメチレン、2,2−ジメチルテトラメチレン、2,2−ジ−n−プロピルトリメチレン、1−イソブチルエチレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)メチレン、1−t−ブチルエチレン、1−イソブチルトリメチレン等が挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキレン」を意味する。
本明細書中、「ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン」とは、下記「非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン」のアルキレンのメチレン部分が上記「ヘテロ原子」で、隣接しない1箇所または2箇所置換していてもよい基を意味する。「ヘテロ原子を介在していてもよいアルキレン」としては、例えば、メチレン、1−メチルメチレン、1,1−ジメチルメチレン、エチレン、1−メチルエチレン、1−エチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,2−ジメチルエチレン、1,1−ジエチルエチレン、1,2−ジエチルエチレン、1−エチル−2−メチルエチレン、トリメチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、1,1−ジメチルトリメチレン、1,2−ジメチルトリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1−エチルトリメチレン、2−エチルトリメチレン、1,1−ジエチルトリメチレン、1,2−ジエチルトリメチレン、2,2−ジエチルトリメチレン、2−エチル−2−メチルトリメチレン、テトラメチレン、1−メチルテトラメチレン、2−メチルテトラメチレン、1,1−ジメチルテトラメチレン、1,2−ジメチルテトラメチレン、2,2−ジメチルテトラメチレン、2,2−ジ−n−プロピルトリメチレン、1−イソブチルエチレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)メチレン、1−t−ブチルエチレン、1−イソブチルトリメチレン、メチレンオキシメチレン、メチレンチオメチレン、メチレン(N−メチルアミノ)メチレン、エチレンオキシメチレン、エチレンチオメチレン、エチレン(N−メチルアミノ)メチレン、メチレンオキシエチレン、メチレンチオエチレン、メチレン(N−メチルアミノ)エチレン、トリメチレンオキシメチレン、トリメチレンオキシエチレン、トリメチレンオキシトリメチレン、1−イソブチルメチレンオキシメチレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)メチレンオキシメチレン、1−t−ブチルメチレンオキシメチレン、1−イソブチルエチレンオキシメチレン、1−イソブチルメチレンオキシエチレン等が挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「ヘテロ原子を介在していてもよいアルキレン」を意味する。
本明細書中、「アルケニレン」とは、炭素数2〜10の直鎖状又は分枝状のアルケニレンを意味する。例えば、エテニレン、1−メチルエテニレン、1−エチルエテニレン、1,2−ジメチルエテニレン、1,2−ジエチルエテニレン、1−エチル−2−メチルエテニレン、プロペニレン、1−メチル−2−プロペニレン、2−メチル−2−プロペニレン、1,1−ジメチル−2−プロペニレン、1,2−ジメチル−2−プロペニレン、1−エチル−2−プロペニレン、2−エチル−2−プロペニレン、1,1−ジエチル−2−プロペニレン、1,2−ジエチル−2−プロペニレン、1−ブテニレン、2−ブテニレン、1−メチル−2−ブテニレン、2−メチル−2−ブテニレン、1,1−ジメチル−2−ブテニレン、1,2−ジメチル−2−ブテニレン、1−イソブチルエテニレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)−2−プロペニレン、1−t−ブチル−2−プロペニレン、1−イソブチル−2−プロペニレン等が挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルケニレン」を意味する。
「ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン」とは、下記「非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン」のアルキレンのメチレン部分が上記「ヘテロ原子」で、隣接しない1箇所または2箇所置換していてもよい基を意味する。「ヘテロ原子を介在していてもよいアルケニレン」としては、例えば、エテニレン、1−メチルエテニレン、1−エチルエテニレン、1,2−ジメチルエテニレン、1,2−ジエチルエテニレン、1−エチル−2−メチルエテニレン、プロペニレン、1−メチル−2−プロペニレン、2−メチル−2−プロペニレン、1,1−ジメチル−2−プロペニレン、1,2−ジメチル−2−プロペニレン、1−エチル−2−プロペニレン、2−エチル−2−プロペニレン、1,1−ジエチル−2−プロペニレン、1,2−ジエチル−2−プロペニレン、1−ブテニレン、2−ブテニレン、1−メチル−2−ブテニレン、2−メチル−2−ブテニレン、1,1−ジメチル−2−ブテニレン、1,2−ジメチル−2−ブテニレン、1−イソブチルエテニレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)−2−プロペニレン、1−t−ブチル−2−プロペニレン、1−イソブチル−2−プロペニレン、1−メチル−2−ブテニレンオキシメチレン、1−イソブチル−2−ブテニレンオキシメチレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)−2−ブテニレンオキシメチレン、1−t−ブチル−2−ブテニレンオキシメチレン等が挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「ヘテロ原子を介在していてもよいアルケニレン」を意味する。
本明細書中、「アルキニレン」とは、炭素数2〜10の直鎖状又は分枝状のアルキニレンを意味する。例えば、エチニレン、プロピニレン、1−メチル−2−プロピニレン、1−エチル−2−プロピニレン、ブチニレン、1−メチル−2−ブチニレン、2−メチル−3−ブチニレン、1,1−ジメチル−2−ブチニレン、1,2−ジメチル−3−ブチニレン、2,2−ジメチル−3−ブチニレン、1−イソブチルエチニレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)−プロピニレン、1−t−ブチル−プロピニレン、1−イソブチル−プロピニレン等が挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「アルキニレン」を意味する。
本明細書中、「ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン」とは、下記「非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン」のアルキレンのメチレン部分が上記「ヘテロ原子」で、隣接しない1箇所または2箇所置換していてもよい基を意味する。「ヘテロ原子を介在していてもよいアルキニレン」としては、例えば、エチニレン、プロピニレン、1−メチル−2−プロピニレン、1−エチル−2−プロピニレン、ブチニレン、1−メチル−2−ブチニレン、2−メチル−3−ブチニレン、1,1−ジメチル−2−ブチニレン、1,2−ジメチル−3−ブチニレン、2,2−ジメチル−3−ブチニレン、1−イソブチルエチニレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)−プロピニレン、1−t−ブチル−プロピニレン、1−イソブチル−プロピニレン、1−メチル−2−ブチニレンオキシメチレン、1−イソブチル−2−ブチニレンオキシメチレン、1−(2,2−ジメチルプロピル)−2−ブチニレンオキシメチレン、1−t−ブチル−2−ブチニレンオキシメチレン等が挙げられる。特に炭素数を指定した場合は、その数の範囲の炭素数を有する「ヘテロ原子を介在していてもよいアルキニレン」を意味する。
本明細書中、「アリール」とは、単環状もしくは縮合環状芳香族炭化水素を包含する。これは前記「シクロアルキル」、前記「シクロアルケニル」、後記「非芳香族複素環基」と可能な全ての位置で縮合していてもよい。アリールが単環および縮合環のいずれである場合も、すべての可能な位置で結合しうる。例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、アントラニル、テトラヒドロナフチル、1,3−ベンゾヂオキソリル、1,4−ベンゾジオキサニル等が挙げられる。好ましくは、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチルが挙げられる。さらに好ましくは、フェニルが挙げられる。
本明細書中、「ヘテロアリール」とは、任意に選ばれる、酸素原子、硫黄原子または窒素原子を環内に1個以上含む5〜6員の芳香環を包含する。これは前記「シクロアルキル」、前記「アリール」、後記「非芳香族複素環基」、もしくは他のヘテロアリールと可能な全ての位置で縮合していてもよい。ヘテロアリールが単環および縮合環のいずれである場合も、すべての可能な位置で結合しうる。例えば、ピロリル(例えば、1−ピロリル、2−ピロリル、3−ピロリル)、フリル(例えば、2−フリル、3−フリル)、チエニル(例えば、2−チエニル、3−チエニル)、イミダゾリル(例えば、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル)、ピラゾリル(例えば、1−ピラゾリル、3−ピラゾリル)、イソチアゾリル(例えば、3−イソチアゾリル)、イソキサゾリル(例えば、3−イソキサゾリル)、オキサゾリル(例えば、2−オキサゾリル)、チアゾリル(例えば、2−チアゾリル)、ピリジル(例えば、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル)、ピラジニル(例えば、2−ピラジニル)、ピリミジニル(例えば、2−ピリミジニル、4−ピリミジニル)、ピリダジニル(例えば、3−ピリダジニル)、テトラゾリル(例えば、1H−テトラゾリル)、オキサジアゾリル(例えば、1,3,4−オキサジアゾリル)、チアジアゾリル(例えば、1,3,4−チアジアゾリル)、インドリジニル(例えば、2−インドリジニル、6−インドリジニル)、イソインドリル(例えば、2−イソインドリル)、インドリル(例えば、1−インドリル、2−インドリル、3−インドリル)、インダゾリル(例えば、3−インダゾリル)、プリニル(例えば、8−プリニル)、キノリジニル(例えば、2−キノリジニル)、イソキノリル(例えば、3−イソキノリル)、キノリル(例えば、2−キノリル、5−キノリル)、フタラジニル(例えば、1−フタラジニル)、ナフチリジニル(例えば、2−ナフチリジニル)、キノラニル(例えば、2−キノラニル)、キナゾリニル(例えば、2−キナゾリニル)、シンノリニル(例えば、3−シンノリニル)、プテリジニル(例えば、2−プテリジニル)、カルバゾリル(例えば、2−カルバゾリル、4−カルバゾリル)、フェナントリジニル(例えば、2−フェナントリジニル、3−フェナントリジニル)、アクリジニル(例えば、1−アクリニジル、2−アクリニジル)、ジベンゾフラニル(例えば、1−ジベンゾフラニル、2−ジベンゾフラニル)、ベンゾイミダゾリル(例えば、2−ベンゾイミダゾリル)、ベンゾイソキサゾリル(例えば、3−ベンゾイソキサゾリル)、ベンゾオキサゾリル(例えば、2−ベンゾオキサゾリル)、ベンゾオキサジアゾリル(例えば、4−ベンゾオキサジアゾリル)、ベンゾイソチアゾリル(例えば、3−ベンゾイソチアゾリル)、ベンゾチアゾリル(例えば、2−ベンゾチアゾリル)、ベンゾフリル(例えば、3−ベンゾフリル)、ベンゾチエニル(例えば、2−ベンゾチエニル)、ジベンゾチエニル(例えば、2−ジベンゾチエニル)、ベンゾジオキソリル(例えば、1,3−ベンゾジオキソリル)等が挙げられる。
