JP5238765B2 - 電子ビーム・マスク描画装置及びディジタル・アナログ変換/アンプ回路のテスト方法 - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 56
- 238000010998 test method Methods 0.000 title description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 60
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 11
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
- H03M1/00—Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
- H03M1/10—Calibration or testing
- H03M1/1071—Measuring or testing
- H03M1/109—Measuring or testing for dc performance, i.e. static testing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/76—Patterning of masks by imaging
- G03F1/78—Patterning of masks by imaging by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam patterning of masks
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/151—Electrostatic means
- H01J2237/1518—Electrostatic means for X-Y scanning
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/248—Components associated with the control of the tube
- H01J2237/2485—Electric or electronic means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
- H03M1/00—Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
- H03M1/66—Digital/analogue converters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
最小限必要とされる電力消費を維持ながら、最適のレベルで、現場において電子装置が作動していることを保証するために、電子装置内の部品の動作をモニターする必要がある。図1には、そのような部品の1つに、従来のディジタル/アナログ変換/アンプ回路100(以下、「DAC/アンプ回路」と称する。)がある。図1に示されるようにDAC/アンプ回路100は、DAC102及びアンプ104を含んでいる。ディジタル入力は、DAC102の端子106に与えられても良い。DAC102は、ディジタル入力をアンプ104の端子108に供給されるアナログ出力に変換するように構成されている。アンプ104は、アナログ信号を増幅し、端子110に増幅された信号を出力しても良い。
アナライザー回路であって、前記加算信号をディジタル化する高速ディジタイザ回路及びこのディジタル化された加算信号を受け取り、且つ、このディジタル化された加算信号をエラー許容値範囲と比較して少なくとも1つの前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路に動作エラーがあるかを検出するように連結されているエラー検出回路を含むアナライザー回路から構成される。
前記アナライザー回路は、前記加算信号をディジタル化加算信号に変換する高速ディジタイザと、前記ディジタル化加算信号及び前記ブランキング信号を受けるように接続されたエラー検出回路であって、このエラー検出回路は、ディジタル加算信号をエラー許容値範囲と比較して、ブランキング信号の検出期間における動作エラーの為にディジタル化された加算信号をチェックするエラー検出回路と、から構成されているテスト装置が提供される。
アナログ電圧信号を出力する多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路を含み、各ディジタル・アナログ変換/アンプ回路が第1の出力端子及び第2の出力端子を有し、これらディジタル・アナログ変換/アンプ回路の第1の出力端子が偏向電圧としての出力アナログ電圧を与えるように電子ビーム・マスク描画装置の偏向プレートに夫々接続されている電子ビーム・マスク描画装置に使用されるディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムにおいて、
前記第2の出力端子上の出力アナログ電圧信号を受け取り、受信電圧信号を加算し、この受信アナログ電圧信号の加算を示す加算信号を出力するように接続されている加算回路と、及び
アナライザー回路であって、
前記加算信号をディジタル化する高速ディジタイザ回路と、及び
このディジタル化された加算信号を受け取り、且つ、このディジタル化された加算信号をエラー許容値範囲と比較して少なくとも1つの前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路に動作エラーがあるかを検出するように連結されているエラー検出回路と、を含むアナライザー回路と、
から構成されるディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
前記検出の間、用いられるべきブランキング信号を発生する信号発生器を更に含み、前記エラー検出回路がブランキング信号の検出期間に前記比較を実施し、前記ディジタル化加算信号がエラー許容値範囲外にある場合に動作エラーが検出される第2の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
前記アナライザー回路は、
検出された動作エラーを記憶するメモリ装置であって、この記憶には、前記ディジタル化加算信号を表わすデータのサンプル、対応するタイムスタンプ及び検出期間直前に前記高速ディジタイザによってディジタル化されるデータを表わす付加情報を含むメモリ装置と、
前記高速ディジタイザ回路を制御するように連結されているコントローラーと、
を更に具備する第3の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
前記エラー許容値範囲は、電子ビーム・マスク描画装置の動作中に変更される第4の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路の前記第2の出力端子を介してアナログ電圧信号を受けて前記出力アナログ電圧信号に対応するリファインされたアナログ電圧を生成する多数のモニター回路を更に含み、
各モニター回路は、高入力インピーダンス・バッファ・アンプを含み、前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路の前記第2の出力端子が対応するモニター回路に夫々連結されている第5の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
前記動作エラーは、電子ビーム・マスク描画装置の動作中に検出される第6の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
