JP2008096354A - 半導体試験装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】コストの大幅な上昇を招かずに高精度の直流試験を行うことができる半導体試験装置を提供する。
【解決手段】半導体試験装置1は、複数のDUT13a〜13nに印加する直流電流I1〜Inの目標値を示すディジタル信号の制御信号D1をアナログ信号の制御信号S1に変換するDAC10と、DAC10から出力される制御信号S1を増幅して複数のDUT13a〜13nに印加する直流信号I1〜Inを生成する複数の直流試験部11a〜11nを備える。直流試験部11a〜11nの各々には、DAC10から出力される信号S1のゲインを調整するゲイン調整値を示すディジタル信号の制御信号S3をアナログ信号の制御信号S3に変換するゲイン調整用DAC24が設けられている。
【選択図】図1

Description

本発明は、被試験デバイスに対して試験信号を印加して得られる信号に基づいて被試験デバイスの試験を行う半導体試験装置に関する。
従来から、被試験デバイスの初期不良を試験するために、メモリテスタやロジックテスタ等の半導体試験装置が用いられている。この半導体試験装置を用いた被試験デバイスの試験は、直流試験と交流試験とに大別される。ここで、直流試験とは、被試験デバイスの特定のピンに直流信号を印加したときに測定される直流信号が予め定められた規格内であるか否かを判定する試験であり、交流試験とは、パルス状の試験信号を被試験デバイスに印加したときに、期待通りの信号が得られるか否かを判定する試験である。
上記の直流試験は、電流印加電圧測定試験(IFVM試験)、電流印加電流測定試験(IFIM試験)、及び電圧印加電流測定試験(VFIM試験)に大別される。IFVM試験とは、被試験デバイスの特定のピンに電流を印加したときにそのピンに現れる電圧を測定する試験である。同様に、IFIM試験は被試験デバイスの特定のピンに電流を印加したときにそのピンから出力される電流を測定する試験であり、VFIM試験は被試験デバイスの特定のピンに電圧を印加したときにそのピンから出力される電流を測定する試験である。また、上記の試験以外に、被試験デバイスの特定のピンに電圧を印加したときにそのピンとは異なるピンに現れる電圧を測定する電圧印加電圧測定試験(VFVM試験)もある。
以下の特許文献1には、被試験デバイスに対してVFIM試験を行う従来の電圧印加電流測定モジュールの基本的な構成が開示されている。
特開2002−286808号公報
ところで、近年においては、被試験デバイスの試験に要するコストの低減要求が高まっている。特に、メモリについては低価格で大容量のものの需要が大きいことから、短時間で大量のメモリを安価に試験する必要がある。このため、メモリの試験を行うメモリテスタは、同時に試験可能なメモリ数(メモリの同測数)が増加する傾向にある。メモリの同測数が増加すると、上述した直流試験を行うモジュールもメモリの同測数分だけ備える必要があり、半導体試験装置のコストが飛躍的に増大してしまう。
半導体試験装置のコストダウンを図るために、モジュールに設けられる電子部品のうち、高価な電子部品を複数のモジュールに対して共通化することが行われている。ここで、複数のモジュールに共通して設けられる高価な電子部品として、被試験デバイスに印加する電流又は電圧の目標値を示す制御信号(ディジタル信号)をアナログ信号に高精度に変換するディジタル/アナログ変換器(以下、DACという)が挙げられる。各モジュールは、このDACから出力される制御信号(アナログ信号)を増幅して被試験デバイスに印加する電流又は電圧を生成する訳であるが、各モジュールにおいてオフセットが発生することがあることから、各モジュールにオフセット調整用の安価なDACを設けることでオフセットの発生を抑制している。