本明細書中、「非芳香族複素環基」とは、窒素原子を環内に1個以上含み、さらに酸素原子および/または硫黄原子を含んでいてもよい3〜12員環の非芳香族複素環基を包含する。例えばピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリンニル、ピペリジニル、ジヒドロピリジニル、テトラヒドロピリジニル、ピペラジニル、ジヒドロピラジニル、テトラヒドロピラジニル、ジヒドロピリミジニル、テトラヒドロピリミジニル、ペルヒドロピリミジニル等が挙げられる。
本明細書中、「アリールオキシ」とは、酸素原子に前記「アリール」が1個置換した基を包含する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
本明細書中、「アリールチオ」とは、硫黄原子に前記「アリール」が1個置換した基を包含する。例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等が挙げられる。
本明細書中、「ヘテロアリールオキシ」とは、酸素原子に前記「ヘテロアリール」が1個置換した基を包含する。例えば、ピロリルオキシ、フリルオキシ、チエニルオキシ、イミダゾリルオキシ、ピラゾリルオキシ、イソチアゾリルオキシ、イソキサゾリルオキシ、オキサゾリルオキシ、チアゾリルオキシ、ピリジルオキシ、ピラジニルオキシ、ピリミジニルオキシ、ピリダジニルオキシ、テトラゾリルオキシ、オキサジアゾリルオキシ、チアジアゾリルオキシ、インドリジニルオキシ、イソインドリルオキシ、インドリルオキシ、インダゾリルオキシ、プリニルオキシ、キノリジニルオキシ、イソキノリルオキシ、キノリルオキシ、フタラジニルオキシ、ナフチリジニルオキシ、キノラニルオキシ、キナゾリニルオキシ、シンノリニルオキシ、プテリジニルオキシ、カルバゾリルオキシ、フェナントリジニルオキシ、アクリジニルオキシ、ジベンゾフラニルオキシ、ベンゾイミダゾリルオキシ、ベンゾイソキサゾリルオキシ、ベンゾオキサゾリルオキシ、ベンゾオキサジアゾリルオキシ、ベンゾイソチアゾリルオキシ、ベンゾチアゾリルオキシ、ベンゾフリルオキシ、ベンゾチエニルオキシ、ジベンゾチエニルオキシ、ベンゾジオキソリルオキシ等が挙げられる。好ましくは、フリルオキシ、チエニルオキシ、イミダゾリルオキシ、ピラゾリルオキシ、イソチアゾリルオキシ、イソキサゾリルオキシ、オキサゾリルオキシ、チアゾリルオキシ、ピリジルオキシ、ピラジニルオキシ、ピリミジニルオキシ、ピリダジニルオキシ等が挙げられる
本明細書中、「ヘテロアリールチオ」とは、硫黄原子に前記「ヘテロアリール」が1個置換した基を包含する。例えば、ピロリルチオ、フリルチオ、チエニルチオ、イミダゾリルチオ、ピラゾリルチオ、イソチアゾリルチオ、イソキサゾリルチオ、オキサゾリルチオ、チアゾリルチオ、ピリジルチオ、ピラジニルチオ、ピリミジニルチオ、ピリダジニルチオ、テトラゾリルチオ、オキサジアゾリルチオ、チアジアゾリルチオ、インドリジニルチオ、イソインドリルチオ、インドリルチオ、インダゾリルチオ、プリニルチオ、キノリジニルチオ、イソキノリルチオ、キノリルチオ、フタラジニルチオ、ナフチリジニルチオ、キノラニルチオ、キナゾリニルチオ、シンノリニルチオ、プテリジニルチオ、カルバゾリルチオ、フェナントリジニルチオ、アクリジニルチオ、ジベンゾフラニルチオ、ベンゾイミダゾリルチオ、ベンゾイソキサゾリルチオ、ベンゾオキサゾリルチオ、ベンゾオキサジアゾリルチオ、ベンゾイソチアゾリルチオ、ベンゾチアゾリルチオ、ベンゾフリルチオ、ベンゾチエニルチオ、ジベンゾチエニルチオ、ベンゾジオキソリルチオ等が挙げられる。好ましくは、フリルチオ、チエニルチオ、イミダゾリルチオ、ピラゾリルチオ、イソチアゾリルチオ、イソキサゾリルチオ、オキサゾリルチオ、チアゾリルチオ、ピリジルチオ、ピラジニルチオ、ピリミジニルチオ、ピリダジニルチオ等が挙げられる。
本明細書中、「シクロアルカンジイル」とは、上記「シクロアルキル」にもう1個の結合手を有する基を意味する。例えば、シクロペンタンジイル、シクロヘキサンンジイル、シクロオクタンジイル等が挙げられる。
本明細書中、「シクロアルケンジイル」とは、上記「シクロアルケニル」にもう1個の結合手を有する基を意味する。例えば、1−シクロペンテンジイル、1−シクロヘキセンンジイル、1−シクロオクテンジイル等が挙げられる。
本明細書中、「アリールジイル」とは、上記「アリール」ににもう1個の結合手を有する基を意味する。例えば、フェニレン、ナフタレンジイル等が挙げられる。
本明細書中、「ヘテロアリールジイル」とは、上記「ヘテロアリール」にもう1個の結合手を有する基を意味する。例えば、ピロールジイル、フランジイル、チオフェンジイル、ピラゾールジイル、イミダゾールジイル、イソチアゾールジイル、イソキサゾールジイル、オキサゾールジイル、チアゾールジイル、ピラジンジイル、ピリミジンジイル、ピリダジンジイル、オキサジアゾールジイル、チアジアゾールジイル、インドリジンジイル、イソインドールジイル、インドールジイル、インダゾールジイル、プリンジイル、キノリジンジイル、イソキノリンジイル、キノリンジイル、フタラジンジイル、ナフチリジンジイル、キノランジイル、キナゾリンジイル、シンノリンジイル、プテリジンジイル、カルバゾールジイル、フェナントリジンジイル、アクリジンジイル、ジベンゾフランジイル、ベンズオキサゾロンジイル、ベンズオキサジノンジイル、ベンゾイミダゾールジイル、ベンゾイソキサゾールジイル、ベンゾオキサゾールジイル、ベンゾオキサジアゾールジイル、ベンゾイソチアゾールジイル、ベンゾチアゾールジイル、ベンゾフランジイル、ベンゾチオフェンジイル、ジベンゾチオフェンジイル、ベンゾジオキソランジイル等が挙げられる。
本明細書中、「非芳香族複素環ジイル」とは、上記「非芳香族複素環基」にもう1個の結合手を有する基を意味する。例えば、ピロリジンジイル、ピロリンジイル、イミダゾリジンジイル、イミダゾリンジイル、ピラゾリジンジイル、ピラゾリンジイル、ピペリジンジイル、ジヒドロピリジンジイル、テトラヒドロピリジンジイル、ピペラジンジイル、ジヒドロピラジンジイル、テトラヒドロピラジンジイル、ジヒドロピリミジンジイル、テトラヒドロピリミジンジイル、ペルヒドロピリミジンジイル、テトラヒドロフランジイル、テトラヒドロチオフェンジイル、N−メチルピロリジンジイル、テトラヒドロピランジイル、N−メチルペルヒドロピリジンジイル等が挙げられる。
置換基群A:C1−C4アルキル、トリハロメチル、C1−C4アルキルオキシ、C1−C4アルキルオチオ、置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいフェニル、置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいフェノキシ、ヘテロアリール
置換基群B:トリハロメチル、C1−C4アルキルオキシ、C1−C4アルキルオチオ、置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいフェニル、置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいフェノキシ、ヘテロアリール
置換基群C:ハロゲン原子、C1−C4アルキル、トリハロメチル、C1−C4アルキルオキシ、C1−C4アルキルオチオ、置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいフェニル、置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいフェノキシ、ヘテロアリール
本明細書中、「非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニル」、「非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニル」、「非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン」、「非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン」、「非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン」における非反応性置換基としては、トリハロメチル、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルキル、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルケニル、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいアリール、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいヘテロアリール等が挙げられ、1〜2個置換されていてもよい。
本明細書中、「非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル」、「非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルケンジイル」における非反応性置換基としては、上記置換基群Bより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいアルキル、トリハロメチル、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルキル、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルケニル、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいアリール、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいヘテロアリール等が挙げられ、1〜2個置換されていてもよい。
