JP5222836B2 - 光記録媒体 - Google Patents

Description

本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、色素を含有する記録層を有する光記録媒体に関する。

近年、超高密度の記録が可能となる青色レーザの開発は急速に進んでおり、それに対応した追記型の光記録媒体の開発が行なわれている。中でも、比較的安価のコストで効率的な生産が可能となる色素塗布型の追記型媒体の開発が強く望まれている。

例えば、安定に成形できる比較的浅い溝深さの基板を用いて、良好な記録再生特性を有する極めて高密度の色素塗布型の追記型光記録媒体が提案されている（特許文献１、２）。即ち、案内溝が形成された基板と、基板上に光反射機能を有する層と、未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、主として位相変化により当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加するように構成された光記録媒体である。

ここで、前記特許文献１では、記録層とカバー層との間に、界面層としてＺｎＳ−ＳｉＯ_２等を用いることを提案している。また、前記特許文献２では、記録層の変形、特に、カバー層側へのふくらみ変形を促進したり、抑制することによって良好な記録特性を得ることを目的とし、記録層とカバー層との間に界面層としてＩＴＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２（９０：１０重量％））を用いることを提案している。ＩＴＯ界面層は、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２界面層に比べ、良好な記録再生特性を示すことが開示されている。

特開２００５−２２８４０２号公報 特開２００９−０２６３７８号公報

しかしながら、これらの従来の光記録媒体においては、以下のような課題があることが明らかになってきた。追記型の光記録媒体においては、記録時間短縮のため、より高速に記録可能なことが求められるが、従来用いられているＩＴＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２（９０：１０重量％））では、記録速度が増加するとパワーマージンが低速記録時に比べ狭くなり、記録再生安定性の確保が難しくなる。

また、製造上ＩＴＯをスパッタする際、Ｉｎを主成分とするパーティクルが非常に多く発生するため、歩留まりを悪化させたり、パーティクル除去のため製造設備の稼働率を落とす原因となっている。

さらに希金属であるＩｎは高価であり、近年その価格が上昇傾向にあるため、原材料コストを上昇させる原因となっている。

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は高速記録時のパワーマージンを改善し、Ｉｎを主成分とするパーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減することのできる光記録媒体を提供することにある。

そこで本発明者等は、上記課題について鋭意検討を行った結果本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、少なくとも、案内溝が形成された基板と、前記基板上に光反射機能を有する反射層と、未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、前記記録層に接する界面層と、前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加する光記録媒体において、前記界面層に酸化スズが８０重量％以上含有されることを特徴とする光記録媒体に存する（請求項１）。

また、前記界面層にＺｎＯ及び／又はＳｉＯ_２が含有されることも好ましい（請求項２）。

このとき、ＺｎＯ及び／又はＳｉＯ_２は、合計で５重量％以上、２０重量％以下含有されることも好ましい（請求項３）。

本発明によれば、高速記録時において十分なパワーマージンを有し、製造時にＩｎを主成分とするパーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減することのできる光記録媒体が得られる。

本発明に係る光記録媒体の第１実施形態の構成を説明する図である。 本発明に係る光記録媒体の第２実施形態の構成を説明する図である。

２０，１００ 光記録媒体
２１，１０１ 基板
２２，１０２，１１２ 記録層
２３，１０３ 反射層
２４，１１１ カバー層
２５ カバー層溝間部
２６ カバー層溝部
２７，１０７ 記録再生光ビーム
２８，１０８ 対物レンズ
２９ 記録再生光ビームが入射する面
３０ 界面層
１１３ 半透明反射層
１１４ 中間層

以下、本発明の実施の形態につき、大容量の光記録媒体である追記型のブルーレイディスクを想定して詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に制限されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。

［１．第１実施形態］
図１は、本発明の光記記録媒体の第１実施形態の構成を説明する図である。第１実施形態では、色素を主成分とする記録層を有する「膜面入射構成」の追記型媒体を用いて説明する。