しかしながら、近年においては、半導体試験装置に要求される精度が従来よりも高くなってきており、直流試験についてもより高い精度が要求されている。複数のモジュールに共通して高価なDACを設け、各モジュールにオフセット調整用の安価なDACを設ける上述の構成では、従来要求されていた精度は得られるものの、より高い精度を得るのが困難になってきている。高価なDACを各モジュールに設ければ、要求される精度は得られるが、半導体試験装置のコストが大幅に上昇してしまうという問題が生ずる。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、コストの大幅な上昇を招かずに高精度の直流試験を行うことができる半導体試験装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の半導体試験装置は、複数の被試験デバイス(13a〜13n)に印加する直流信号の目標値を示すディジタル信号(D1)をアナログ信号(S1)に変換する第1変換器(10)と、当該第1変換器で変換されたアナログ信号を増幅して前記複数の被試験デバイスのそれぞれに印加する直流信号(I1〜In)を生成する複数の直流試験部(11a〜11n)とを備える半導体試験装置(1)において、前記複数の直流試験部の各々は、前記第1変換器で変換されたアナログ信号の増幅率を調整する増幅率調整値を示すディジタル信号(D3)をアナログ信号(S3)に変換する第2変換器(24)を備えることを特徴としている。
この発明によると、複数の被試験デバイスに印加される直流信号の目標値を示すディジタル信号が第1変換器でアナログ信号に変換され、このアナログ信号は複数の直流試験部に入力される。一方、第1変換器で変換されたアナログ信号の増幅率を調整する増幅率調整値を示すディジタル信号が直流試験部の各々に設けられた第2変換器でアナログ信号に変換され、このアナログ信号に基づいて第1変換器で変換されたアナログ信号の増幅率が調整される。
また、本発明の半導体試験装置は、前記複数の直流試験部の各々が備える前記第2変換器に対して、前記増幅率調整値を示すディジタル信号を出力する制御部(12)を備えることを特徴としている。
ここで、本発明の半導体試験装置は、前記制御部が、前記第1変換器に対して、前記目標値を示すディジタル信号を出力することを特徴としている。
また、本発明の半導体試験装置は、前記複数の直流試験部の各々は、前記被試験デバイスに印加する直流信号のオフセットを調整するオフセット調整値を示すディジタル信号(D2)をアナログ信号(S2)に変換する第3変換器(23)を備えており、前記制御部は、前記複数の直流試験部の各々が備える前記第3変換器に対して、前記オフセット調整値を示すディジタル信号を出力することを特徴としている。
或いは、本発明の半導体試験装置は、前記制御部が、前記複数の直流試験部の各々が備える前記第2変換器に対して、前記被試験デバイスに印加する直流信号のオフセットを調整するオフセット調整値を示すディジタル信号を出力することを特徴としている。
また、本発明の半導体試験装置は、前記複数の直流試験部の各々が、前記被試験デバイスに前記直流信号を印加して得られる直流信号を測定する測定部(30)を備えることを特徴としている。
また、本発明の半導体試験装置は、前記制御部が、前記複数の直流試験部の各々が備える前記測定部の測定結果に基づいて、前記直流試験部の各々に設けられた前記第2変換器に対して出力する前記増幅率調整値を算出することを特徴としている。
また、本発明の半導体試験装置は、前記制御部が、値が異なる少なくとも2つの直流信号を前記被試験デバイスに印加したときに得られる前記測定部の測定結果に基づいて前記増幅率調整値を算出することを特徴としている。
更に、本発明の半導体試験装置は、前記制御部が、算出した前記増幅率調整値を記憶する記憶部(12a)を備えることを特徴としている。
本発明によれば、第1変換器で変換されたアナログ信号の増幅率を調整する増幅率調整値を示すディジタル信号をアナログ信号に変換する第2変換器を直流試験部の各々に設け、このアナログ信号に基づいて第1変換器で変換されたアナログ信号の増幅率を調整しているためゲインエラーが直流試験部毎に異なっていても、個別にゲイン調整することができ、コストの大幅な上昇を招かずに高精度の直流試験を行うことができるという効果がある。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態による半導体試験装置について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態による半導体試験装置の要部構成を示すブロック図である。図1に示す通り、本実施形態の半導体試験装置1は、ディジタル/アナログ変換器(以下、DACという)10(変換器)、並列に設けられた複数の直流試験部11a〜11n、及び制御部12を備えており、複数の被試験デバイス(以下、DUT(Device Under Test)という)13a〜13nに対して直流試験を行う。