本明細書中、「非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル」、「非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル」、および「非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイル」における置換基としては、ハロゲン原子、上記置換基群Bより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいアルキル、トリハロメチル、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルキル、上記置換基群Bより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいアルキルオキシ、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルキルオキシ、上記置換基群Bより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいアルキルチオ、上記置換基群Aより選択された置換基で1〜2個置換されていてもよいシクロアルキルチオ、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいアリール、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいヘテロアリール、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいアリールオキシ、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいアリールチオ、上記置換基群Cより選択された置換基で1〜3個置換されていてもよいヘテロアリールチオ等が挙げられ、1〜2個置換されていてもよい。
本明細書中、「非反応性置換基」とは、前記工程A〜Fのいずれの工程においても、反応中に反応を起こさない置換基を意味する。例えば、上記に示した置換基が挙げられる。
本明細書中、「一般式(I)で示される化合物の加水分解物」とは、一般式(II)で示される化合物またはそのカルボン酸の金属塩(金属はナトリウム、カリウム、またはリチウム)を意味する。
本明細書中、「一般式(IX)で示される化合物の加水分解物」とは、一般式(X)で示される化合物またはそのカルボン酸の金属塩(金属はナトリウム、カリウム、またはリチウム)を意味する。
本明細書中、「加水分解」とは、酸性条件下での加水分解および塩基性条件下での加水分解を包含する。塩基性条件下での加水分解の場合は、酸を添加するすることもできる。
本明細書中、「加水分解物にアルコールを添加し」とは、1)加水分解後に、反応溶液を有機溶媒で抽出し、その有機層にアルコールを添加する場合、2)加水分解後、反応溶液に有機溶媒を加え分液し、その水層にアルコールを添加する場合、3)加水分解後に、反応溶液に酸を加えてから、有機溶媒で抽出し、その有機層にアルコールを添加する場合、4)加水分解後に、反応溶液に酸を加えてから、有機溶媒を加え分液し、その水層にアルコールを添加する場合、5)加水分解後、反応溶液を有機溶媒で抽出し、その有機層にアルコールおよび酸を添加する場合、6)加水分解後、反応溶液に有機溶媒を加え分液し、その水層にアルコールおよび酸を添加する場合を包含する。必要であれば、溶液の濃縮および/または希釈をすることもできる。
本明細書中、「工程A及びBを連続して反応を行う」とは、工程Aの反応後に生成した化合物を単離することなく次の工程Bに使用することを意味する。
本明細書中、「工程Aa及びBaを連続して反応を行う」とは、工程Aaの反応後に生成した化合物を単離することなく次の工程Baに使用することを意味する。
本明細書中、「工程C、D、A、及びBを連続して反応を行う」とは、各工程C、D及びAの反応後に生成した化合物を単離することなく次の各工程D、A、及びBに使用することを意味する。
本明細書中、「工程Ca、Da、Aa、及びBaを連続して反応を行う」とは、各工程Ca、Da及びAaの反応後に生成した化合物を単離することなく次の各工程Da、Aa、及びBaに使用することを意味する。
本明細書中、「工程E及びFを連続して反応を行う」とは、工程Eの反応後に生成した化合物を単離することなく次の工程Fに使用することを意味する。
本明細書中、「工程Ea及びFaを連続して反応を行う」とは、工程Eaの反応後に生成した化合物を単離することなく次の工程Faに使用することを意味する。
R1は、(Ia)非反応性置換基で置換されていてもよいアルキル、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニル、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニルが好ましく、さらに、(Ib)非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルがより好ましく、さらに、(Ic)置換基群Dから選択される1〜2個の置換基で置換されていてもよいアルキルがもっとも好ましい。
置換基群D:トリフルオロメチル、C1−C4アルキルオキシ、C5−C6シクロアルキル、ハロゲン原子で1〜2個置換されたフェニル、及びモルホリノ
R2は、(Id)アルキル、アルキルオキシアルキル、又はアルキルオキシが好ましく、さらに、(Ie)アルキル又はアルキルオキシがより好ましく、さらに、(If)C1−C3アルキルがもっとも好ましい。
R3は、(Ig)アルキル、アルキルオキシアルキル、又はアルキルオキシが好ましく、さらに、(Ih)アルキル又はアルキルオキシアルキルがより好ましく、さらに、(Ii)C1−C3アルキルがもっとも好ましい。
又はR2及びR3は隣接する炭素原子と一緒になって、(Ij)二重結合を1個有する5〜10員環のシクロアルケン、さらに、(Ik)シクロオクテンがより好ましい。
R4は、(Il)水素原子又はヒドロキシが好ましく、さらに、(Im)水素原子がより好ましい。
R5は、(In)アルキルが好ましく、さらに、(Io)C1−C2アルキルがより好ましい。
R6は、(Ip)アルキルが好ましく、さらに、(Iq)C1−C2アルキルがより好ましい。
R7は、(Ir)水素原子又はアルキルが好ましく、さらに、(Is)C1−C2アルキルがより好ましい。
Xは、(It)ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルケンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイルが好ましく、さらに、(Iu)ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイルがより好ましく、さらに、(Iv)シクロアルカンジイル、アリールジイル、ハロゲン原子で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又はテトラヒドロピランジイルがもっとも好ましい。
Yは、(Iw)単結合、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレンが好ましく、さらに、(Ix)単結合又はアルキレンがより好ましく、さらに、(Iy)単結合又は(Iz)C1−C2アルキレンがもっとも好ましい。
Halは、(IIa)ハロゲン原子が好ましく、さらに、(IIb)塩素原子がより好ましい。
R1aは、(Iaa)非反応性置換基で置換されていてもよいアルキル、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニル、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニルが好ましく、さらに、(Iba)非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルがより好ましく、さらに、(Ica)置換基群Dから選択される1〜2個の置換基で置換されていてもよいアルキルがもっとも好ましい。
置換基群Da:トリフルオロメチル、C1−C4アルキルオキシ、C5−C6シクロアルキル、ハロゲン原子で1〜2個置換されたフェニル、及びモルホリノ
R2aは、(Ida)アルキル、アルキルオキシアルキル、又はアルキルオキシが好ましく、さらに、(Iea)アルキル又はアルキルオキシがより好ましく、さらに、(Ifa)C1−C2アルキルがもっとも好ましい。
R3aは、(Iga)アルキル、アルキルオキシアルキル、又はアルキルオキシが好ましく、さらに、(Iha)アルキル又はアルキルオキシアルキルがより好ましく、さらに、(Iia)C1−C3アルキルがもっとも好ましい。
又はR2a及びR3aは隣接する炭素原子と一緒になって、(Ija)二重結合を1個有する5〜10員環のシクロアルケン、さらに、(Ika)シクロオクテンがより好ましい。
R4aは、(Ila)水素原子又はヒドロキシが好ましく、さらに、(Ima)水素原子がより好ましい。
R5aは、(Ina)アルキルが好ましく、さらに、(Ioa)C1−C2アルキルがより好ましい。
R6aは、(Ipa)アルキルが好ましく、さらに、(Iqa)C1−C2アルキルがより好ましい。
R7aは、(Ira)水素原子又はアルキルが好ましく、さらに、(Isa)C1−C2アルキルがより好ましい。
Xaは、(Ita)ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルケンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイルが好ましく、さらに、(Iua)ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイルがより好ましく、さらに、(Iva)シクロアルカンジイル、アリールジイル、ハロゲン原子で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又はテトラヒドロピランジイルがもっとも好ましい。
Yaは、(Iwa)単結合、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレンが好ましく、さらに、(Ixa)単結合又はアルキレンがより好ましく、さらに、(Iya)単結合又は(Iza)C1−C2アルキレンがもっとも好ましい。
Halaは、(IIaa)ハロゲン原子が好ましく、さらに、(IIba)塩素原子がより好ましい。
また、一般式(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)、および(VIII)で示される化合物は、各工程において適切な塩または溶媒和物の形態で存在していてもよい。
(式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は1)と同意義;R6は3)と同意義;R7、X、Y、及びHalは6)と同意義)
工程Cは一般式(IV)で示される化合物と一般式(III)で示される化合物を脱水縮合させる工程である。
本工程は、無溶媒または溶媒中で行うことができる。
一般式(III)で示される化合物は一般式(IV)で示される化合物に対して0.1〜1モル当量、好ましくは0.35〜0.85モル当量用いることができる。R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒にならない場合は、さらに好ましくは0.35〜0.55モル当量用いることができる。また、R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒になってシクロアルケンを形成する場合は、さらに好ましくは0.65〜0.85モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、またはそれらの混合溶媒、好ましくはトルエンを用いることができる。