第１実施形態の光記録媒体２０においては、少なくとも、案内溝を形成した基板２１上に、反射機能を有する反射層２３と、未記録（記録前）状態において記録再生光に対して吸収を有する色素を主成分とする、光吸収機能を有する記録層２２と、前記記録層２２に接する界面層３０及びカバー層２４とが順次積層された構造を有している。第１実施形態の光記録媒体２０は、膜面入射構成（Ｒｅｖｅｒｓｅ ｓｔａｃｋともいう）をとっており、記録再生をカバー層２４側から対物レンズ２８を介して集光された記録再生光ビーム２７を入射して行う。

以下においては、反射機能を有する反射層を単に「反射層２３」、色素を主成分とする光吸収機能を有する記録層２２を単に「記録層２２」と呼ぶ。膜面入射構成のカバー層２４側に記録再生光ビーム２７を入射するに当たり、高密度記録のために、通常、ＮＡ（開口数）＝０．６〜０．９程度の高ＮＡ（開口数）の対物レンズ２８が用いられる。記録再生光波長λは、赤色から青紫色波長（３５０ｎｍ〜６００ｎｍ程度）がよく用いられる。さらに、高密度記録のためには、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域を用いることが好ましいが、必ずしもこれに限定されない。

本実施形態においては、図１において、記録再生光ビーム２７のカバー層２４への入射面（記録再生光ビームが入射する面２９）から見て遠い側の案内溝部を記録溝部とし、記録溝部に形成した記録ピット部の反射光強度が、記録溝部の未記録時の反射光強度より高くなるような記録（以下、ＬｔｏＨ記録という）を行う。その主たるメカニズムは、反射光強度の増加が、主として前記記録ピット部での反射光の位相変化による。即ち、主として記録溝部における反射光の往復光路長の、記録前後での変化を利用する。

ここで、膜面入射型の光記録媒体２０では、記録再生光ビーム２７のカバー層２４への入射面（記録再生光ビームが入射する面２９）から遠い案内溝部（基板２１の溝部と一致）をカバー層溝間部２５（ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ）、記録再生光ビームが入射する面２９から近い案内溝間部（基板２１の溝間部と一致）をカバー層溝部２６（ｏｎ−ｇｒｏｏｖｅ）と呼ぶことにする。

ここで、溝形状や各層の屈折率等の光学特性を制御することにより、カバー層溝間部２５（ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ）を記録トラックとする（以下、ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ記録と記載）ＬｔｏＨ記録を実現することが可能となる。

＜具体的な層構成及び材料の好ましい態様について＞
以下において、図１で示す層構成の具体的材料・態様について、青色波長レーザの開発が進んでいる状況を考慮して、特に、記録再生光ビーム２７の波長λが４０５ｎｍ近傍の場合を想定して説明する。

（基板２１）
基板２１は、膜面入射構成で用いる場合には、適度な加工性と剛性を有するプラスチック、金属、ガラス等を用いることができる。従来の基板入射構成（基板側から記録再生光ビームを入射する構成）と異なり、透明性や複屈折に対する制限はない。表面に案内溝を形成するのであるが、金属、ガラスでは、表面に光や熱硬化性の薄い樹脂層を設け、そこに、溝を形成する必要がある。この点、プラスチック材料を用い、射出成型によって、基板形状（特には円盤状）と、表面の案内溝とを一挙に形成するほうが製造上は好ましい。

射出成型できるプラスチック材料としては、従来ＣＤやＤＶＤで用いられたポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。基板２１の厚みとしては、０．５ｍｍ〜１．２ｍｍ程度とするのが好ましい。中でも、光記録媒体２０の厚みを、従来のＣＤやＤＶＤと同じ１．２ｍｍとすることが好ましい。従来のＣＤやＤＶＤで使われるケ−ス等をそのまま用いることができ、また記録再生装置の互換性を図るためにも好ましいからである。なお、ブルーレイディスクフォーマットの規格上、基板２１の厚みを１．１ｍｍ、カバー層２４の厚みを０．１ｍｍとすることが、ブルーレイディスクでは規定されている。

基板２１にはトラッキング用の案内溝が形成されている。第１実施形態において、カバー層溝間部２５が記録溝部となるトラックピッチは、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒより高密度化を達成するために、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍがより好ましく、また０．６μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以下がより好ましい。溝深さは、概ね２０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲にあることが好ましい。溝深さは、前記範囲内で、未記録状態の記録溝部反射率、記録信号の信号特性、プッシュプル信号特性、記録層２２の光学特性等を考慮して適宜最適化される。