ここで、直流試験とは、被試験デバイス13a〜13nの特定のピンに直流信号を印加したときに測定される直流信号が予め定められた規格内であるか否かを判定する試験である。尚、直流試験は、電流印加電圧測定試験(IFVM試験)、電流印加電流測定試験(IFIM試験)、及び電圧印加電流測定試験(VFIM試験)に大別されるが、本実施形態では直流試験部11a〜11nがIFVM試験を行うものである場合を例に挙げて説明する。
DAC10は、複数の直流試験部11a〜11nに対して共通に設けられており、制御部から出力される制御信号D1(ディジタル信号)を、制御信号S1(アナログ信号)に極めて高い精度をもって変換する。ここで、制御部12から出力される制御信号D1は、DUT13a〜13nに印加する直流電流I1〜Inの目標値を示す信号である。尚、DAC10には高い変換精度が要求されるため、高い性能を有する高価なDACが用いられる。
直流試験部11a〜11nは、DUT13a〜13nの特定のピンに対してそれぞれ直流電流I1〜Inを印加し、そのピンに現れる電圧をそれぞれ測定するIFVM試験を行う。この直流試験部11a〜11nは、同時に試験可能なDUT13a〜13nの最大数の分だけ設けられている。例えば、数百個のDUTが同時に試験可能な場合には、直流試験部11a〜11nは数百個並列に設けられている。
ここで、直流試験部11a〜11nの内部構成について詳細に説明する。尚、直流試験部11a〜11nの内部構成は同様の構成であるため、ここでは直流試験部11aについてのみ説明する。図1に示す通り、直流試験部11aは、電流生成部20と電圧測定部30とを備えている。電流生成部20は、DAC10から出力される制御信号S1及び制御部12から出力される制御信号D2,D3(共にディジタル信号)に基づいてDUT13aに印加する直流電流I1を生成する。電圧測定部30は、直流電流I1を印加したDUT13aのピンに現れる電圧を測定し、その測定結果を示す信号D4(ディジタル信号)を制御部12に出力する。
電流生成部20は、アンプ21,22、オフセット調整用DAC23(第3変換器)、ゲイン調整用DAC24(第2変換器)、及び複数の抵抗R1〜R7を備えている。尚、アンプ22の 正入力端(非反転入力端)及び負入力端(反転入力端)には抵抗R5と抵抗R6とがそれぞれ接続されているが、アンプ22の 正入力端に接続された抵抗R5の抵抗値と負入力端に接続された抵抗R5の抵抗値とが同じことを意味し、同様に、アンプ22の 正入力端に接続された抵抗R6の抵抗値と負入力端に接続された抵抗R6の抵抗値とが同じことを意味する。
抵抗R1の一端はDAC10の出力端に接続されており、他端はアンプ21の負入力端(反転入力端)に接続されている。つまり、DAC10から出力される制御信号S1は、抵抗R1を介してアンプ21の負入力端に入力される。尚、アンプ21の正入力端(非反転入力端)は接地されている。アンプ21の出力端には抵抗R4の一端が接続されており、この抵抗R4の他端が電気的にDUT13aの特定のピンに電気的に接続される。つまり、抵抗R4を流れる電流(直流電流I1)がDUT13aの特定のピンに印加されることになる。
この抵抗R4の両端には抵抗R5の一端がそれぞれ接続されており、各抵抗R5の他端はアンプ22の正入力端及び負入力端にそれぞれ接続されている。また、アンプ22の正入力端には、他端が接地された抵抗R6の一端が接続されており、アンプ22の出力端と負入力端との間には抵抗R6が接続されている。つまり、アンプ22及び2つの抵抗R5,R6から差動増幅回路が構成されている。
アンプの出力端22は抵抗R2の一端に接続されており、この抵抗R2の他端はアンプ21の負入力端に接続されている。つまり、電流生成部20は、アンプ21の出力端に接続された抵抗R4に流れる電流によって生ずる電圧降下を、アンプ22及び抵抗R5,R6で構成される差動増幅器で増幅して抵抗R2を介してアンプ21にフィードバックする回路を備えている。この回路によって、抵抗R4で生ずる電圧降下(即ち、抵抗R4に流れる電流(直流電流I1))が一定となるよう制御される。
