JP5241982B2 - 気相反応物を反応室内へ供給するための方法および装置 - Google Patents
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Description
本発明のさらなる目的は、気相の反応物の流れを生成する新規な反応物源アセンブリを提供することである。
反応源アセンブリは、請求項37の特徴部分に記載されていることを特徴とする。
次に、詳細な説明により、実際に役立つ実施形態に関連して本発明をさらに詳細に検証する。
反応物源と反応室のガススペースは、気相反応物を反応物源から反応室に供給できるようにするため、連絡するような構造である。しかし、相互接続する第1導管は、一方または両方の容器の排気および/または保守中に反応物源と反応室のガススペースを分離するために使用する少なくとも1つの弁も、備えることができる。導管内で反応物の流れとは反対方向に流れるガスの気相バリアを形成することにより、反応物源から反応室までの反応物の流れを防止する不活性ガスの弁を導管内に配置することも可能である。
ガススペース内の気化反応物を収集する。
気相反応物をガススペースから第1導管を介して気相反応室へ供給する。
この実施形態では、液体または固体不純物から気化反応物を解放するため、気化反応物を第1清浄器内で浄化し、次に前述したガススペース内で収集することができる。第1清浄器は、例えば容器の開口を覆う(以下の第2フィルタに関して開示する種類のいずれかの)フィルタを備える。
ガススペースは、反応物の凝縮を回避するため、気化温度と等しいか、またはそれより高い温度に保持される。ガススペースのガス体積は、1気相パルスのガス体積より少なくとも5倍であることが好ましい。
第1容器は、材料の腐食を防止する追加の非反応性表面コーティングを有する材料で作成することもできる。
第3導管は、反応温度に等しいかそれ以下の温度に保持される。第3導管は、圧力外殻内に配置された開放ガス流路を備える。
開口を有し、液体または固体の反応物質を含む第1容器と、
第1容器を囲む気密容器壁を有し、第1容器の周囲にガススペースを画定する第2容器とを備える。
1 真空容器
1’ 弁
2 加熱要素
2’ 熱反射器箱
3 熱反射器シート
3’ 熱反射器ドア
4 固体源
4’ 水冷装置
5 希ガス弁
6 フィルタ
7 ガススペース
8 遮断弁
9 アクチュエータ
9’ ラインパイプ
10 引込み線
11 アンプル
12 蓋
13 焼結体(Sinter)
14 引込み線
15 圧力逃し弁
16 遮断弁
17 遮断弁
30 液体または固体源化学物質のスペース
31 焼結体
40 液体または固体源化学物質のスペース
41 焼結体
50 液体または固体源化学物質のスペース
51 焼結体
60 反応室
幾つかの固体源アセンブリを反応器の圧力外殻に取り付けることが可能であり、これによって様々な温度で操作することができる。
Claims (36)
- 周囲温度で液体または固体である反応物を、気化温度で反応物源から気化させ、
気化した反応物を反応室に供給し、
反応物源および反応室を、個々に排気できる別々の容器に配置した、反応物源から気相反応室に気相反応物を供給する方法であって、
開口を有する第1容器からなる反応物源内に保持された液体または固体の反応物質から反応物を気化させることを含み、前記第1容器を圧力外殻内に配置し、圧力外殻内に取り付けた加熱手段によって気化温度まで加熱すること、さらに、
気化した反応物を前記第1容器から第1清浄器に送り、気化反応物に含まれた不純物を除去すること、
第1清浄器を通過した気化反応物をガススペース内に収集すること、および気相反応物をガススペースから第1導管を介して気相反応室へ供給することからなることを特徴とする方法。
- 反応物源と反応室とを互いに断熱する、請求項1に記載の方法。
- 反応物源と反応室とを、少なくとも1つの弁を備える第1導管で相互接続する、請求項1または2に記載の方法。
- 導管内で反応物の流れとは反対方向に流れるガスの気相バリアを形成することにより反応物源から反応室までの反応物の流れを防止する第1導管で、反応物源と反応室とを相互接続する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 一方または両方の前記個々に排気できる別々の容器を排気中に、反応物源と反応室のガススペースを分離するため、弁を使用する、請求項3に記載の方法。
- 反応物源を、反応室の圧力を超える圧力で操作する、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 反応物源が、ガスを反応物源に供給する少なくとも1つの入口、およびガスを反応物源から引き出す少なくとも1つの出口からなる、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 反応物源の出口が反応室と連絡する、請求項7に記載の方法。