反応時間は30分〜48時間、好ましくは30分〜10時間で行うことができる。
反応温度は50℃〜反応溶媒が還流する温度、好ましくは100℃〜反応溶媒が還流する温度で行うことができる。
必要であれば、酢酸を一般式(IV)で示される化合物に対して0.05〜0.10モル当量用いることができる。
工程Cの反応終了後、反応液をそのまままたは必要であれば濃縮して、工程Dに用いることができる。なお、脱水縮合した目的化合物は一般的な精製方法を用いてを単離して工程Dに用いることもできる。
工程Dは工程Cで得られた化合物と一般式(V)で示される化合物を閉環して一般式(I)で示される化合物を生成させる工程である。
本工程は、無溶媒または溶媒中で行うことができる。
一般式(V)で示される化合物は一般式(IV)で示される化合物に対して0.3〜1.2モル当量、好ましくは0.5〜1.0モル当量用いることができる。R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒にならない場合は、さらに好ましくは0.55〜0.75モル当量用いることができる。また、R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒になってシクロアルケンを形成する場合は、さらに好ましくは0.85〜1.05モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、またはそれらの混合溶媒、好ましくはトルエンを用いることができる。
反応時間は30分〜48時間、好ましくは30分〜16時間で行うことができる。
反応温度は50℃〜反応溶媒が還流する温度、好ましくは100℃〜反応溶媒が還流する温度で行うことができる。
工程Dの反応終了後、反応液をそのまま工程Aに用いるか、または必要であれば濃縮して、工程Aに用いることができる。なお、一般式(I)で示される化合物は、一般的な方法で抽出および単離精製してから工程Aに用いることもできる。
工程Aは工程Dで得られた一般式(I)で示される化合物を加水分解し、一般式(I)で示される化合物の加水分解物を生成させる工程である。
酸性条件下で加水分解する場合は、加水分解後、反応液にアルコールを添加し、有機溶媒で抽出することができる。また、反応液を有機溶媒で抽出後、有機層にアルコールを添加することもできる。
塩基性条件下で加水分解する場合は、加水分解後、反応液に酸を添加して酸性にしたあとで、反応液にアルコールを加え、有機溶媒で抽出することができる。また、反応液に酸を添加して酸性にしたあとで、有機溶媒で抽出後、有機層にアルコールを添加することもできる。また、加水分解物が有機層に溶解する場合は、反応液を有機溶媒で抽出後、有機層にアルコールおよび酸を添加することもできる。
なお、加水分解後、反応液はそのまま次工程に用いるか、または必要であれば濃縮して次工程に用いることができる。
有機溶媒としては、酢酸エチル、トルエンが好ましい。
A)酸性条件下で加水分解する場合は、酸は一般式(I)で示される化合物に対して0.25〜10モル当量、好ましくは1〜3モル当量用いることができる。
酸としては、塩酸または硫酸を用いることができる。反応溶媒、反応時間、反応温度、結晶の析出時間、結晶の析出温度等は以下に記載する塩基性条件化で加水分解した場合と同様に用いることができる。
B)塩基性条件下で加水分解する場合は、塩基は一般式(I)で示される化合物に対して0.25〜3モル当量、好ましくは0.8〜2.5モル当量、さらに好ましく1.2〜2モル当量は用いることができる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、または水酸化リチウム、好ましくは水酸化ナトリウムを用いることができる。なお、塩基は固体または水溶液として用いることができる。
反応溶媒としては、アルコール(メタノール、エタノール、n−プロパノール、またはイソプロパノール)/水またはトルエン/アルコール(メタノール、エタノール、n−プロパノール、またはイソプロパノール)/水の混合溶媒の混合溶媒、好ましくはトルエン/メタノール/水またはメタノール/水を用いることができる。
反応時間は0.25〜8時間、好ましくは0.5〜2時間で行うことができる。
反応温度は10℃〜70℃、好ましくは20℃〜60℃で行うことができる。
加水分解終了後、必要であれば反応液をトルエンで洗浄して、一般式(I)で示される化合物の加水分解物が溶解している層(水層または有機層)を得ることができる。
反応液または一般式(I)で示される化合物の加水分解物が溶解している層に加える酸としては、塩酸または硫酸、好ましくは硫酸を用いることができる。
工程Bは工程Aで生成した一般式(I)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(II)で示される化合物の結晶を生成させる工程である。
添加するアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、またはそれらの混合溶媒、好ましくはイソプロパノールを用いることができる。
結晶は0.25〜12時間、好ましくは0.25〜2時間で析出させることができる。
結晶は、−10℃〜25℃、好ましくは−5℃〜5℃で析出させることができる。
なお、工程C、D、及びAは、単離することなく連続して行うことができる。
工程Eは一般式(II)で示される化合物をハロゲン化剤で反応し、一般式(VI)示される化合物を生成させる工程である。
ハロゲン化剤は一般式(II)で示される化合物に対して0.5〜2モル当量、好ましくは0.8〜1.5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、またはそれらの混合溶媒、好ましくはトルエン/N−メチルピロリドンまたはテトラヒドロフラン/N,N−ジメチルホルムアミドの混合溶媒を用いることができる。
反応時間は0.25〜12時間、好ましくは0.25〜2時間で行うことができる。
反応温度は10℃〜50℃、好ましくは20℃〜30を用いることができる。
工程4の反応終了後、反応液はそのまままたは必要であれば濃縮して、工程Fに用いることができる。
工程Fは一般式(VI)で示される化合物と一般式(VII)で示される化合物またはその酸塩を塩基存在下で反応させて、一般式(VIII)で示される化合物を生成させる工程である。
一般式(VII)で示される化合物またはその酸塩は一般式(VI)で示される化合物に対して0.5〜2モル当量、好ましくは0.8〜1.5モル当量用いることができる。
酸塩としては、塩酸塩、臭化水素酸塩、または硫酸塩、好ましくは塩酸塩を用いることができる。
塩基は一般式(VI)で示される化合物に対して0.5〜2モル当量、好ましくは0.8〜1.5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、またはそれらの混合溶媒、好ましくはトルエン/N−メチルピロリドンまたはテトラヒドロフラン/N,N−ジメチルホルムアミドの混合溶媒を用いることができる。
反応時間は0.25〜12時間、好ましくは0.25〜2時間で行うことができる。
反応温度は10℃〜50℃、好ましくは20℃〜30で行うことができる。
R7が水素原子の場合、工程Fの反応終了後、結晶を析出させることができる。必要であればアルコールを加えて結晶を析出させることができ、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、またはそれらの混合溶媒、好ましくはイソプロパノールを用いることができる。
結晶は0.25〜12時間、好ましくは0.25〜2時間で析出させることができる。
結晶は、−10℃〜25℃、好ましくは−5℃〜5℃で析出させることができる。
R7がアルキルの場合、工程Aと同様に、酸性条件下または塩基存在下で加水分解し、R7が水素原子である一般式(VIII)で示される化合物を得ることができる。
なお、必要であれば工程Bと同様に、アルコールを加えて結晶を析出させることができ、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、またはそれらの混合溶媒、好ましくはイソプロパノールを用いることができる。
結晶は0.25〜12時間、好ましくは0.25〜2時間で析出させることができる。
結晶は、−10℃〜25℃、好ましくは−5℃〜5℃で析出させることができる。
本明細書中、「一般式(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)、および(VIII)で示される化合物の塩」とは、例えば、一般式(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)、および(VIII)で示される化合物とアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)、アンモニウム、有機塩基およびアミノ酸との塩、または無機酸(塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸等)、および有機酸(酢酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等)との塩が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
該結晶は上記の製造工程を行う上でまたは式(VIII)で示される化合物を有効成分として含有する医薬組成物を製造する上で取り扱い易く、また高純度であることから医薬組成物を製造するために有用な結晶である。
式(II)および式(VIII)で示される化合物の結晶については、後記実施例1〜20にX線回折パターンを示す(X線回折測定条件:管球CuKα線、管電圧40Kv、管電流40mAまたは50mA、dsinθ=nλ(nは整数、dは面間隔(単位:オングストローム)、θは回折角(単位:度)))。
これらの結晶は、各回折角または面間隔の値によって特徴づけられる。
実施例中、以下の略号を使用する。
Me:メチル
Et:エチル
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
THF:テトラヒドロフラン
DMSO:ジメチルスルホキシド
TMS:テトラメチルシラン
工程1
化合物(III−a、39.1 g、0.454 mol)、化合物(IV−a、20.3 g、0.189 mol)のトルエン(142 mL)溶液を5.5時間脱水還流した。反応液を減圧濃縮し、濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た濃縮液に化合物(V−a、61.3 g、0.283 mol)を加え、120℃で、8時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−a)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(60 mL)、24%水酸化ナトリウム水溶液(38 mL)を加え、25℃で、0.5時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエン(213 mL)で洗浄した。水層に61%硫酸(3.3 g)、次いで31%硫酸(26 g)を加えて酸性とし、酢酸エチル(144 mL)で抽出した。抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(24 mL)を加え、0℃で、0.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−a、36.6 g、71.4%)を得た。