また、アンプ21の負入力端には抵抗R3,R7の一端が接続されている。抵抗R3の他端はオフセット調整用DAC23の出力端に接続されており、抵抗R7の他端はゲイン調整用DAC24の出力端に接続されている。オフセット調整用DAC23は、制御部から出力される制御信号D2(ディジタル信号)を、制御信号S2(アナログ信号)に変換する。ここで、制御部12から出力される制御信号D2は、DUT13aに印加する直流電流I1のオフセットを調整するための信号である。オフセット調整用DAC23から出力される制御信号S2は、抵抗R3を介してアンプ21の負入力端に印加される。
ゲイン調整用DAC24は、制御部から出力される制御信号D3(ディジタル信号)を、制御信号S3(アナログ信号)に変換する。このゲイン調整用DAC24は、より高精度の直流電流I1を得るために設けられている。ここで、制御部12から出力される制御信号D3は、アンプ21のゲインを調整するための信号である。ゲイン調整用DAC24から出力される制御信号S3は、抵抗R7を介してアンプ21の負入力端に印加される。ここで、直流試験部11a〜11nに対して共通に設けられる前述したDAC10は、高い変換精度が要求されるため高い性能を有する高価なDACが用いられていたが、オフセット調整用DAC23及びゲイン調整用DAC24は、さほど精度が高くない汎用的な安価なDACを用いることができる。尚、オフセット調整用DAC23及びゲイン調整用DAC24に汎用的な安価なDACを用いることができる理由の詳細については後述する。
電圧測定部30は、アンプ31、アナログ/ディジタル変換器(以下、ADCという)32、リレー33,34、及び抵抗R8を備えている。アンプ31の正入力端はDUT13aの特定のピンに接続される。このアンプ31は、出力端と負入力端とが接続されており、これによりインピーダンス変換を行うバッファ回路が構成されている。また、アンプ31の出力端はADC32の入力端に接続されている。
ADC32は、アンプ31から出力される直流信号(即ち、DUT13aの特定ピンに直流電流I1を印加したときにそのピンに現れる直流電圧)をディジタル信号に変換し、その電圧値を示す信号D4(ディジタル信号)を制御部12に出力する。リレー33は抵抗R4からDUT13aに電流I1を供給する信号線と抵抗R8との間に設けられており、これらの間を開放又は短絡させる。また、リレー34はアンプの正入力端と抵抗R8との間に設けられており、これらの間を開放又は短絡させる。尚、図1においては図示を省略しているが、これらリレー33,34による開放又は短絡は制御部12によって制御される。抵抗R8は一端がリレー33,34に接続されるとともに他端が接地された抵抗値が既知の抵抗である。
尚、直流試験部11b〜11nも直流試験部11aと同様に、以上説明した電流生成部20と電圧測定部30とを備えており、DAC10から出力される制御信号S1と、制御部12から出力される制御信号D2,D3と同様の制御信号とが入力されてDUT13b〜13nに印加する直流電流I2〜Inをそれぞれ生成する。また、直流電流I2〜InをDUT13b〜13nに印加したときに現れる直流電圧を測定し、ディジタル信号に変換して信号D4と同様に制御部12に出力する。
制御部12は、半導体試験装置1の動作を統括的に制御する。具体的には、IFVM試験を行う際に、DUT13a〜13nに印加する直流電流I1〜Inの目標値を示す制御信号D1を生成してDAC10に出力する。また、必要に応じて直流試験部11a〜11nの各々に対してオフセット調整を行う制御信号D2及びゲイン調整を行う制御信号D3を出力し、直流試験部11a〜11nから出力される直流電流I1〜Inが目標値となるよう制御する。
また、制御部12は、直流試験部11a〜11毎にオフセット調整値及びゲイン調整値を算出する処理を行う。制御部12は、メモリ等の記憶部12aを備えており、算出したオフセット調整値及びゲイン調整値を記憶部12aに記憶させるとともに、記憶部12aからオフセット調整値及びゲイン調整値を読み出して直流試験部11a〜11nの各々に対してオフセット調整を行う制御信号D2及びゲイン調整を行う制御信号D3を出力する。
次に、IFVM試験時の動作について簡単に説明する。尚、直流試験部11a〜11nの内部においては同様の動作が行われるため、説明を簡単にするために、以下では、直流試験部11a〜11nの内部動作を説明する場合には、直流試験部11aの動作のみについて説明する。IFVM試験を行うには、まず直流試験部11a〜11nとDUT13a〜13nの特定のピンとを電気的に接続する。そして、制御部12が電圧測定部30に設けられたリレー33,34を制御して開状態にしておく。