本実施形態では、主として記録溝部と記録溝間部とにおけるそれぞれの反射光の位相差による干渉を利用しているから、両方が集束光スポット内に存在することが好ましい。このため、記録溝幅（カバー層溝間部２５の幅）は、記録再生光ビーム２７の記録層面におけるスポット径（溝横断方向の直径）より小さくするのが好ましい。記録再生光波長λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）＝０．８５の光学系で、トラックピッチを０．３２μｍとする場合、スポット系は０．１μｍ以上０．２μｍ以下の範囲とするのが好ましい。これらの範囲外では、溝部または溝間部の形成が困難となる場合が多い。

案内溝は、通常は、アドレスや同期信号等の付加情報を付与するために、溝蛇行、溝深さ変調等の溝形状の変調、記録溝部あるいは記録溝間部の断続による凹凸ピット等による付加信号を有する。例えば、ブルーレイディスクでは、ＭＳＫ（ｍｉｎｉｍｕｍ−ｓｈｉｆｔ−ｋｅｙｉｎｇ）とＳＴＷ（ｓａｗ−ｔｏｏｔｈ−ｗｏｂｂｌｅｓ）という２変調方式を用いたウォブル・アドレス方式が用いられている。

（反射層２３）
光反射機能を有する反射層２３には、記録再生光ビーム２７の波長に対する反射率が高く、記録再生光ビーム２７の波長に対して７０％以上の反射率を有するものが好ましい。記録再生光ビーム２７の波長として用いられる可視光、特に、青色波長域で高反射率を示すものとして、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が挙げられる。より好ましくは、波長λ＝４０５ｎｍでの反射率が高く、吸収が小さいＡｇを主成分とする合金である。Ａｇを主成分として、Ａｕ、Ｃｕ、希土類元素（特に、Ｎｄ）、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ等を０．０１原子％以上１０原子％以下添加することで、水分、酸素、硫黄等に対する耐食性を高めることができ好ましい。この他に、誘電体層を複数積層した誘電体ミラーを用いることも可能である。

反射層２３の膜厚は、基板２１表面の溝段差を保持するために、７０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは６５ｎｍ以下とする。後述の、２層媒体を形成する場合（本発明の光記録媒体の第２実施形態）を除いて、反射層膜厚の下限は、３０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは４０ｎｍ以上とする。

反射層２３の表面粗さＲａは、５ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以下であることがより好ましい。Ａｇは添加物の添加によって平坦性が増す性質があり、この意味でも、上記の添加元素は０．１原子％以上が好ましく、さらに好ましくは、０．５原子％以上である。

反射層２３の形成方法は、スパッタリング法、イオンプレーティング法や、電子ビーム蒸着法など、従来公知の方法で形成することができる。中でもスパッタリング法が好ましい。膜厚や組成が制御しやすく、量産性も優れているためである。

（記録層２２）
本発明の光記録媒体の記録層２２に含有される色素は、３００ｎｍ〜８００ｎｍの可視光（及びその近傍）波長領域に、その構造に起因した顕著な吸収帯を有する有機化合物である。このような色素を記録層２２として形成した未記録（記録前）の状態において、記録再生光ビーム２７の波長λに吸収を有し、記録により変質して記録層２２に再生光の反射光強度の変化として検出されうる光学的変化を起こす色素を、「主成分色素」と呼ぶ。主成分色素は、複数の色素の混合物として、上記の機能を発揮するものであってもよい。

主成分色素含有量は、重量％にして５０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。主成分色素は、単独の色素が記録再生光ビーム２７の波長λに対して吸収があり、記録によって変質して上記光学的変化を生じることが好ましいが、記録再生光ビーム２７の波長λに対する吸収を有し、発熱することで、間接的に他方の色素を変質させ光学的変化を起こさせるように機能分担されていてもよい。

主成分色素にはこの他、光吸収機能を有する色素の経時安定性（温度、湿度、光に対する安定性）を改善するためのいわゆるクエンチャーとしての色素が混合されていてもよい。主成分色素以外の含有物としては、低・高分子材料からなる結合剤（バインダー）、誘電体等が挙げられる。

