JP2011090798A - 誘導加熱調理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本願発明に係る誘導加熱調理装置は、半径方向外側における鍋の発熱効率を増大させることにより、被加熱体をできるだけ均一に加熱することを目的とする。
【解決手段】本願発明に係る誘導加熱調理装置は、トッププレートと、前記トッププレートの下方において所定平面上に捲回された、中央コイルおよびその周辺に隣接して配置された複数の周辺コイルと、前記各周辺コイルが前記中央コイルに隣接する領域において同一方向に高周波電流が流れるように、該中央コイルおよび該周辺コイルに高周波電流を供給する複数の電源回路部と、前記中央コイルにより生じる磁気回路の磁気抵抗を低減する第１の高透磁率部材と、前記周辺コイルのそれぞれにより生じる磁気回路の磁気抵抗をそれぞれ低減する複数の第２の高透磁率部材とを備え、前記各周辺コイルによる磁気回路における前記各第２の高透磁率部材の磁気抵抗が、前記中央コイルによる磁気回路における前記第１の高透磁率部材の磁気抵抗より小さいことを特徴とするものである。
【選択図】図２

Description

本願発明は、複数の誘導加熱コイルを有する誘導加熱調理装置に関し、とりわけ鍋などの被加熱体全体を半径方向において均一に加熱することができる誘導加熱調理装置に関するものである。

たとえば特許文献１に記載されている従来式の電磁調理器は、被加熱体を載置するトッププレートの下方に円形状に捲回された単一の加熱コイルを配置し、加熱コイルに高周波電流を供給することにより、加熱コイルにより生じる高周波磁界を打ち消すような渦電流（遮蔽電流）を被加熱体に形成し、渦電流によるジュール熱で被加熱体を加熱するものである。このとき鍋電流は、加熱コイルが発生する高周波磁界を最も効率良く打ち消すように、加熱コイル電流の真上において逆方向に流れる。

また特許文献１の電磁調理器は、被加熱体に対する加熱効率を改善するために、加熱コイルの下方に棒状のフェライトが放射状に配置されている（特許文献１の第２図）。フェライトとは、一般には、酸化鉄を主成分とするセラミックスの総称のことであるが、本願明細書においては非導電性で高透磁率を有し、強磁性を有する部材をいう。放射状に延びる複数の棒状フェライトは、その内部で渦電流が形成されることなく、加熱コイルにより生じる磁路の磁気抵抗を下げ、被加熱体およびフェライトを周回する磁界を増大させ、ひいては被加熱体からより多くの発熱量を発生させることができる。

さらに特許文献１の電磁調理器は、棒状フェライトの半径方向内側および外側の端部にトッププレートに向かって延びる突起部を設けることにより、被加熱体およびフェライトを周回する磁路の磁気抵抗をよりいっそう低減し、渦電流（遮蔽電流）を増大させて、発熱効率を向上させるように構成されている。
このように、とりわけ突起部を有する棒状フェライトを加熱コイルの下方に配設することは、鍋の発熱効率を実質的に増加させることができる点において極めて有用である。

特開平０３−２２６９８９号公報（第１図および第２図）

しかしながら、磁界強度は鍋の半径方向に沿って不均一のため、加熱が半径方向に沿って変化する、即ち加熱むらが生じる。通常は、鍋中央部には電流が流れないため発熱小さく、大きな鍋の場合、鍋の端ではコイルから遠くなり遮蔽電流が流れず発熱が小さくなる。両者の中間位置で発熱が最も強くなる。

また近年、調理法のバリエーションが増大し、利用される鍋などの被加熱体が多様化または大型化したことに伴い、さまざまな被加熱体に対応すべく、単一の加熱コイルの外側に別の複数の加熱コイルを設けた誘導加熱調理装置が提案されている。たとえば、中央コイルと、その周辺に隣接して配置された複数のサテライトコイル（周辺コイル）とを有し、トッププレートに載置される鍋の大きさや載置位置（載置状態）に基づいて、高周波電流を供給すべきサテライトコイルを選択する誘導加熱調理装置が提案されている。