IFVM試験が開始されると、まず制御部12は、記憶部12aに記憶されているオフセット調整値及びゲイン調整値を読み出し、制御信号D2,D3を必要に応じて直流試験部11aに出力するとともに、これら制御信号D2,D3に相当する制御信号を必要に応じて直流試験部11b〜11nの各々に出力する。これと同時に、制御部12は、DUT13a〜13nに印加する直流電流I1〜Inの目標値を示す制御信号D1を生成してDAC10に出力する。
DAC10は入力された制御信号D1をアナログ信号の制御信号S1に変換する。この制御信号S1は、直流試験部11a〜11nにそれぞれ入力される。直流試験部11aに入力された制御信号S1は、電流生成部20の抵抗R1を介してアンプ21の負入力端に入力される。また、直流試験部11aに入力された制御信号D2は、電流生成部20のオフセット調整用DAC23に入力されてアナログ信号の制御信号S2に変換され、この制御信号S2が抵抗R3を介してアンプ21の負入力端に入力される。更に、直流試験部11aに入力された制御信号D3は、電流生成部20のDAC24に入力されてアナログ信号の制御信号S3に変換され、この制御信号S3が抵抗R7を介してアンプ21の負入力端に入力される。
アンプ21は、負入力端に入力された制御信号S1,S2,S3を所定の増幅率で増幅して出力端から出力する。アンプ21から出力された信号(直流信号)は抵抗R4を介してDUT13aの特定のピンに印加される。ここで、抵抗R4で生じる電圧降下が、アンプ22及び抵抗R5,R6で構成される差動増幅器で増幅されて抵抗R2を介してアンプ21の負入力端にフィードバックされ、アンプ21から出力される信号の電流値が一定となる。これにより、DUT13aの特定のピンには、電流値が一定の直流電流I1が印加される。
DUT13aの特定のピンに直流電流I1が印加されると、そのピンに現れる電圧値が電圧測定部30で測定される。つまり、DUT13aのピンに現れる直流電圧は、電圧測定部30のアンプ31で構成されるバッファ回路を介してADC32に入力され、ディジタル化される。そして、ディジタル化された信号S4が制御部12に入力され、これにより電圧測定が行われる。以上説明した直流試験部11aと同様の動作が直流試験部11b〜11nで行われることにより、DUT13a〜DUT13nの直流試験が並列して行われる。
次に、直流試験部11a〜11nで生ずるオフセット及びゲインエラー(増幅率誤差)について検討する。尚、ここでも説明を簡単にするために、直流試験部11aで生ずるオフセット及びゲインエラーを例に挙げて説明する。いま、DAC10から出力される制御信号S1の電圧をV1とし、アンプ21,22及び抵抗R1〜R7が理想的なものである場合を考える。尚、抵抗R1〜R7の抵抗値をr1〜r7とする。かかる場合に、DUT13aに印加される直流電流I1は以下の(1)式で表される。
I1=K1×V1 ……(1)
但し、K1=−(r2/r1)(r5/r6)(1/r4)
実際にはアンプ21,22は理想的なものでないため、そのオフセット電圧によってオフセット電流が生ずる。このオフセット電流をIoとし、このオフセット電流を調整するためにオフセット調整用DAC23から出力される制御信号S2の電圧をV2とすると、DUT13aに印加される直流電流I1は以下の(2)式で表される。
I1=K1×V1+Io+K2×V2 ……(2)
但し、K2=−(r2/r3)(r5/r6)(1/r4)
更に、実際の抵抗R1,R2,R4〜R6には誤差があるため、上記の変数K1は誤差の分だけ値が変化する。抵抗R1,R2,R4〜R6には誤差を考慮し、この誤差に起因する変数K1の変化量をΔK1とすると、DUT13aに印加される直流電流I1は以下の(3)式で表される。
I1=K1(1+α)×V1+Io+K2×V2 ……(3)
=K1×V1+α×K1×V1+Io+K2×V2
但し、α=ΔK1/K1
