JP5235836B2 - 誘導加熱調理装置 - Google Patents
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Description
このように、とりわけ突起部を有する棒状フェライトを加熱コイルの下方に配設することは、鍋の発熱効率を実質的に増加させることができる点において極めて有用である。
図1〜図8を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置1の実施の形態1について以下詳細に説明する。図1は、本願発明に係る誘導加熱調理装置1の全体を概略的に図示する斜視図である。図1に示す誘導加熱調理装置1は、概略、筐体7と、その上に配設されたトッププレート8と、ユーザが加熱能力を調整するための操作部9と、誘導加熱部10と、誘導加熱部10に高周波電流を供給するための高周波電源(電源回路部)100(図3)とを有する。
図4に示す中央コイル20において、内側コイル部20aと、外側コイル部20bとが、中心Oを対称軸として対称的に配置され、中央コイル20の下方には半径方向(放射状)に延びる複数のフェライト棒(第1の高透磁率部材)22が配設されている。
他方、図4に示すサテライトコイル30において、中央コイル20(外側コイル部20b)に隣接する内側コイル領域34と、中央コイル20とは離間する外側コイル領域35とが、(円周上に延びる)中央点Cを対称軸として対称的に配置され、サテライトコイル30の下方にはフェライト板(第2の高透磁率部材)32が配設されている。
ここで中央コイル20とサテライトコイル30に流れる高周波電流の強度Iが同一であるとすると、中央コイル20と外側コイル領域35の間の隣接領域40における鍋Pに流れる渦電流の強度は約2倍の強度I(2×I)となり、他方、サテライトコイルの外側コイル領域35の直上における鍋Pに流れる高周波電流の強度Iのままである。したがって、渦電流による鍋Pの発熱量は電流値の二乗に比例するので、中央点Cより半径方向外側にある鍋Pの部分は、内側にある部分に比して1/4倍しか加熱されず、鍋Pが不均一に加熱されることになる。
図9および図10を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置1の実施の形態2について以下詳細に説明する。実施の形態2の誘導加熱調理装置1は、フェライト板32がトッププレート8に向かって延び、フェライト棒22よりトッププレート8に近接する中央突起部38を有する点を除き、実施の形態1の誘導加熱調理装置1と同様の構成を有するので、重複する点については説明を省略する。
図11〜図14を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置1の実施の形態3について以下詳細に説明する。実施の形態3の誘導加熱調理装置1は、外側コイル領域35より中央コイル20からさらに離れた位置に、フェライト板32がトッププレート8に向かって延びる外側突起部39を有する点を除き、実施の形態1の誘導加熱調理装置1と同様の構成を有するので、重複する点については説明を省略する。
こうして実施の形態3の誘導加熱調理装置1によれば、フェライト板32の外側突起部39が、とりわけサテライトコイル30の半径方向外側における磁気回路の磁気抵抗を低減し、鍋Pの外側部分に対する発熱効率を内側部分よりさらに増大させて、半径方向における鍋Pの発熱量をできるだけ均一にすることができる。
図15〜図17を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置1の実施の形態4について以下詳細に説明する。実施の形態4の誘導加熱調理装置1は、フェライト棒22とフェライト板32との間に実質的に間隙を設けた点を除き、実施の形態3の誘導加熱調理装置1と同様の構成を有するので、重複する点については説明を省略する。
一方、フェライト板32をフェライト材料は高価であるので、より多くのフェライト材料を使用することは製造コストの増大を招く。
10:誘導加熱部、20:中央コイル、20a:内側コイル部、20b:外側コイル部、22:フェライト棒(第1の高透磁率部材)、
30a〜30d:サテライトコイル(周辺コイル)、32a〜32d:フェライト板(第2の高透磁率部材)、34:内側コイル領域、35:外側コイル領域、37:中央開口部、38:中央突起部、39:外側突起部、40:隣接領域、50:端部領域、
100:高周波電源(電源回路部)、102:三相交流電源、104:コンバータ、106:平滑用コンデンサ、108a〜108e:インバータ、110a〜110e:インダクタンス、112a〜112e:抵抗、112a〜112e:共振用コンデンサ、
D:間隙、P:鍋(被加熱体)。
Claims (9)
- トッププレートと、
前記トッププレートの下方において所定平面上に捲回された、中央コイルおよびその周辺に隣接して配置された複数の周辺コイルと、
前記各周辺コイルが前記中央コイルに隣接する領域において同一方向に高周波電流が流れるように、該中央コイルおよび該周辺コイルに高周波電流を供給する複数の電源回路部と、
前記中央コイルにより生じる磁気回路の磁気抵抗を低減する第1の高透磁率部材と、
前記周辺コイルのそれぞれにより生じる磁気回路の磁気抵抗をそれぞれ低減する複数の第2の高透磁率部材とを備え、
前記各周辺コイルによる磁気回路における前記各第2の高透磁率部材の磁気抵抗が、前記中央コイルによる磁気回路における前記第1の高透磁率部材の磁気抵抗より小さいことを特徴とする誘導加熱調理装置。 - 第1の高透磁率部材が中央コイルの下方に配置され、各第2の高透磁率部材が各周辺コイルの下方に配置され、
前記第1および第2の高透磁率部材が所定平面に平行な表面を有し、所定平面に垂直な断面を有し、
前記各第2の高透磁率部材の表面の表面積の合計が前記第1の高透磁率部材の表面積より大きく、または該各第2の高透磁率部材の断面の断面積が該第1の高透磁率部材の断面積より大きいことを特徴とする請求項1に記載の誘導加熱調理装置。 - 中央コイルは、円形の平面形状を有し、
前記各周辺コイルは、前記中央コイルに沿った円弧状の平面形状を有し、所定平面に垂直な断面において中央コイルに隣接する内側コイル領域と、該中央コイルから離れた外側コイル領域とを有することを特徴とする請求項1または2に記載の誘導加熱調理装置。 - 各第2の高透磁率部材は、各周辺コイルの内側コイル領域と外側コイル領域の間において、トッププレートに向かって延び、第1の高透磁率部材より該トッププレートに近接する中央突起部を有することを特徴とする請求項2または3に記載の誘導加熱調理装置。
- 各第2の高透磁率部材の中央突起部は、各周辺コイルの内側コイル領域より外側コイル領域に隣接して配置されることを特徴とする請求項4に記載の誘導加熱調理装置。
- 各第2の高透磁率部材は、各周辺コイルの外側コイル領域より中央コイルからさらに離れた位置に、トッププレートに向かって延びる外側突起部を有することを特徴とする請求項3または4に記載の誘導加熱調理装置。
- 各第2の高透磁率部材は、各周辺コイルの内側コイル領域と中央コイルの間にはトッププレートに向かって延びる内側突起部を有さないことを特徴とする請求項3〜6のいずれか1に記載の誘導加熱調理装置。
- 各第2の高透磁率部材は、各周辺コイルの内側コイル領域と外側コイル領域の間においてトッププレートに向かって延びる中央突起部と、該外側コイル領域より中央コイルからさらに離れた位置にトッププレートに向かって延びる外側突起部とを有することを特徴とする請求項3〜7のいずれか1に記載の誘導加熱調理装置。
- 各第2の高透磁率部材は、第1の高透磁率部材より高い透磁率を有する材料を用いて構成されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1に記載の誘導加熱調理装置。
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