主成分色素は、特に構造によって限定されるものではない。本実施形態においては、記録により、記録層２２内に屈折率が減少する変化を生じさせるものであり、未記録（記録前）状態での吸収係数が０より大きい値である限り、原則として光学的特性に対する強い制約はない。主成分色素が記録再生光ビーム２７の波長λに対する吸収を有し、且つ、自らの吸光、発熱によって、変質を起こし、屈折率の低下を生じればよい。ここで、変質とは、具体的には、主成分色素の吸収・発熱による膨張、分解、昇華、溶融等の現象をいう。主成分となる色素そのものが変質して、なんらかの構造変化を伴い、屈折率が低下してもよい。また、屈折率の低下は記録層２２内及び／または界面に空洞が形成されてもよいし、記録層２２の熱膨張による屈折率低下であってもよい。

このような変質を示す温度としては、保存安定性、耐再生光劣化の観点からは、１００℃以上が好ましく、１５０℃以上がさらに好ましい。また、高線速度でのジッタ特性の観点から、５００℃以下が好ましく、３５０℃以下がさらに好ましく、３００℃以下がより好ましく、２８０℃以下が特に好ましい。分解温度が３００℃以下であれば、特に１０ｍ／ｓ以上の高線速度でのジッタ特性が良好になる傾向があり好ましい。分解温度が２８０℃以下であることが、さらに高速記録での特性を良好にする可能性があるので好ましい。通常は、以上で述べた変質挙動は、主成分色素の熱特性として測定され、熱重量分析−示差熱分析（ＴＧ−ＤＴＡ）法によって、重量減少開始温度として分解温度を測定できる。

上記のような特性を有する色素としては、メチン系、（含金）アゾ系、ヒドラジド系、ピロン系、ポルフィリン系化合物等及びこれらの混合物が挙げられる。より具体的には、含金アゾ系色素、ヒドラジド系色素、ピロン系色素は、本来、耐光性に優れ、かつ、ＴＧ−ＤＴＡでの重量減少開始温度Ｔｄが、１５０℃以上４００℃以下にあり、急峻な減量特性（分解物の揮発性が高く、空洞を形成しやすい）を有する点で好ましい。特に好ましいのは、含金アゾ系色素や含金ヒドラジド系色素である。色素は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。

《アゾ系色素》
アゾ系色素としては、下記式［Ｉ］または［II］で示される環状β−ジケトンアゾ化合物と金属イオンからなる含金属環状β−ジケトンアゾ化合物が好ましい。

（式［Ｉ］〜［II］中、環Ａは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、Ｘ、Ｘ’、Ｙ、Ｙ’、Ｚは各々独立に、水素原子以外に置換基（スピロ含む）を有していてもよい炭素原子、酸素原子、硫黄原子、Ｎ−Ｒ_１で表される窒素原子、Ｃ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ、Ｃ＝ＮＲ_２のいずれかを表し、βジケトン構造とともに５または６員環構造を形成する。Ｒ_１は水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、−ＣＯＲ_３で表されるアシル基、−ＮＲ_４Ｒ_５を表すアミノ基のいずれかを表し、Ｒ_２は水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、アリール基を表す。Ｒ_３は炭化水基、又は複素環基を表し、Ｒ_４、Ｒ_５は水素原子、炭化水素基または複素環基を表す。またこれらは必要に応じて置換されてもよい。またＸ、Ｘ’、Ｙ、Ｙ’、Ｚが炭素原子またはＮ−Ｒ_１で表される窒素原子の場合、隣接する両者の結合は単結合であっても二重結合であってもよい。さらに、Ｘ、Ｘ’、Ｙ、Ｙ’、Ｚが炭素原子、Ｎ−Ｒ_１で表される窒素原子、Ｃ＝ＮＲ_２の場合、隣接するもの同士で互いに縮合して、飽和又は不飽和の炭化水素環あるいは複素環を形成してもよい。）

また、アゾ系色素としては、下記式［III］〜［Ｖ］を有する含金属ピリドンアゾ化合物が好ましい。

（式［III］〜［Ｖ］中、Ｒ_６〜Ｒ_１５は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。）

アゾ系色素としては、下記式［VI］で示される化合物と金属からなる含金族アゾ化合物もまた好ましい

（式［VI］中、Ａは、これが結合している炭素原子及び窒素原子とともに複素芳香環を形成する残基を表し、Ｘは活性水素を有する基を表し、Ｒ_１６及びＲ_１７は各々独立に水素または任意の置換基を表す。）