データのサンプルが前記動作エラーのタイプを決定する波形を生成するに使用される第7の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
第1グループの電圧は、第1グループの偏向プレートに印加され、第2グループの電圧は、第2グループの偏向プレートに印加され、これら第1及び第2グループの電圧は、前記偏向電圧及び非点収差電圧に基づいて発生され、
前記第1グループの電圧加算或いは前記第2グループの電圧加算が略零電圧であるならば、前記エラー許容値内で前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路が動作される第8の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
前記出力アナログ電圧信号は、エラー動作がない場合における略0ボルトのネット加算を有している信号のグループとなる第9の実施の態様に係るディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムが提供される。
多数のアナログ電圧信号を受け、このアナログ電圧信号を加算し、このアナログ電圧信号の加算を示す加算信号を出力する加算回路と、
ブランキング信号を生成する信号発生器と、及び
前記加算信号を受けるように接続されているアナライザー回路と、
を具備する電子ビーム・マスク描画装置において、
前記アナライザー回路は、
前記加算信号をディジタル化加算信号に変換する高速ディジタイザと、
前記ディジタル化加算信号及び前記ブランキング信号を受けるように接続されたエラー検出回路であって、このエラー検出回路は、ディジタル加算信号をエラー許容値範囲と比較して、ブランキング信号の検出期間における動作エラーの為にディジタル化された加算信号をチェックするエラー検出回路と、
から構成されているテスト装置が提供される。
前記ディジタル化加算信号がエラー許容値範囲外にある場合に動作エラーが検出される第12の実施の態様に係るテスト装置が提供される。
前記アナライザー回路は、更に
前記検出された動作エラーの記録を格納するように接続されているメモリ装置であって、前記記録は、前記ディジタル化加算信号を表わすデータのサンプル、対応するタイムスタンプ及び前記検出期間直前に前記高速ディジタイザによってディジタル化されるデータを表わす付加情報を含むメモリ装置と、及び
前記高速ディジタイザ回路を制御するように連結されているコントローラーと、
を具備する第13の実施の態様に係るテスト装置が提供される。
前記動作エラーが検出され、前記データのサンプルが動作エラーのタイプを決定する波形を生成するために使用されている場合、前記アナライザー回路が通知を生成する第13の実施の態様に係るテスト装置が提供される。
前記動作エラーは、多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路の1つにおける非正常動作であることを示し、前記多数のアナログ電圧信号がディジタル・アナログ変換/アンプ回路の出力電圧に対応している第14の実施の態様に係るテスト装置が提供される。
前記アナログ電圧信号は、エラー動作がない場合に、エラー動作がない場合における略0ボルトのネット加算を有している信号のグループとなる第15の実施の態様に係るテスト装置が提供される。
加算信号を受け取り、この加算信号をディジタル化加算信号に変換する高速ディジタイザと、
この高速ディジタイザ回路をコントロールするように連結されているコントローラーと、
前記ディジタル化加算信号及びブランキング信号を受けて前記ブランキング信号の検出期間の間、前記ディジタル化加算信号をエラー許容値範囲と比較することにより、動作エラーに対する前記ディジタル化加算信号をチェックするように連結されているエラー検出回路と、
前記検出された動作エラーの記録及び対応するタイムスタンプを格納するメモリ装置であって、前記ディジタル化加算信号がエラー許容値範囲外にある場合に前記動作エラーが検出されるメモリ装置と、
を具備するテスト装置が提供される。
前記動作エラーは、多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路の1つにおける非正常動作であることを示し、前記加算信号が前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路の出力電圧に相当する多数のアナログ電圧信号の加算を表わす第17の実施の態様に係るテスト装置が提供される。
ディジタル・アナログ変換/アンプ・テスト・システムによって多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路をテストする方法において、
多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路から夫々出力される多数のアナログ電圧信号を受信することと、
このアナログ電圧信号を加算することと、
このアナログ電圧信号の加算を示す加算信号を生成することと、
この加算信号をディジタル化加算信号に変換することと、
前記ディジタル化加算信号をチェックして動作エラーを検出し、及び
前記動作エラーが検出される場合に、ディジタル・アナログ変換/アンプのメモリ装置内に前記動作エラーの記録であって前記ディジタル化加算信号を表わすデータのサンプルを含む記録を格納することと、
を具備する方法が提供される。
ブランキング信号を生成すること及び、このブランキング信号の検出期間に前記チェックを実行する第19の実施の態様に係る方法が提供される。
前記チェックは、前記ディジタル化加算信号を前記エラー許容値範囲と比較することによって実行され、前記ディジタル化加算信号が前記エラー許容値範囲外にある場合に、前記動作エラーが検出される第20の実施の態様に係る方法が提供される。
多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路の1つにおける非正常動作であることを示している前記動作エラーの検出を示す通知を生成することと、
前記データのサンプルを用いて波形を生成して前記動作エラーを決定することと、
を更に具備する第21の実施の態様に係る方法が提供される。
多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路をテストし、アナライザー回路によって実行される方法において、
多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路の出力電圧を基に加算を示す加算信号を受けることと、
この加算信号をディジタル化加算信号に変換することと、
ブランキング信号を受けることと、
ブランキング信号の検出期間中に、前記ディジタル化加算信号をエラー許容値範囲と比較することにより、動作エラーの為に前記ディジタル化加算信号をチェックすることと、
前記動作エラーが検出される場合に、前記アナライザー回路のメモリ装置に、前記動作エラーの記録を格納することであって、前記ディジタル化加算信号が前記エラー許容値範囲外にある場合に、前記動作エラーが検出される前記動作エラーの記録を格納することと、
を具備する方法が提供される。
前記多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路の1つが非正常動作であることを表す前記動作エラーの検出を示す通知を生成することと、
前記動作エラーのタイプを決定する記録を分析することと、
前記ディジタル・アナログ変換/アンプ回路の分析及び動作中において前記エラー許容値範囲を変更する第23の実施の態様に係る方法が提供される。
Claims (2)
- 多数のアナログ電圧信号を受け、このアナログ電圧信号を加算し、このアナログ電圧信号の加算を示す加算信号を出力する加算回路と、
ブランキング信号を生成する信号発生器と、及び
前記加算信号を受けるように接続されているアナライザー回路と、
を具備し、ディジタル化加算信号がエラー許容値範囲外にある場合に動作エラーが検出される電子ビーム・マスク描画装置において、