こうした複数のサテライトコイルを有する誘導加熱調理装置は、各サテライトコイルの配置位置や、各サテライトコイルに流れる高周波電流の電流方向により、半径方向において被加熱体を均一に加熱することが困難となる場合があり、とりわけ半径方向外側における鍋の発熱量が半径方向内側に比して十分でない場合がある。

そこで本願発明に係る誘導加熱調理装置は、半径方向外側における鍋の発熱効率を増大させることにより、被加熱体をできるだけ均一に加熱することを目的とするものである。

本願発明に係る誘導加熱調理装置は、トッププレートと、前記トッププレートの下方において所定平面上に捲回された、中央コイルおよびその周辺に隣接して配置された複数の周辺コイルと、前記各周辺コイルが前記中央コイルに隣接する領域において同一方向に高周波電流が流れるように、該中央コイルおよび該周辺コイルに高周波電流を供給する複数の電源回路部と、前記中央コイルにより生じる磁気回路の磁気抵抗を低減する第１の高透磁率部材と、前記周辺コイルのそれぞれにより生じる磁気回路の磁気抵抗をそれぞれ低減する複数の第２の高透磁率部材とを備え、前記各周辺コイルによる磁気回路における前記各第２の高透磁率部材の磁気抵抗が、前記中央コイルによる磁気回路における前記第１の高透磁率部材の磁気抵抗より小さいことを特徴とするものである。

本願発明に係る誘導加熱調理装置によれば、半径方向外側における鍋の発熱効率を増大させることにより、半径方向における被加熱体の加熱効率を均一化することができる。

本願発明に係る誘導加熱調理装置の全体を概略的に図示する斜視図である。 図１のトッププレートを省略したときの誘導加熱部を示す平面図である。 高周波電流を供給するための高周波電源の概略的な回路ブロック図である。 図２のIV−IV線から見たときの誘導加熱調理装置の断面図である。 被加熱体に流れる渦電流の強度をプロットしたグラフである。 中央コイルとサテライトコイルを省略したときの誘導加熱部を示す平面図であって、複数のフェライト棒およびフェライト板を示す。 別の変形例による誘導加熱部を示す図２と同様の平面図である。 図２と同様の平面図であって、鍋が誘導加熱部の中央から逸脱してトッププレート上に載置された状態を示す。 実施の形態２の誘導加熱部を示す図４と同様の断面図である。 実施の形態２による誘導加熱部を示す図６と同様の平面図である。 実施の形態３による誘導加熱部を示す図４と同様の断面図である。 実施の形態３による誘導加熱部を示す図６と同様の平面図である。 実施の形態３の変形例による誘導加熱部を示す図４と同様の断面図である。 実施の形態３の変形例による誘導加熱部を示す図６と同様の平面図である。 実施の形態４による誘導加熱部を示す図４と同様の断面図である。 実施の形態４による誘導加熱部を示す図６と同様の平面図である。 実施の形態４の変形例による誘導加熱部を示す図４と同様の断面図である。

以下、添付図面を参照して本願発明に係る誘導加熱調理装置１の実施の形態を説明する。各実施の形態の説明において、理解を容易にするために方向を表す用語（例えば、「上方」、「下方」、「右側」および「左側」など）を適宜用いるが、これは説明のためのものであって、これらの用語は本願発明を限定するものでない。また以下の添付図面において、同様の構成部品については同様の符号を用いて参照する。

実施の形態１．
図１〜図８を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置１の実施の形態１について以下詳細に説明する。図１は、本願発明に係る誘導加熱調理装置１の全体を概略的に図示する斜視図である。図１に示す誘導加熱調理装置１は、概略、筐体７と、その上に配設されたトッププレート８と、ユーザが加熱能力を調整するための操作部９と、誘導加熱部１０と、誘導加熱部１０に高周波電流を供給するための高周波電源（電源回路部）１００（図３）とを有する。