上記(3)式の右辺に着目すると、第1項はアンプ21,22及び抵抗R1〜R7が理想的なものとしたときにDAC10から出力される信号S1によって生成される電流値を示している。第2項は抵抗R1,R2,R4〜R6の誤差に起因して生ずるゲインエラーにより生ずる電流値を示している。尚、ゲインエラーを示す第2項は、DAC10から出力される信号S1の電圧V1に依存する項である。第3項は、オフセット電流を示しており、第4項はオフセット電流を補正する補正電流を示している。
上記(3)式の右辺第2項に示すゲインエラーは直流試験部11a〜11n毎に異なる。ここで、仮にゲイン調整用DAC24及び抵抗R7が設けられていないとすると、直流試験部11a〜11nの各々で生ずるゲインエラーを試験部11a〜11nに共通して設けられたDAC10で調整しなければならないが、ゲインエラーは直流試験部11a〜11n毎に異なるため、ゲインエラーを調整することはできない。
このため、ゲイン調整用DAC24及び抵抗R7を備えない構成では、ゲインエラーを小さくするためには、ゲインエラーを生じさせる抵抗R1,R2,R4〜R6を高精度のものにする必要がある。抵抗R1,R2,R4〜R6を高精度のものにする場合において、相対精度の高いネットワーク抵抗を用いれば、前述の変数K1に含まれる値(r2/r1)及び値(r5/r6)の誤差を小さくすることはできる。例えば、これらの値の誤差を0.02%以下にすることは容易である。
しかしながら、変数K1中の値(1/r4)の誤差を小さくするには、アンプR4の出力端に接続された抵抗R4の絶対精度を高くする必要があるが、絶対精度が0.1%以下の抵抗はコストが極めて高く、このような抵抗R4を直流試験部11a〜11nに備えるとなると、半導体試験装置1のコストが大幅に上昇するため、コスト上昇を抑えつつ高精度化(例えば、ゲインエラー0.1%以下)するには限界がある。
本実施形態の半導体試験装置1は、直流試験部11a〜11nの各々にゲイン調整用DAC24及び抵抗R7を備えている。ここで、ゲインエラーを調整するために、ゲイン調整用DAC24から出力される制御信号S3の電圧をV3とすると、DUT13aに印加される直流電流I1は以下の(4)式で表される。
I1=K1×V1+α×K1×V1+K3×V3+Io+K2×V2 ……(4)
但し、K3=−(r2/r7)(r5/r6)(1/r4)
上記(4)式の右辺と前述した(3)式の右辺とを比較すると、電圧V3に関する項(K3×V3)が第3項目に追加されている。(4)式の右辺において、ゲインエラーを示す項は第2項であり、この第2項はDAC10から出力される信号S1の電圧V1に依存する項である。このため、本実施形態では、電圧V1の変化に応じてゲイン調整用DAC24から出力される制御信号S3の電圧V3を変化させることでゲインエラーを無くしている。
尚、ゲインエラーを無くすためのゲイン調整は、オフセット調整と同様の精度があれば良い。つまり、オフセット調整は、前述した(3)式中のオフセット電流Ioを「0」にすることができる精度があれば十分である。同様に、ゲイン調整は、上記(4)式中の第2項を「0」にすることができる精度があれば十分である。このため、ゲイン調整用DAC24として汎用的な安価なものを用いることができる。ゲイン調整用DAC24は、直流試験部11a〜11nの各々に設ける必要があるが汎用的な安価なものを用いることができるため、コストの大幅な上昇を招かずに高精度の直流試験が可能となる。
次に、オフセット調整値及びゲイン調整値の算出方法について説明する。オフセット調整値及びゲイン調整値の算出は、直流試験部11a〜11nの各々にDUT13a〜13nが接続されていない状態で行う。この状態で、制御部12が電圧測定部30に設けられたリレー33,34を制御して閉状態にしておく。これにより、電流生成部20のアンプ21に接続された抵抗R4と、電圧測定部30に設けられたアンプ31の正入力端とが抵抗R8に電気的に接続される。
オフセット調整値を求める場合には、制御部12はDAC10から出力される信号S1の電圧V1を0[V]とする制御信号D1をDAC10に出力するとともに、DAC23,24から出力される信号S2,S3の電圧V2,V3をそれぞれ0[V]とする制御信号D2,D3を直流試験部11aに出力する。尚、直流試験部11b〜11nにも制御信号D2,D3と同様の制御信号を出力する。そして、これらの制御信号を出力しているときに電圧測定部30に設けられた抵抗R8に印加される電圧を測定する。即ち、電圧測定部30のADC32から出力される信号D4を制御部12が取得する。そして、制御部12は、取得した信号D4の値が「0」になるように、制御信号D2の値を調整する。制御部12は、信号D4の値が「0」になる制御信号D2の値を求め、この値をオフセット調整値として記憶部12aに記憶する。