融点:114℃
NMR(CDCl3、TMS):1.18 (t, 3H, J=7.7), 2.24 (s, 3H), 2.73 (q, 2H, J=7.5), 5.49 (br s, 2H), 7.09 (m, 2H), 7.29-7.38 (m, 3H), 8.38 (s, 1H), 14.53 (br s, 1H)
粉末X線回折の結果を表1および図1に示す。
主なピークの回折角:2θ=10.5,15.1,19.5,21.7,25.2度
実施例2 化合物(II−b)の合成
工程1
化合物(III−a、39.1 g、0.454 mol)、化合物(IV−b、23.7g、0.189 mol)のトルエン(142 mL)溶液を5時間脱水還流した。反応液を減圧濃縮し、濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た濃縮液に化合物(V−a、61.3 g、0.283 mol)を加え、117℃で、8時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−b)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(60 mL)、26%水酸化ナトリウム水溶液(43.7 g)を加え、25℃で、0.5時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエン(213 mL)で洗浄した。水層に61%硫酸(3.3 g)、次いで31%硫酸(26 g)を加えて酸性とし、酢酸エチル(144mL)で抽出した。水(95 mL)で洗浄したのち抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(24 mL)を加え、0℃で、0.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−b、35.9 g、65.6%)を得た。
融点:110〜111℃
NMR(DMSO−d6、TMS):1.05 (t, 3H, J=7.5), 2.24 (s, 3H), 2.75 (q, 2H, J=7.5), 5.48 (s, 2H), 7.15-7.25 (m, 4H), 8.32 (s, 1H), 14.68 (s, 1H)
粉末X線回折の結果を表2および図2に示す。
主なピークの回折角:2θ=13.7,19.0,24.2,26.4,27.8度
実施例3 化合物(II−c)の合成
工程1
化合物(III−a、39.1 g、0.454 mol)、化合物(IV−c、21.4 g、0.189 mol)のトルエン(142 mL)溶液を5時間脱水還流した。反応液を減圧濃縮し、濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た濃縮液に化合物(V−a、61.3 g、0.283 mol)を加え、117℃で、8時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−c)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(60 mL)、24%水酸化ナトリウム水溶液(38.4 mL)を加え、25℃で、0.5時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエン(213 mL)で洗浄した。水層に61%硫酸(3.3 g)、次いで31%硫酸(26 g)を加えて酸性とし、酢酸エチル(144 mL)で抽出した。水(95 mL)で洗浄したのち抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(24 mL)を加え、0℃で、0.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−c、37.5 g、71.5%)を得た。
融点:131℃
NMR(DMSO−d6、TMS):1.00-1.30(m, 5H), 1.22(t, 3H, J=7.5), 1.55-1.90(m, 6H), 2.24(s, 3H), 2.82(q, 2H, J=7.2), 3.90-4.20(m, 2H), 8.29(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表3および図3に示す。
主なピークの回折角:2θ=9.8,14.5,20.4,21.9,25.6度
実施例4 化合物(II−d)の合成
工程1
化合物(III−a、39.1 g、0.454 mol)、化合物(IV−d、16.5 g、0.189 mol)のトルエン(142 mL)溶液を8時間脱水還流した。反応液を減圧濃縮し、濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た濃縮液に化合物(V−a、61.3 g、0.283 mol)を加え、120℃で、8時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−d)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(60 mL)、24%水酸化ナトリウム水溶液(38.4 mL)を加え、25℃で、0.5時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエン(213 mL)で洗浄した。水層に61%硫酸(3.3 g)、次いで31%硫酸(26 g)を加えて酸性とし、酢酸エチル(144 mL)で抽出した。水(95 mL)で洗浄したのち抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(24 mL)を加え、0℃で、0.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−d、28.2 g、59.3%)を得た。
融点:106℃
NMR(DMSO−d6、TMS):1.02(d, 6H, J=6.6), 1.28(t, 3H, J=7.5), 1.56-1.66(m, 2H), 1.78(m, 1H), 2.23(s, 3H), 2.79(q, 2H, J=7.5), 4.10-4.21(m, 2H), 8.28(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表4および図4に示す。
主なピークの回折角:2θ=10.1,10.8,21.3,26.0度
実施例5 化合物(II−e)の合成
工程1
化合物(III−a、58.6 g、0.681 mol)、化合物(IV−e、27.1g、0.189 mol)のトルエン(142 mL)溶液を5時間脱水還流した。反応液を減圧濃縮し、濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た濃縮液に化合物(V−a、61.3 g、0.283 mol)を加え、117℃で、8時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−e)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(59 mL)、24%水酸化ナトリウム水溶液(38.6 mL)を加え、25℃で、0.5時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエン(212 mL)で洗浄した。水層に61%硫酸(3.3 g)、次いで31%硫酸(26 g)を加えて酸性とし、酢酸エチル(144 mL)で抽出した。水(95 mL)で洗浄したのち抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(24 mL)を加え、0℃で、0.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−e、39.6 g、68.1%)を得た。
融点:131〜132℃
1H−NMR(CDCl3、TMS):1.21(t, 3H, J=7.7), 2.25(s, 3H), 2.73(q, 2H, J=7.4), 5.42(br s, 2H), 6.86(m, 1H), 6.96(ddd, 1H, J=10.8, 7.4 and 2.3), 7.15(dt, 1H, J=9.9 and 8.3), 8.39(s, 1H), 14.31(br s, 1H)
粉末X線回折の結果を表5および図5に示す。
主なピークの回折角:2θ=13.4,13.8,19.0,24.3,27.9度
実施例6 化合物(II−f)の合成
工程1
化合物(III−b、10.0g、0.079 mol)、化合物(IV−c、8.97 g、0.079 mol)のトルエン(100 mL)溶液を7時間脱水還流した。
工程2
工程1で得た反応液に化合物(V−b、20.56 g、0.095 mol)を加え、16時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−f)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(150 mL)、2N水酸化ナトリウム水溶液(79 mL、0.158 mol)を加え、25℃で、3時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエンと水を加え、水層を分離した。水層に5規定塩酸(34 mL)を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(40 mL)を加え、0℃で、1時間攪拌し、晶析させた。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−f、15.5 g、61.6%)を得た。
NMR(CDCl3、TMS):1.05-1.71 (m, 19H), 2.70-2.74(m, 2H), 2.98-3.01(m, 2H), 4.06 (bs, 2H), 8.21 (s, 1H), 14.96 (s, 1H)
粉末X線回折の結果を表6および図6に示す。
主なピークの回折角:2θ=10.2,11.4,15.0,18.2,20.6, 21.5度
実施例7 化合物(II−g)の合成
工程1
化合物(III−b、30.0 g、0.238 mol)、化合物(IV−f、20.9 g、0.286 mol)のトルエン(80 mL)溶液を5.5時間脱水還流した。
工程2