- 気化した反応物を、自身内に含まれて分散した液体の小滴または固体粒子を除去するため、前記第1清浄器に送る、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1清浄器が、0.01μm未満、好ましくは0.005μm未満のサイズを有する微粉を基本的には完全に除去することができる半透膜または同様のフィルタからなる、請求項9に記載の方法。
- 反応物を気相パルスの形態で反応室に供給し、気相パルスの体積よりはるかに大きいガスの体積を有するガススペース内で気化反応物を収集することと、第1導管を介してガススペースから気相反応室に1回に1気相パルスを供給することからなる、請求項1に記載の方法。
- 前記個々に排気できる別々の容器に能動的断熱材を設ける、請求項1に記載の方法。
- 気化した反応物を第1清浄器で洗浄し、次にガススペースで収集する、請求項1に記載の方法。
- 第1清浄器が、前記第1容器の開口を覆う機械的フィルタを備える、請求項1または13に記載の方法。
- 前記第1容器が中心軸および中心軸に垂直な環状断面を有し、少なくとも前記第1容器の内面に開口が形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記第1容器が中心軸および中心軸に垂直な円形断面を有し、前記第1容器の上面に開口が形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記第1容器が中心軸および中心軸に垂直な円形断面を有し、前記第1容器の側壁に開口が形成される、請求項1に記載の方法。
- 気化した反応物を、前記第1容器を囲むガススペース内で収集する、請求項1に記載の方法。
- ガススペースを、第1容器と、第1容器を囲む第2容器との隙間に形成する、請求項18に記載の方法。
- ガススペースを、気化温度以上の温度に保持する、請求項1に記載の方法。
- ガススペースのガス体積が、1気相パルスのガス体積の少なくとも5倍ある、請求項1に記載の方法。
- 第1導管の長さの大部分が圧力外殻内に含まれる、請求項1に記載の方法。
- 第2清浄器を第1導管内に配置する、請求項1または22に記載の方法。
- 第2清浄器が、機械的フィルタ、セラミック分子篩、および分散した液体または固体の小滴または粒子または最小分子サイズの分子を反応物のガス流から分離することができる静電気フィルタの群から選択した清浄手段を備える、請求項23に記載の方法。
- 第1導管を介して反応物源から反応室に入る気化反応物の流れに対して気相バリアを形成するよう、ガススペースから気相パルスを供給する間の間隔において、接続点で第1導管に接続された第2導管を介して、不活性ガスを前記第1導管に供給し、
第1導管に接続された第3導管を介して前記第1導管から不活性ガスを引き出し、前記第3導管が、気相反応物の凝縮温度以上の温度に保持され、第2導管の上流の点で第1導管に接続される、請求項1から24のいずれか一項に記載の方法。
- 第2導管の長さの大部分を圧力外殻内に配置する、請求項25に記載の方法。
- 第1導管の少なくとも一部の長さで、第2導管を介して供給された不活性ガスが反応物の流れと反対方向に送られる、請求項25または26に記載の方法。
- 第3導管を、反応温度以下の温度に保持する、請求項25に記載の方法。
- 第3導管が、圧力外壁内に配置された開放ガス流路を備える、請求項25に記載の方法。
- 第1導管内の反応物の流れとは反対の方向に配向された不活性ガスの流れが得られるように、第2導管が第1導管に接続する点の下流にある点で、不活性ガスを第1導管に供給する、請求項25に記載の方法。
- 不活性ガスを、気化した固体または気体反応物のキャリアガスとして使用する、請求項1から30のいずれか一項に記載の方法。
- 第4導管を介して不活性ガスをガススペースに供給する、請求項31に記載の方法。
- 圧力外殻の外側に配置された調整手段を有する弁によって、第1導管を通る気化反応物の流れおよび所望により不活性ガスの流れを制御する、請求項1から32のいずれか一項に記載の方法。
- 第2容器は、第1導管および第4導管に着脱可能な状態で接続する、請求項32に記載の方法。
- 加熱手段が管状の抵抗加熱器要素を備える、請求項1に記載の方法。
- 加熱手段を圧力外殻の近傍に取り付ける、請求項1から35のいずれか一項に記載の方法。
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