前述した通り、ゲインエラーを無くすためには、DAC10から出力される信号S1の電圧V1の変化に応じてゲイン調整用DAC24から出力される制御信号S3の電圧V3を変化させる必要がある。このため、制御部12は以下に説明する手順でゲイン調整値を求める。まず、制御部12はDAC10から出力される信号S1の電圧V1を最大値Vmにする制御信号D1を出力し、電圧測定部30に設けられた抵抗R8に印加される電圧を示す信号D4を取得する。尚、制御信号D1を出力するのと同時に、記憶部12aに記憶されているオフセット調整値を読み出して制御信号D2として出力する。そして、制御部12は、制御信号D3を出力し、図2に示す通り、電圧測定部30での電圧測定結果を示す信号D4が理想値になるように調整する。
次に、制御部12はDAC10から出力される信号S1の電圧V1を最小値−Vmにする制御信号D1を出力し、電圧測定部30に設けられた抵抗R8に印加される電圧を示す信号D4を取得する。次いで、制御部12は、制御信号D3を出力し、図2に示す通り、電圧測定部30での電圧測定結果を示す信号D4が理想値になるように調整する。図2は、ゲイン調整値の算出方法を説明する図である。
まず、制御部12はDAC10から出力される信号S1の電圧V1を最大値Vmにする制御信号D1を出力する。この制御信号D1を出力している状態で、制御部13は所定の値の制御信号D3を出力し、図2(a)に示す通り、電圧測定結果を示す信号D4が理想値Qになるように調整する。そして、電圧測定結果を示す信号D4が理想値Qになるときの制御信号D3の値(ΔV31)を記憶する。同様に、制御部12はDAC10から出力される信号S1の電圧V1を最小値−Vmにする制御信号D1を出力し、この制御信号D1を出力している状態で所定の値の制御信号D3を出力し、図2(a)に示す通り、電圧測定結果を示す信号D4が理想値−Qになるように調整する。そして、電圧測定結果を示す信号D4が理想値−Qになるときの制御信号D3の値(ΔV32)を記憶する。
以上の処理を終えると、DAC10から出力される信号S1の電圧V1を最大値Vmにしたときの制御信号D3の値(ΔV31)と、最小値−Vmにしたときの制御信号D3の値(ΔV32)とからゲイン補正値を求める。具体的には、図2(b)に示す通り、横軸にDAC10から出力される信号S1の電圧V1をとり、縦軸にゲイン調整用DAC24から出力される信号S3の電圧V3をとり、これら2軸からなる平面上に、点(Vm,ΔV31)と点(−Vm,ΔV32)とをプロットし、この2点を通る近似直線Lを求める。この近似直線L上の各点が、DAC10から出力される信号S1の電圧V1に応じたゲイン調整値である。制御部12は、以上の処理を終えると、求めたゲイン調整値を記憶部12aに記憶する。
以上説明した本実施形態の半導体試験装置1は、並列に設けられた複数の直流試験部11a〜11nの各々に汎用的な安価なゲイン調整用DAC24を設け、このゲイン調整用DAC24によって直流試験部11a〜11nの各々で生ずるゲインエラーの調整を個別に行っている。このため、ゲインエラーが直流試験部11a〜11n毎に異なっていても、個別にゲイン調整することができ、コストの大幅な上昇を招かずに高精度の直流試験を行うことができる。
以上、本発明の実施形態による半導体試験装置について説明したが、本発明は上述した実施形態に制限されることなく、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、上記実施形態では、オフセット調整用DAC23とゲイン調整用DAC24とを直流試験部11a〜11nの各々に備える構成について説明した。しかしながら、ゲイン調整用DAC24でゲイン調整のみならずオフセット調整を行い、オフセット調整用DAC23を省略した構成にすることも可能である。かかる構成の場合には、制御部12からオフセット調整用DAC23に出力されていた制御信号D2がゲイン調整用DAC24にも入力されることになる。