工程1で得た反応液に化合物(V−b、51.5 g、0.238 mol)を加え、2時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−g)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(200 mL)、テトラヒドロフラン(200 mL)、2規定水酸化ナトリウム水溶液(149 mL)を加え、反応終了後,実施例1と同様の操作を行い、得られた結晶性の濃縮残渣に、メタノール(200 mL)を加え、再結晶を行った。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−g、47.9 g、72.5%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):1.00(t, 3H, J=7.5), 1.35-1.55(m, 6H), 1.60-1.86(m, 6H), 2.63-2.71(m, 2H), 2.90-2.99(m, 2H), 3.99-4.21(m, 2H), 8.27(s, 1H), 14.78(br s, 1H)
粉末X線回折の結果を表7および図7に示す。
主なピークの回折角:2θ=9.2,9.7,10.0,15.5,19.7度
実施例8 化合物(II−h)の合成
工程1
化合物(III−b、10.0 g、0.079 mol)、化合物(IV−b、11.9 g、0.095 mol)のトルエン(100 mL)溶液を7時間脱水還流した。
工程2
工程1で得た反応液に化合物(V−b、23.99 g、0.111 mol)を加え、15時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−h)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(150 mL)、2N水酸化ナトリウム水溶液(79 mL、0,158mol)を加え、25℃で、2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエンと水を加え、水層を分離した。水層に2−プロパノール(35 mL)、5規定塩酸を34mL加え、25℃で、1時間攪拌し,晶析させた。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−h、19.8 g、76.0%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):1.20-1.45 (m, 4H), 1.55-1.63 (m, 4H), 2.70-2.80 (m, 2H),2.85-2.95 (m, 2H), 5.47 (s, 2H), 7.18 (d, 4H,J=8.1), 8.29 (s, 1H), 14.7(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表8および図1に示す。
主なピークの回折角:2θ=13.2,18.7,19.5,20.0,22.7度
実施例9 化合物(II−i)の合成
工程1
化合物(III−b、10.1 g、0.0800 mol)、化合物(IV−d、6.98 g、0.0800 mol)のトルエン(100 mL)溶液を6時間脱水還流した。
工程2
工程1で得た反応溶液に化合物(V−b、20.8 g、0.0960 mol)を加え、15時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I−i)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(86 mL)とテトラヒドロフラン(86 mL)、2N水酸化ナトリウム水溶液(80.0 mL)を加え、25℃で、3時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエンと水を加え、水層を分離した。得られた水層を5規定塩酸(40 mL)と酢酸エチル(300 mL)の混合溶液に加え、酢酸エチル(50 mL)で抽出した。抽出液を減圧濃縮し、2−プロパノール(8 mL)を加え、25℃で、15時間攪拌し,晶析させた。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(II−i、12.1 g、52.0%)を得た。
NMR(DMSO−d6):0.95(d, 6H, J=6.6), 1.33(brs, 2H), 1.43(brs, 2H), 1.50-1.60(m, 4H), 1.71-1.78(m, 3H), 2.70(m, 2H), 2.97(m, 2H), 4.14(m, 2H), 8.19(s, 1H),14.9(s,1H)
粉末X線回折の結果を表9および図9に示す。
主なピークの回折角:2θ=8.4,9.8,14.3,20.3,21.8度
実施例10 化合物(II−j)の合成
工程1
化合物(III−b、10.6 g、0.084 mol)、化合物(IV-e、10.0 g、0.070 mol)のトルエン(80 mL)溶液を7時間脱水還流した。
工程2
工程1で得た反応液に化合物(V−b、15.9 g、0.074 mol)を加え、7時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し、化合物(I-j)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(70 mL)、水酸化ナトリウム(8.38 g)の水(40 mL)溶液を加え、室温で1時間攪拌した。反応終了後、実施例1と同様の操作を行い、得られた結晶性の濃縮残渣に、メタノール(100 mL)を加え、50 gになるまで濃縮し、0℃で静置した。析出した結晶を炉取し、少量の冷メタノールで洗浄し,乾燥し,化合物(II−j、12.5 g、51.7%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):1.37-1.55(m, 4H), 1.65-1.80(m, 4H), 2.64-2.72(m, 2H), 2.82-2.91(m, 2H), 5.42(s, 2H), 6.85(m, 1H), 6.95(m, 1H), 7.15(m, 1H), 8.38(s, 1H), 14.34(br s, 1H)
粉末X線回折の結果を表10および図10に示す。
主なピークの回折角:2θ=14.6,15.7,17.9,23.5,26.8, 27.7度
工程1
実施例2で得た化合物(II−b、7.35 g、25.4 mmol)、トルエン(8.7 mL)とN−メチルピリドン(8.7 mL)の溶液に、塩化チオニル(3.32 g、27.9 mmol)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−a)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液に、化合物(VII−a、5.90 g、30.5 mmol)とトリエチルアミン(3.1 g、30.5 mmol)のトルエン(18.5 mL)、N−メチルピリドン(18.5 mL)の溶液を加えた。次いでトリエチルアミン(5.66 g、55.9 mmol)を加えたのち、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(IX−a)を含む反応液を得た。6%硫酸(34.6 g)、4%水酸化ナトリウム(32.2 g)、精製水(14.5 mL)で洗浄後、減圧濃縮した。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(25.9 mL)、36%水酸化ナトリウム水溶液(7.06g)を加え、50℃で、4時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、2−プロパノール(54.6 g)、
10%硫酸(68.5 g)を加えて酸性とし、25℃で、0.3時間晶析した。析出した結晶をろ取
し、乾燥して化合物(VIII−a、9.78g、92.9%)を得た。
融点:237〜238℃
NMR(DMSO−d6、TMS):1.05 (t, 3H, J = 7.8Hz), 1.15-2.10 (m, 10H), 2.19 (s, 3H), 2.67 (dd, 2H, J = 7.2 and 15 Hz), 5.42 (s, 2H), 7.13-7.22 (m, 4H), 8.19 (s, 1H), 10.14 (s, 1H),12.17 (br, 1H)
粉末X線回折の結果を表11および図11に示す。
主なピークの回折角:2θ=9.4,17.8,18.5,20.9,38.4度
実施例12 化合物(VIII−b)の合成
工程1
実施例2で得た化合物(II−b、7.36 g、25.4 mmol)、DMF(1.0 mL)、THF(73.6 mL)溶液に、塩化チオニル(3.3 g、27.9 mmol)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−a)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液に、化合物(VII−b、5.85 g、27.9 mmol)、ピリジン(20.1 g、254 mmol)、ジメチルアミノピリジン(620 mg、5.1 mmol)を加え、25℃で、20時間撹拌したのち、14%塩酸(134.6 g)を加え、酢酸エチル(217 mL)で抽出した。抽出液を水(74 mL)、5%炭酸水素ナトリウム水(74 mL)で洗浄した。抽出液を減圧濃縮し、化合物(IX−b)を含む濃縮液を得た。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、THF(35.7 mL)、メタノール(25.5 mL)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(45.9 mL)を加え、0℃で、2時間撹拌した。2規定塩酸(25.2 mL)を加えて酸性とし、水(40 mL)を加えた後、0℃で、0.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(VIII−b、9.04g、91.7%)を得た。
融点:202〜203℃
NMR(DMSO−d6、TMS):1.06(t, 3H, J=7.5Hz), 2.24(s, 3H), 2.75(q, 2H, J=7.5Hz), 3.79 (s, 2H), 5.49(br-s, 2H), 7.13-7.28(m, 4H), 8.42(s, 1H), 13.65(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表12および図12に示す。
主なピークの回折角:2θ=8.5,18.4,23.9,25.2度
実施例13 化合物(VIII−c)の合成
工程1
実施例4で得た化合物(II−d、6.38 g、25.4 mmol)、トルエン(10.7 mL)、N−メチルピリドン(10.7 mL)の溶液に、塩化チオニル(3.32 g、27.9 mmol)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−d)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液に、化合物(VII−a、5.41 g、27.9 mmol)とトリエチルアミン(2.83 g、27.9 mmol)のトルエン(15.9 mL)、N−メチルピリドン(15.9 mL)の溶液を加えた。次いでトリエチルアミン(5.66 g、55.9 mmol)を加えたのち、25℃で、1時間撹拌し、化合物(IX−c)を含む反応液を得た。6%硫酸(30.3 g)、4%水酸化ナトリウム(28.3 g)、水(12.6 mL)で洗浄後、減圧濃縮した。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、メタノール(22.7 mL)、36%水酸化ナトリウム水溶液(7.06g)を加え、50℃で、4時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、2−プロパノール(60.3 mL)、