図２は図１のトッププレート８を取り外したときの誘導加熱部１０を示す平面図である。図２に示す誘導加熱部１０は、中央に配置された加熱コイル（以下、「中央コイル」という）２０と、中央コイル２０の周辺に隣接して配置された複数の（図２では４つの）加熱コイル（以下、「サテライトコイル」または「周辺コイル」という）３０ａ〜３０ｄとを有する。

中央コイル２０は、円形の平面形状を有し、絶縁被膜された任意の金属からなる導電線が円周方向に捲回されることにより構成されている。また中央コイル２０は、図示のように半径方向内側および外側に配置された、電気的に直列に接続された内側コイル部２０ａおよび外側コイル部２０ｂを有するものであってもよい。

一方、各サテライトコイル３０ａ〜３０ｄは、１／４円の円弧状（バナナ状または胡瓜状）の平面形状を有し、同様の導電線をサテライトコイル３０ａ〜３０ｄの円弧状の形状に沿って捲回することにより形成されている。すなわち、サテライトコイル３０ａ〜３０ｄは、中央コイル２０に隣接する円弧状領域（図２の一点鎖線４０で囲んだ領域。以下、単に「隣接領域」という）４０において中央コイル２０の円形の平面形状に実質的に沿って延びるように構成されている。

また詳細は後述するが、中央コイル２０の下方には放射状に配置された複数のフェライト棒２２が設けられ、各サテライトコイル３０ａ〜３０ｄの下方にはフェライト板３２ａ〜３２ｄが配設されている。

図３は誘導加熱調理器１に内蔵された高周波電源１００の概略的な回路ブロック図である。本願発明に係る高周波電源１００は、概略、三相交流電源１０２を直流電流に変換するコンバータ（例えばダイオードブリッジ）１０４と、コンバータ１０４の出力端に接続された平滑用コンデンサ１０６、平滑用コンデンサ１０６に並列に接続された５つのインバータ１０８ａ〜１０８ｅとを備える。各インバータ１０８ａ〜１０８ｅは、コンバータ１０４からの直流電流を高周波電流に変換し、それぞれ中央コイル２０および４つのサテライトコイル３０ａ〜３０ｄに高周波電流を独立して供給するものである。図３では、中央コイル２０およびサテライトコイル３０ａ〜３０ｄはそれぞれ、インダクタンス１１０ａ〜１１０ｅと抵抗１１２ａ〜１１２ｅの等価回路として図示されている。各インバータ１０８ａ〜１０８ｅは、中央コイル２０およびサテライトコイル３０ａ〜３０ｄのインダクタンス１１０ａ〜１１０ｅと共振する共振用コンデンサ１１２ａ〜１１２ｅを介して、中央コイル２０およびサテライトコイル３０ａ〜３０ｄに接続されており、図示しない制御回路からの任意の制御信号を受けて、中央コイル２０および４つのサテラストコイル３０ａ〜３０ｄに任意の駆動条件で高周波電流を供給することができる。

本願発明に係るインバータ１０８ａ〜１０８ｅは、中央コイル２０に所定の方向（図２の矢印Ａで示す反時計方向）に電流が流れる時に、中央コイル２０とサテライトコイル３０ａ〜３０ｄとが互いに隣接する円弧状の隣接流域４０におけるサテライトコイル３０ａ〜３０ｄには、中央コイル２０と同一方向（図２の矢印Ｂで示す時計方向）に電流が流れるように制御される。すなわち本願発明に係る高周波電源１００は、図２の矢印Ａ，Ｂで示すように、中央コイル２０とサテライトコイル３０ａ〜３０ｄのそれぞれの間の隣接領域４０において実質的に同一方向に流れる高周波電流を供給するように制御される。