前記アナライザー回路は、
前記加算信号を前記ディジタル化加算信号に変換する高速ディジタイザと、
前記ディジタル化加算信号及び前記ブランキング信号を受けるように接続されたエラー検出回路であって、このエラー検出回路は、前記ディジタル加算信号をエラー許容値範囲と比較して、前記ブランキング信号の低レベル検出期間における動作エラーを検出する為にディジタル化された加算信号をチェックするエラー検出回路と、
前記検出された動作エラーの記録を格納するように接続されているメモリ装置であって、前記記録は、前記ディジタル化加算信号を表わすデータのサンプル、対応するタイムスタンプ及び前記低レベル検出期間直前に前記高速ディジタイザによってディジタル化されるデータを表わす付加情報を含む、メモリ装置と、及び
前記高速ディジタイザ回路を制御するように連結されているコントローラーと、
を具備する電子ビーム・マスク描画装置。 - 前記動作エラーは、多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路の1つにおける非正常動作であることを示し、前記多数のアナログ電圧信号がディジタル・アナログ変換/アンプ回路の出力電圧に対応している請求項1の電子ビーム・マスク描画装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/504,428 US7898447B2 (en) | 2009-07-16 | 2009-07-16 | Methods and systems for testing digital-to-analog converter/amplifier circuits |
US12/504,428 | 2009-07-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011022581A JP2011022581A (ja) | 2011-02-03 |
JP5238765B2 true JP5238765B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=43382911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010161006A Active JP5238765B2 (ja) | 2009-07-16 | 2010-07-15 | 電子ビーム・マスク描画装置及びディジタル・アナログ変換/アンプ回路のテスト方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7898447B2 (ja) |
JP (1) | JP5238765B2 (ja) |
KR (1) | KR101100611B1 (ja) |
DE (1) | DE102010006052B4 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5123730B2 (ja) * | 2008-05-01 | 2013-01-23 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 偏向アンプのセトリング時間検査方法及び偏向アンプの故障判定方法 |
US8552896B2 (en) * | 2011-10-25 | 2013-10-08 | Raytheon Company | Digital to analog converter (DAC) |
JP5438161B2 (ja) * | 2012-04-13 | 2014-03-12 | 株式会社アドバンテスト | Da変換装置 |
JP6240045B2 (ja) * | 2014-08-25 | 2017-11-29 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 異常検出方法及び電子線描画装置 |
DE102015210941B9 (de) * | 2015-06-15 | 2019-09-19 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlgerät und Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts |
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---|---|---|---|---|
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JP2591548B2 (ja) * | 1991-07-26 | 1997-03-19 | 富士通株式会社 | 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法 |
JPH0574404A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-26 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線露光装置 |
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JPH11219679A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光システム |
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TWI323004B (en) * | 2005-12-15 | 2010-04-01 | Nuflare Technology Inc | Charged particle beam writing method and apparatus |
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JP5079410B2 (ja) | 2007-07-06 | 2012-11-21 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP2009038055A (ja) | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
-
2009
- 2009-07-16 US US12/504,428 patent/US7898447B2/en active Active
-
2010
- 2010-01-28 DE DE102010006052.6A patent/DE102010006052B4/de active Active
- 2010-01-29 KR KR1020100008429A patent/KR101100611B1/ko active IP Right Grant
- 2010-07-15 JP JP2010161006A patent/JP5238765B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20110007566A (ko) | 2011-01-24 |
DE102010006052A1 (de) | 2011-01-20 |
JP2011022581A (ja) | 2011-02-03 |
DE102010006052B4 (de) | 2016-11-17 |
US7898447B2 (en) | 2011-03-01 |
KR101100611B1 (ko) | 2011-12-29 |
US20110012617A1 (en) | 2011-01-20 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
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