10%硫酸(68.5 g)を加えて酸性とし、0℃で、1.5時間晶析した。析出した結晶をろ取し、
乾燥して化合物(VIII−d、7.77 g、81.3%)を得た。
融点:170〜171℃
NMR(DMSO−d6、TMS):0.97(d, 6H, J=6.6), 1.18(s, 3H, J=7.5), 1.26-1.78(m, 8H), 2.16(s, 3H), 2.75(q, 2H, J=7.5), 4.09(m, 2H), 8.09(s, 1H), 10.24(s, 3H)
粉末X線回折の結果を表13および図13に示す。
主なピークの回折角:2θ=10.9,13.3,20.4,22.7度
実施例14 化合物(VIII−d)の合成
工程1
実施例5で得た化合物(II−e、7.81 g、25.4 mmol)、トルエン(18 mL)、N−メチルピリドン(18 mL)の溶液に、塩化チオニル(3.33 g、28.0 mmol)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−c)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液に、化合物(VII−c、6.20 g、28.0 mmol)、トルエン(10.8 mL)、N−メチルピリドン(10.8 mL)、トリエチルアミン(8.49 g、83.9 mmol)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(IX−e)を含む反応液を得た。6%硫酸(37.3 g)、4%水酸化ナトリウム(33.7 g)、水(15.6 mL)で洗浄した後、減圧濃縮した。この濃縮液を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た濃縮液に、THF(42 mL)、メタノール(30 mL)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(50.8 mL)を加え、50℃で、3時間撹拌した。2規定塩酸(25.4 mL)を加えて酸性とし、水(24 mL)を加えた後、0℃で、0.3時間晶析した。析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(VIII−d、10.6 g、90.7%)を得た。
融点:194〜195℃
NMR(DMSO−d6、TMS):1.04 (t, 3H, J = 7.5), 1.22-1.58 (m, 10H), 2.17 (s, 2H), 2.18 (s, 3H), 2.65 (q, 2H, J = 7.5), 3.40 (d, 2H, J = 6.3), 5.43 (brs, 2H), 7.11-7.21 (m, 4H), 8.25 (s, 1H), 9.94 (t, 1H, J = 5.7), 12.15 (brs, 1H)
粉末X線回折の結果を表14および図14に示す。
主なピークの回折角:2θ=4.7, 12.8, 15.8,17.5,24.3,25.7度
実施例15 化合物(VIII−e)の合成
工程1
実施例6で得た化合物(II−f、800 mg、2.52 mmol)、テトラヒドロフラン(8 mL)の溶液に、塩化オキサリル(352 mg、2.77 mmol)とジメチルホルムアミド(2滴)を加え、25℃で、1時間撹拌し、化合物(VI−d)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液に、化合物(VII−d、516 mg、2.77 mmol)とトリエチルアミン(0.798 g、7.89 mmol)を加えた。25℃で、2時間撹拌し、化合物(IX−e)を含む反応液を得た。希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和重曹水、精製水(14.5 mL)で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をアセトン−へキサンから再結晶を行うことにより、IX−eを得た(577 mg、47%)。
工程3
工程2で得たIX−e(350 mg、0.72 mmol)にメタノール(3 m
L)、テトラヒドロフラン(3 mL)および1規定水酸化ナトリウム水溶液(2.2
mL、2.2 mmol)を加え、2時間室温で攪拌した。希塩酸を加えて酸性とし、酢
酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を濃縮し、残渣をアセトン−へキサンから再結晶を
行い、析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(VIII−e、370 mg、80.9
%)を得た。
NMR(CDCl3、TMS):1.00-1.90 (m, 19H), 2.62-2.73 (m, 2H), 2.90-3.00 (m, 2H), 3.90-4.20 (br, 2H), 5.68 (br, 1H), 7.46 (br, 1H), 8.35 (s, 1H), 8.91 (s, 1H), 13.64 (s, 1H)
粉末X線回折の結果を表15および図15に示す。
主なピークの回折角:2θ=6.9, 14.0, 19.4,21.6度
実施例16 化合物(VIII−f)の合成
工程1
実施例6で得た化合物(II−f、0.73 g、2.30 mmol)のTHF(3.5 mL)懸濁液にに、塩化チオニル(300 mg、2.53 mmol)および、DMF(2滴)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−d)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液を、化合物(VII−e、529 mg、2.53 mmol)、トリエチルアミン(815 mg、8.05 mmol)およびテトラヒドロフラン(4 mL)溶液に氷冷下ゆっくりと滴下し、25℃で、1.5時間撹拌した。希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、5%炭酸水素ナトリウム水で洗浄した。抽出液を減圧濃縮し、得られた残渣にメタノールを加え、化合物(IX−f、832 mg、74.2%)を得た。
工程3
工程2で得た化合物(IX−f、832 mg、1.71 mmol)に、THF(2 mL)、メタノール(1.5 mL)、1規定水酸化ナトリウム水溶液(2.5 mL)を加え、室温で、3時間撹拌した。反応液にトルエンと水を加え、水層を分離した。分離した水層に希塩酸を加えて酸性とし、生じた結晶をろ取し、乾燥し、目的の化合物(VIII−f、838 mg、定量的)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):1.04-1.88(m, 19H), 2.60(t, 2H, J=7.5), 2.71(t-like, 2H), 2.84(t, 2H, J=7.5), 3.00(t-like, 2H), 4.07(brd, 2H), 6.86(s, 1H), 8.28(s, 1H), 12,15(br, 1H), 13.43(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表16および図16に示す。
主なピークの回折角:2θ=12.9, 19.9, 20.4,21.2度
実施例17 化合物(VIII−g)の合成
工程1
実施例6で得た化合物(II−f、1.00 g、3.15 mmol)のTHF(5 mL)懸濁液に、塩化チオニル(410 mg、3.45 mmol)および、DMF(2滴)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−d)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液を、化合物(VII−f、786 mg、4.76 mmol)、トリエチルアミン(958 mg、9.47 mmol)およびテトラヒドロフラン(5 mL)溶液にゆっくりと滴下し、25℃で、1.5時間撹拌したのち、希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、5%炭酸水素ナトリウム水で洗浄した。抽出液を減圧濃縮し、化合物(IX−g)を含む残渣(1.57 g)を得た。この残渣を次の反応に用いた。
工程3
工程2で得た残渣(1.57 g)に、THF(7.8 mL)、メタノール(7.8 mL)、2規定水酸化ナトリウム水溶液(4.73 mL)を加え、室温で、1.5時間撹拌した。反応液にトルエンと水を加え、水層を分離した。分離した水層に希塩酸を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、乾燥後、溶媒を留去することにより、油上の残渣を得た。残渣にエーテルを加えて結晶化した後、アセトン−へキサンから再結晶を行うことにより、化合物(VIII−g、917 mg、65%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):1.04-1.84(m, 19H), 2.63-2.75(m, 2H), 2.90-3.05(m, 2H), 3.67(s, 2H), 3.95-4.20(m, 2H), 7.09(m, 1H), 7.23-7.32(m, 2H), 8.06(d, 1H, J=8.1), 8.24(s, 1H), 12.08(s, 1H), 12.37(br s, 1H)
粉末X線回折の結果を表17および図17に示す。
主なピークの回折角:2θ=6.6, 9.8, 13.2,16.1, 20.1, 20.9, 24.1度
実施例18 化合物(VIII−h)の合成
工程1
実施例10で得た化合物(II−j、500 mg、1.44 mmol)、テトラヒドロフラン(5 mL)の溶液に、塩化オキサリル(201 mg、1.58 mmol)とジメチルホルムアミド(1滴)を加え、25℃で、1時間撹拌し、化合物(VI−e)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液を、化合物(VII−d、320 mg、1.72 mmol)とトリエチルアミン(0.435 g、4.30 mmol)のテトラヒドロフラン(5 mL)溶液にゆっくりと加えた。25℃で、2時間撹拌し、化合物(IX−h)を含む反応液を得た。希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和重曹水、精製水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をアセトン−へキサンから再結晶を行うことにより、IX−hを得た(600 mg、81%)。