図４は図２のIV−IV線から見たときの誘導加熱調理装置１の断面図である。
図４に示す中央コイル２０において、内側コイル部２０ａと、外側コイル部２０ｂとが、中心Ｏを対称軸として対称的に配置され、中央コイル２０の下方には半径方向（放射状）に延びる複数のフェライト棒（第１の高透磁率部材）２２が配設されている。
他方、図４に示すサテライトコイル３０において、中央コイル２０（外側コイル部２０ｂ）に隣接する内側コイル領域３４と、中央コイル２０とは離間する外側コイル領域３５とが、（円周上に延びる）中央点Ｃを対称軸として対称的に配置され、サテライトコイル３０の下方にはフェライト板（第２の高透磁率部材）３２が配設されている。

本願発明によれば、中央コイル２０とサテライトコイル３０は、各インバータ１０８により、それぞれの間の隣接領域４０において実質的に同一方向に流れる高周波電流を供給するように制御されるので、図４の中心Ｏから右側半分に示す中央コイル２０（内側コイル部２０ａおよび外側コイル部２０ｂ）に、高周波電流が紙面奥手側から手前側に流れるとき、サテライトコイル３０の内側コイル領域３４においては同様に高周波電流が紙面奥手側から手前側に流れるが、サテライトコイル３０の外側コイル領域３５においては逆方向（紙面手前側から奥手側）の高周波電流が流れる。すなわち被加熱体Ｐは、サテライトコイル３０の外側コイル領域３５直上より外側にある部分においては、それより内側にある部分とは反対方向の渦電流（遮蔽電流）が形成される。

図５は、図４の被加熱体Ｐにおいて紙面手前側から奥手側に流れる方向を正の方向として、被加熱体Ｐに流れる渦電流の強度をプロットしたグラフであり、とりわけ図５（ａ）および（ｂ）はサテライトコイル３０の内側コイル領域３４および外側コイル領域３５のみによる磁界で生じた鍋Ｐの渦電流の強度を示し、図５（ｃ）はサテライトコイル３０全体に起因する鍋Ｐの渦電流の強度を示す。
ここで中央コイル２０とサテライトコイル３０に流れる高周波電流の強度Ｉが同一であるとすると、中央コイル２０と外側コイル領域３５の間の隣接領域４０における鍋Ｐに流れる渦電流の強度は約２倍の強度Ｉ（２×Ｉ）となり、他方、サテライトコイルの外側コイル領域３５の直上における鍋Ｐに流れる高周波電流の強度Ｉのままである。したがって、渦電流による鍋Ｐの発熱量は電流値の二乗に比例するので、中央点Ｃより半径方向外側にある鍋Ｐの部分は、内側にある部分に比して１／４倍しか加熱されず、鍋Ｐが不均一に加熱されることになる。

そこで本願発明は、図２の中央コイル２０とサテライトコイル３０を省略した図６に示すように、各フェライト板３２のトッププレート８と平行な表面の表面積の合計がフェライト棒２２の表面積より大きくなるように構成されるか、あるいは図４に示すように各フェライト板３２のトッププレート８と垂直な断面がフェライト棒２２の断面積より大きくなるように構成されている。こうして、サテライトコイル３０の下方に配置されたフェライト板３２の磁気抵抗を、中央コイル２０の下方に配置されたフェライト棒２２の磁気抵抗より小さくすることにより、サテライトコイル３０による鍋Ｐの発熱量を増大させて、中央点Ｃより半径方向外側および内側における鍋Ｐの部分の発熱量をできるだけ均一にすることができる。

なお、サテライトコイル３０による磁気回路におけるフェライト板３２の磁気抵抗を、中央コイルによる磁気回路におけるフェライト棒２２の磁気抵抗より小さくするために、フェライト板３２をフェライト棒２２より高い透磁率を有する材料を用いて形成してもよい。