また、上記実施形態ではゲイン調整値を算出する際に、制御部12がDAC10から出力される信号S1の電圧V1を最大値Vm又は最小値−Vmにする制御信号D1を出力していたが、制御部12が出力する制御信号D1の値は任意である。更に、上記実施形態では、点(Vm,ΔV31)と点(−Vm,ΔV32)とを通る近似直線Lを求めるようにしていたが、より多くの点を求めて曲線近似を行っても良い。更には、DAC10から出力される信号S1の電圧V1毎のゲイン調整値を測定により求めても良い。
また、上述した実施形態では直流試験部11a〜11nがIFVM試験を行うものである場合を例に挙げて説明したが、IFVM試験以外に、IFIM試験、VFIM試験を行うものにも本発明を適用することができる。また更には、VFVM試験を行うものにも本発明を適用可能である。
本発明の一実施形態による半導体試験装置の要部構成を示すブロック図である。 ゲイン調整値の算出方法を説明する図である。
符号の説明
1 半導体試験装置
10 DAC
11a〜11n 直流試験部
12 制御部
12a 記憶部
13a〜13n DUT
20 電流生成部
23 オフセット調整用DAC
24 ゲイン調整用DAC
30 電圧測定部
D1〜D3 制御信号
I1〜In 直流電流
S1〜S3 制御信号

Claims (9)

  1. 複数の被試験デバイスに印加する直流信号の目標値を示すディジタル信号をアナログ信号に変換する第1変換器と、当該第1変換器で変換されたアナログ信号を増幅して前記複数の被試験デバイスのそれぞれに印加する直流信号を生成する複数の直流試験部とを備える半導体試験装置において、
    前記複数の直流試験部の各々は、前記第1変換器で変換されたアナログ信号の増幅率を調整する増幅率調整値を示すディジタル信号をアナログ信号に変換する第2変換器を備えることを特徴とする半導体試験装置。
  2. 前記複数の直流試験部の各々が備える前記第2変換器に対して、前記増幅率調整値を示すディジタル信号を出力する制御部を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体試験装置。
  3. 前記制御部は、前記第1変換器に対して、前記目標値を示すディジタル信号を出力することを特徴とする請求項2記載の半導体試験装置。
  4. 前記複数の直流試験部の各々は、前記被試験デバイスに印加する直流信号のオフセットを調整するオフセット調整値を示すディジタル信号をアナログ信号に変換する第3変換器を備えており、
    前記制御部は、前記複数の直流試験部の各々が備える前記第3変換器に対して、前記オフセット調整値を示すディジタル信号を出力することを特徴とする請求項2又は請求項3記載の半導体試験装置。
  5. 前記制御部は、前記複数の直流試験部の各々が備える前記第2変換器に対して、前記被試験デバイスに印加する直流信号のオフセットを調整するオフセット調整値を示すディジタル信号を出力することを特徴とする請求項2又は請求項3記載の半導体試験装置。
  6. 前記複数の直流試験部の各々は、前記被試験デバイスに前記直流信号を印加して得られる直流信号を測定する測定部を備えることを特徴とする請求項2から請求項5の何れか一項に記載の半導体試験装置。
  7. 前記制御部は、前記複数の直流試験部の各々が備える前記測定部の測定結果に基づいて、前記直流試験部の各々に設けられた前記第2変換器に対して出力する前記増幅率調整値を算出することを特徴とする請求項6記載の半導体試験装置。
  8. 前記制御部は、値が異なる少なくとも2つの直流信号を前記被試験デバイスに印加したときに得られる前記測定部の測定結果に基づいて前記増幅率調整値を算出することを特徴とする請求項7記載の半導体試験装置。
  9. 前記制御部は、算出した前記増幅率調整値を記憶する記憶部を備えることを特徴とする請求項7又は請求項8記載の半導体試験装置。
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JP2010054314A (ja) * 2008-08-28 2010-03-11 Yokogawa Electric Corp 半導体試験装置
JP2010169631A (ja) * 2009-01-26 2010-08-05 Shindengen Electric Mfg Co Ltd 定電流回路、及び試験装置

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