工程3
工程2で得たIX−h(580 mg、1.12 mmol)にメタノール(3.4
mL)、テトラヒドロフラン(3.4 mL)および1規定水酸化ナトリウム水溶液(3
.4 mL、3.4 mmol)を加え、1.5時間室温で攪拌した。希塩酸を加えて酸
性とし、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した。有機層を乾燥後,濃縮し、残渣をアセ
トン−へキサンから再結晶を行い、析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(VIII−
h、520 mg、95.2%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):1.27-1.49(m, 4H), 1.55-1.72(m, 4H), 2.67-2.80(m, 2H), 2.85-2.97(m, 2H), 3.60(s, 2H), 5.48(br s, 2H), 6.96-7.04(m, 1H), 7.03(s, 1H), 7.30-7.46(m, 2H), 8.38(s, 1H), 12.39(br s, 1H), 13.26(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表18および図18に示す。
主なピークの回折角:2θ=10.0, 17.9, 18.7,20.6, 21.5, 21.9度
実施例19 化合物(VIII−i)の合成
工程1
実施例9で得た化合物(II−i、300 mg、1.03 mmol)、テトラヒドロフラン(3 mL)の溶液に、塩化オキサリル(143 mg、1.13 mmol)とジメチルホルムアミド(1滴)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−f)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液を、化合物(VII−g、260 mg、1.24 mmol)とピリジン(3 mL)溶液にゆっくりと加えた。25℃で、14時間撹拌し、化合物(IX−i)を含む反応液を得た。希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和重曹水、精製水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマト(ヘキサン−酢酸エチル(1:2))で精製することにより、IX−iを淡黄色個体として得た(350 mg、76.1%)。
工程3
工程2で得たIX−i(340 mg、0.76 mmol)にメタノール(2.3 mL)、テトラヒドロフラン(2.3 mL)および1規定水酸化ナトリウム水溶液(2.3 mL、2.3 mmol)を加え、1時間室温で攪拌した。希塩酸を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した。有機層を乾燥後,濃縮し、残渣をアセトン−へキサンから再結晶を行い、析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(VIII−i、250 mg、76.1%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):0.98(d, 6H, J=6.6), 1.26-1.86(m, 11H), 2.65-2.80(m, 2H), 2.90-3.05(m, 2H), 3.81(s, 2H), 4.10-4.25(m, 2H), 8.32(s, 1H), 12.65(br s, 1H), 13.84(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表19および図19に示す。
主なピークの回折角:2θ=10.4, 18.0, 20.7,21.0度
実施例20 化合物(VIII−j)の合成
工程1
実施例4で得た化合物(II−i、300 mg、1.03 mmol)、テトラヒドロフラン(3 mL)の溶液に、塩化オキサリル(143 mg、1.13 mmol)とジメチルホルムアミド(1滴)を加え、25℃で、0.5時間撹拌し、化合物(VI−f)を含む反応液を得た。この反応液を次の反応に用いた。
工程2
工程1で得た反応液を、化合物(VII−h、310 mg、1.22 mmol)とトリエチルアミン(415 mg、4.1 mmol)とテトラヒドロフラン(3 mL)溶液にゆっくりと加えた。25℃で、14時間撹拌し、化合物(IX−j)を含む反応液を得た。希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和重曹水、精製水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマト(ヘキサン−酢酸エチル(2:1))で精製することにより、IX−jを得た(350 mg、76.3%)。
工程3
工程2で得たIX−j(340 mg、0.76 mmol)にメタノール(2.3 mL)、テトラヒドロフラン(2.3 mL)および1規定水酸化ナトリウム水溶液(2.3 mL、2.3 mmol)を加え、2.5時間室温で攪拌した。希塩酸を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した。有機層を乾燥後,濃縮し、残渣をアセトン−へキサンから再結晶を行い、析出した結晶をろ取し、乾燥して化合物(VIII−j、230 mg、70.1%)を得た。
NMR(DMSO−d6、TMS):0.98(d, 6H, J=6.6), 1.26-1.84(m, 11H), 2.65-2.77(m, 2H), 2.90-3.03(m, 2H), 3.82(s, 2H), 4.10-4.25(m, 2H), 7.31(s, 1H), 8.24(s, 1H), 12.63(br s, 1H), 13.39(s, 1H)
粉末X線回折の結果を表20および図20に示す。
主なピークの回折角:2θ=9.1, 12.1, 18.0,18.3, 19.7度
Claims (6)
- 一般式(III):
(式中、R 1 は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキル、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニル、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニル)で示される化合物を、一般式(IV):
(式中、R 2 及びR 3 はそれぞれ独立して、アルキル、アルキルオキシアルキル、又はアルキルオキシ;又は
R 2 及びR 3 は隣接する炭素原子と一緒になって、シクロアルケンを形成してもよい)で示される化合物と反応させる工程C、
工程Cで生成した化合物を、一般式(V):
(式中、R 4 は水素原子又はヒドロキシ;R 5 はアルキル;及びR6はアルキル)で示される化合物と反応させ、一般式(I):
(式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は前記と同意義)で示される化合物を生成させる工程D、
工程Dで生成した化合物を加水分解する工程A、及び、
工程Aで生成した一般式(I)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(II):
(式中、R 1 、R 2 、R 3 、及びR 4 は前記と同意義)で示される化合物を得る工程Bを含み、上記工程C、D、A、及びBを連続して反応を行うことを特徴とする、一般式(II)で示される化合物の製造方法。 - 一般式(III):
(式中、R1は請求項1と同意義)で示される化合物を、一般式(IV):
(式中、R2及びR3は請求項1と同意義)で示される化合物と反応させる工程C、
工程Cで生成した化合物を、一般式(V):
(式中、R4、R5、及びR6は請求項1と同意義)で示される化合物と反応させ、一般式(I):
(式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は請求項1と同意義)で示される化合物を生成させる工程D、
工程Dで生成した化合物を加水分解する工程A、
工程Aで生成した一般式(I)で示される化合物の加水分解物にアルコールを添加し、一般式(II):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は請求項1と同意義)で示される化合物を得る工程B、
一般式(II)で示される化合物を、ハロゲン化試薬と反応させ、一般式(VI):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は請求項1と同意義;Halはハロゲン原子)で示される化合物を生成させる工程E、及び、
一般式(VI)で示される化合物を、一般式(VII):
(式中、R7は水素原子又はアルキル;
Xはヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、ヘテロ原子を介在していてもよく、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルカンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいシクロアルケンジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいアリールジイル、非反応性置換基で置換されていてもよいヘテロアリールジイル、又は非反応性置換基で置換されていてもよい非芳香族複素環ジイル;
Yは単結合、非反応性置換基で置換されていてもよいアルキレン、非反応性置換基で置換されていてもよいアルケニレン、又は非反応性置換基で置換されていてもよいアルキニレン)で示される化合物と反応させ、必要に応じて加水分解反応に付する工程F、を含み、上記工程C、D、A、及びBを連続して反応を行うことを特徴とする、
一般式(VIII):
(式中、R1、R2、R3、及びR4は請求項1と同意義;R7、X、及びYは上記と同意義)で示される化合物の製造方法。 - 一般式(II)で示される化合物を結晶として得る請求項1又は2に記載の製造方法。
- R1が非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルであり、R2がC1−C2アルキルであり、R3がC1−C3アルキルであり、R4が水素原子であり、及びR5がC1−C2アルキルである請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- R1が非反応性置換基で置換されていてもよいアルキルであり、R2及びR3が隣接する炭素原子と一緒になって、シクロオクテンを形成するであり、R4が水素原子であり、及びR5がC1−C2アルキルである請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 添加するアルコールがイソプロパノールである請求項4又は5記載の製造方法。
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