また上記実施の形態１では、４つのサテライトコイル３０ａ〜３０ｄが中央コイル２０の周囲に配置された誘導加熱調理装置１について説明したが、図７に示すように、６つのサテライトコイル３０ａ〜３０ｆを配置してもよく、４つ以上またはそれ以下のサテライトコイル３０を設けてもよい。

なお、実施の形態１に係る誘導加熱調理装置１によれば、図８のように鍋Ｐが中央から逸脱してトッププレート上に載置された場合、中央コイル２０と４つのサテライトコイル３０ａ〜３０ｄのうち２つのサテライトコイル３０ａ，３０ｄのみに高周波電流を供給して、効率的に被加熱体を加熱するとともに、不要な電力消費を削減して、省エネに貢献することができる。

実施の形態２．
図９および図１０を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置１の実施の形態２について以下詳細に説明する。実施の形態２の誘導加熱調理装置１は、フェライト板３２がトッププレート８に向かって延び、フェライト棒２２よりトッププレート８に近接する中央突起部３８を有する点を除き、実施の形態１の誘導加熱調理装置１と同様の構成を有するので、重複する点については説明を省略する。

図９および図１０は、実施の形態２の誘導加熱部１０を示す、それぞれ図４および図６と同様の断面図および平面図である。図示のように、サテライトコイル３０は中央開口部３７（図２）を有し、実施の形態２の誘導加熱部１０は、サテライトコイル３０の中央開口部３７を通り、トッププレート８に向かって延びる中央突起部３８を含むフェライト板３２を有する。すなわち実施の形態２のフェライト板３２の中央突起部３８は、フェライト棒２２に比してトッププレート８により近接して配置されている。

したがって、実施の形態２によれば、フェライト板３２の中央突起部３８がサテライトコイル３０による磁気回路の磁気抵抗をよりいっそう低減し、サテライトコイル３０による鍋Ｐの外側部分に対する発熱効率を内側部分よりさらに改善することができる。こうして、実施の形態１と同様、サテライトコイル３０による鍋Ｐの発熱量を増大させて、中央点Ｃより半径方向外側および内側における鍋Ｐの部分の発熱量を極力均一にすることができる。

なお詳細図示しないが、フェライト板３２の中央突起部３８は、サテライトコイル３０の内側コイル領域３４より外側コイル領域３５に隣接して配置されることが好ましい。これにより、サテライトコイル３０の外側コイル領域３５の周囲の磁気回路の磁気抵抗を選択的に低減し、半径方向における発熱量の不均衡を格段に改善することができる。

実施の形態３．
図１１〜図１４を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置１の実施の形態３について以下詳細に説明する。実施の形態３の誘導加熱調理装置１は、外側コイル領域３５より中央コイル２０からさらに離れた位置に、フェライト板３２がトッププレート８に向かって延びる外側突起部３９を有する点を除き、実施の形態１の誘導加熱調理装置１と同様の構成を有するので、重複する点については説明を省略する。

図１１および図１２は、実施の形態３の誘導加熱部１０を示す、それぞれ図４および図６と同様の断面図および平面図である。図示のように、実施の形態３の誘導加熱部１０は、サテライトコイル３０の外側コイル領域３５より半径方向外側の位置にトッププレート８に向かって延びる外側突起部３９を含むフェライト板３２を有する。
こうして実施の形態３の誘導加熱調理装置１によれば、フェライト板３２の外側突起部３９が、とりわけサテライトコイル３０の半径方向外側における磁気回路の磁気抵抗を低減し、鍋Ｐの外側部分に対する発熱効率を内側部分よりさらに増大させて、半径方向における鍋Ｐの発熱量をできるだけ均一にすることができる。

またフェライト板３２は、図１３および図１４に示すように外側突起部３９に加え、実施の形態２と同様の中央突起部３８を有していてもよい。これにより、サテライトコイル３０の半径方向外側における磁気回路の磁気抵抗をさらに低減して、半径方向における鍋Ｐの発熱量を極力均一にすることができる。

