JP5241963B2 - ガスレーザ発振器、及びガスレーザ発振器におけるガス交換方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明にかかる実施の形態1のガスレーザ発振器1の構成を示す図である。ガスレーザ発振器1は封じ切りタイプのガスレーザ発振器であり、放電電極2、ガスレーザ発振器1内部のレーザガスを循環させるガス循環ブロア3、レーザ光11の一部を反射し他を透過し得る部分反射鏡4、レーザ光11を全反射する全反射鏡5、レーザガスの温度制御のための熱交換をする熱交換器6を備える。
Pd=L×T+Pdl・・・(式1)
ここで、L(Torr/Hr)は単位時間当たり不純ガスが外部から真空容器7へ浸入する漏れ量即ちリーク速度、T(Hr)はレーザガス交換の間隔、Pdl(Torr)は前回レーザガス交換したときに真空ポンプ14による真空引きによる目標到達圧力、即ち、真空引き後の発振器筐体(真空容器7)内に残った不純ガス(主として大気)の圧力である。
本発明にかかる実施の形態2のガスレーザ発振器1の構成も図1と同じである。日常的にガスレーザ発振器1を使用し、レーザガス交換を実施する場合は、毎回のレーザガス交換後の筐体(真空容器7)内の不純ガス量が飽和する(定常値を保つ)には以下の(式2)の関係が成り立っている。これは、真空引き前後の不純ガス圧の全圧に対する割合から要請される関係である。
Pda=(Pda+L×T)×Pv/(Pl+L×T)・・・(式2)
ここで、Pda(Torr)はレーザガス交換後の不純ガス圧、Pl(Torr)はレーザガス交換直後に筐体内に充填されたレーザガスを含めた全圧、Pv(Torr)は真空引き後の筐体内の到達圧力(全圧)である。
Pdth≧Pda+L×T・・・(式3)
2 放電電極
3 ガス循環ブロア
4 部分反射鏡
5 全反射鏡
6 熱交換器
7 真空容器(気密容器)
8 温度制御ユニット
9 電源盤
10 制御手段
11 レーザ光
12 レーザガス供給源
13 圧力計
14 真空ポンプ
15、16、17 弁
18 入力端末
S41〜S44 ステップ
Claims (6)
- 気密容器と、
前記気密容器にレーザガスを供給するレーザガス供給源と、
予め定めたレーザガス交換の間隔の度に前記気密容器内が目標到達圧力となるまで真空引きを行う前記気密容器に接続された真空ポンプと
を有し、前記気密容器に前記レーザガスが充填された状態でレーザ発振する封じ切り型のガスレーザ発振器であって、
ガスレーザ発振器が動作可能な許容不純ガス圧力から前記レーザガス交換の間隔と真空引き後の前記気密容器への外部からの不純ガスのリーク速度の積を減じた値以下となるように前記目標到達圧力を決定する手段を
備えたことを特徴とするガスレーザ発振器。 - 前記リーク速度に推定値を用いる
ことを特徴とする請求項1に記載のガスレーザ発振器。 - 前記気密容器内に圧力計を備え、
前記リーク速度を前記圧力計の測定結果に基づいて求める
ことを特徴とする請求項1に記載のガスレーザ発振器。 - 気密容器と、当該気密容器にレーザガスを供給するレーザガス供給源と、当該気密容器に接続された真空ポンプとを有し、当該気密容器に当該レーザガスが充填された状態でレーザ発振する封じ切り型のガスレーザ発振器において、
レーザガス交換の間隔を定める工程と、
前記気密容器内の目標到達圧力を、ガスレーザ発振器が動作可能な許容不純ガス圧力から前記レーザガス交換の間隔と真空引き後の前記気密容器への外部からの不純ガスのリーク速度の積を減じた値以下となるように定める工程と、
前記レーザガス交換の間隔を経る度に、前記不純ガスが前記目標到達圧力となるまで前記真空ポンプが前記気密容器に真空引きを行う真空引き工程と、
前記真空引き工程にて前記不純ガスが前記目標到達圧力に達した後に前記レーザガス供給源が前記気密容器を前記レーザガスで充填する工程と
を備えたことを特徴とするガスレーザ発振器におけるガス交換方法。 - 前記リーク速度に推定値を用いる
ことを特徴とする請求項4に記載のガスレーザ発振器におけるガス交換方法。 - 前記気密容器内に圧力計を備え、
前記リーク速度を前記圧力計の測定結果に基づいて求める
ことを特徴とする請求項4に記載のガスレーザ発振器におけるガス交換方法。
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