このとき、サテライトコイル３０の内側コイル領域３４より半径方向内側の位置にはトッププレート８に向かって延びる突起部（図示せず）を設けないことにより、内側コイル領域３４付近の磁気抵抗を積極的に低減することなく、鍋Ｐの外側部分に対する発熱効率を内側部分より相対的に増大させて、半径方向における鍋Ｐの発熱量をできるだけ均一にすることが好ましい。すなわち、図１１および図１３に示す誘導加熱部１０には中央コイル２０とサテライトコイル３０との間にはトッププレート８に向かって延びる突起部は配設されておらず、鍋Ｐの発熱量を相対的により均一化することができる。

実施の形態４．
図１５〜図１７を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理装置１の実施の形態４について以下詳細に説明する。実施の形態４の誘導加熱調理装置１は、フェライト棒２２とフェライト板３２との間に実質的に間隙を設けた点を除き、実施の形態３の誘導加熱調理装置１と同様の構成を有するので、重複する点については説明を省略する。

図１５および図１６は、実施の形態４の誘導加熱部１０を示す、それぞれ図４および図６と同様の断面図および平面図である。図１５および図１６に示すように、実施の形態４のフェライト板３２は、フェライト棒２２との間に実質的な間隙Ｄを有し、好適にはサテライトコイル３０の内側コイル領域３４の下方には配置されていない。これにより中央コイル２０を周回する磁界は減少し、サテライトコイル３０を周回する磁界に相対的に近似させることが可能となり、半径方向において鍋Ｐを均一に加熱することができる。

なお、図１７に示すように、フェライト板３２の中央突起部３８をサテライトコイル３０の内側コイル領域３４より外側コイル領域３５に近接するように配置することが好ましい。これにより、サテライトコイル３０の外側コイル領域３５を周回す磁界を選択的に増大させ、外側コイル領域３５の外側にある鍋Ｐの部分の渦電流を増大させ、全体的に鍋Ｐを均一に加熱することができる。

以上のように、本発明に係る誘導加熱調理装置１の実施の形態は、サテライトコイル３０のフェライト板３２の表面積を中央コイル２０のフェライト棒２２の表面積より大きくするか、フェライト板３２の断面積をフェライト棒２２の断面積より小さく構成することにより、サテライトコイル３０による鍋Ｐの発熱量を増大させて、半径方向外側および内側における鍋Ｐの部分の発熱量をできるだけ均一にするものである。

しかしながら、隣接する２つのサテライトコイル３０の端部領域（図２）５０においては、常に、サテライトコイル３０に流れる高周波電流は逆方向に流れるので、サテライトコイル３０による磁界は打ち消し合う。すなわち、端部領域５０の直方にある鍋Ｐの部分には渦電流は形成されず、加熱されることもない。したがって、端部領域５０にはフェライト板３２を配置しても実質的なメリットがない。
一方、フェライト板３２をフェライト材料は高価であるので、より多くのフェライト材料を使用することは製造コストの増大を招く。

そこで、本発明において、高周波電流による磁界が互いに打ち消し合うような端部領域５０においては、フェライト板３２を形成することなく、用いられるフェライト材料を極力削減することが好ましい。これにより費用対効果を最適化した誘導加熱調理装置１を実現することができる。

なお、用いられるフェライト材料を削減するほど、サテライトコイル３０のインダクタンスは小さくなるので、コイル両端電圧を低減し、コイルターン数を増やすことが可能である。このとき駆動電圧を同一として、ターン数（コイルの巻数）を増やすことにより、加熱量を補償することができる。

１：誘導加熱調理装置、７：筐体、８：トッププレート、９：操作部、
１０：誘導加熱部、２０：中央コイル、２０ａ：内側コイル部、２０ｂ：外側コイル部、２２：フェライト棒（第１の高透磁率部材）、
３０ａ〜３０ｄ：サテライトコイル（周辺コイル）、３２ａ〜３２ｄ：フェライト板（第２の高透磁率部材）、３４：内側コイル領域、３５：外側コイル領域、３７：中央開口部、３８：中央突起部、３９：外側突起部、４０：隣接領域、５０：端部領域、
１００：高周波電源（電源回路部）、１０２：三相交流電源、１０４：コンバータ、１０６：平滑用コンデンサ、１０８ａ〜１０８ｅ：インバータ、１１０ａ〜１１０ｅ：インダクタンス、１１２ａ〜１１２ｅ：抵抗、１１２ａ〜１１２ｅ：共振用コンデンサ、
Ｄ：間隙、Ｐ：鍋（被加熱体）。

Claims (9)

1. トッププレートと、
   前記トッププレートの下方において所定平面上に捲回された、中央コイルおよびその周辺に隣接して配置された複数の周辺コイルと、
   前記各周辺コイルが前記中央コイルに隣接する領域において同一方向に高周波電流が流れるように、該中央コイルおよび該周辺コイルに高周波電流を供給する複数の電源回路部と、
   前記中央コイルにより生じる磁気回路の磁気抵抗を低減する第１の高透磁率部材と、
   前記周辺コイルのそれぞれにより生じる磁気回路の磁気抵抗をそれぞれ低減する複数の第２の高透磁率部材とを備え、
   前記各周辺コイルによる磁気回路における前記各第２の高透磁率部材の磁気抵抗が、前記中央コイルによる磁気回路における前記第１の高透磁率部材の磁気抵抗より小さいことを特徴とする誘導加熱調理装置。
2. 第１の高透磁率部材が中央コイルの下方に配置され、各第２の高透磁率部材が各周辺コイルの下方に配置され、
   前記第１および第２の高透磁率部材が所定平面に平行な表面を有し、所定平面に垂直な断面を有し、
   前記各第２の高透磁率部材の表面の表面積の合計が前記第１の高透磁率部材の表面積より大きく、または該各第２の高透磁率部材の断面の断面積が該第１の高透磁率部材の断面積より大きいことを特徴とする請求項１に記載の誘導加熱調理装置。
3. 中央コイルは、円形の平面形状を有し、
   前記各周辺コイルは、前記中央コイルに沿った円弧状の平面形状を有し、所定平面に垂直な断面において中央コイルに隣接する内側コイル領域と、該中央コイルから離れた外側コイル領域とを有することを特徴とする請求項１または２に記載の誘導加熱調理装置。
4. 各第２の高透磁率部材は、各周辺コイルの内側コイル領域と外側コイル領域の間において、トッププレートに向かって延び、第１の高透磁率部材より該トッププレートに近接する中央突起部を有することを特徴とする請求項２または３に記載の誘導加熱調理装置。
5. 各第２の高透磁率部材の中央突起部は、各周辺コイルの内側コイル領域より外側コイル領域に隣接して配置されることを特徴とする請求項４に記載の誘導加熱調理装置。
6. 各第２の高透磁率部材は、各周辺コイルの外側コイル領域より中央コイルからさらに離れた位置に、トッププレートに向かって延びる外側突起部を有することを特徴とする請求項３または４に記載の誘導加熱調理装置。
7. 各第２の高透磁率部材は、各周辺コイルの内側コイル領域と中央コイルの間にはトッププレートに向かって延びる内側突起部を有さないことを特徴とする請求項３〜６のいずれか１に記載の誘導加熱調理装置。
8. 各第２の高透磁率部材は、各周辺コイルの内側コイル領域と外側コイル領域の間においてトッププレートに向かって延びる中央突起部と、該外側コイル領域より中央コイルからさらに離れた位置にトッププレートに向かって延びる外側突起部とを有することを特徴とする請求項３〜７のいずれか１に記載の誘導加熱調理装置。
9. 各第２の高透磁率部材は、第１の高透磁率部材より高い透磁率を有する材料を用いて構成されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１に記載の誘導加熱調理装置。

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