さらに、アゾ系色素としては、下記式［VII］で表される含金族アゾ化合物も挙げられる。

（式［VII］中、環Ａは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、ＸＬは、Ｌが脱離することによりＸが陰イオンとなり金属が配位可能となる置換基を表す。Ｒ_１８、Ｒ_１９は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。Ｒ_２０、Ｒ_２１、Ｒ_２２は各々独立に水素または任意の置換基を表す。）

これらのアゾ系色素は、従来ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒで用いられたアゾ系色素より、さらに、短波長よりの主吸収帯を有しており、４００ｎｍ近傍での吸収係数ｋ_ｄが、０．３〜１程度の大きな値となるので好ましい。金属イオンとしては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｍｎの２価の金属イオンが挙げられるが、特に、Ｎｉ、Ｃｏを含有する場合が、耐光性、耐高温高湿環境性に優れており、好ましい。

《ヒドラジド系色素》
ヒドラジド系色素としては、より具体的には下記式［VIII］を有する化合物が好ましい。

（式［VIII］中、Ａは、連結基Ｙと結合し、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い芳香族置換基、または、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い非芳香族置換基を示し、Ｂは、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い芳香族置換基、または、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い非芳香族置換基を示す。ＡとＢは、どちらかがカチオンを有していても良く、または、両方がカチオンを有しても良い。Ｘは、カチオンＡ、かつ／または、カチオンＢとで中性になる任意のアニオンを示す。連結基Ｙは、任意である。ｍは、０または１である。Ｒ_２３、Ｒ_２４、Ｒ_２５はそれぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していても良い芳香族置換基、または、置換基を有していても良い非芳香族置換基を示す。ｎは、０または１である。また、Ｘは、Ａ内、または、Ｂ内で分子内塩を形成するか、あるいは、Ａ，または、Ｂに結合した任意の置換基を介して、分子内塩を形成しても良い。Ｙは、Ａと直接縮合環を形成しても良い。）

式［VIII］で表される化合物としては、通常、分子量１５００以下、好ましくは、１０００以下、より好ましくは７５０以下であるである。式［VIII］において、Ａが「ＡのＹへの結合点が、ヘテロ原子の場合」と「ＡのＹへの結合点が、炭素原子の場合」とに分ける。

・ＡのＹへの結合点が、ヘテロ原子の場合
Ａの具体例として、置換基を有していても良い複素環基（例えば、ピリジン環、キノリン環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、ピラゾール環、インダゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾイソオキサゾール環、イソチアゾール環、ベンゾイソチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、カルバゾール環、パーイミジン環、アクリジン環、などの窒素含有の単環、縮合環の芳香族へテロ環や、トリピラゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、インドリン環、イソインドリン環、キナクリジン環、モルホリン環などの窒素含有の単環、縮合環の非芳香族へテロ環や、アルキルアミンなどの窒素含有の非環式非芳香族アミン）などが挙げられる。

特に、窒素含有の単環、縮合環の芳香族へテロ環では、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましい。また、窒素含有の単環、縮合環の非芳香族へテロ環やアルキルアミンは、反応性が高いことから好ましい。
また、置換基を有していても良いアミノ基があげられる。

Ｙの具体例として、置換基を有しても良い芳香族置換基（例えば、フェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基）などがあげられる。
また、置換基を有していても良い非芳香族置換基（例えば、メチレン基、ジメチルメチレン基、シアノメチレン基）など、置換基を有してもよいメチレン基、あるいは、アルカン（Ｃ＝Ｃ）やアルキン（Ｃ≡Ｃ）からなる連結基が挙げられる。

（ケース１）ＡとＹの結合点でカチオンになる場合と、（ケース２）ＡとＹの結合点では、中性で、Ａがカチオンになる場合がある。（ケース２）の場合、上記Ａの具体例で述べた具体例のヘテロ原子に１４族原子が結合し、カチオンになる。この１４族原子は、具体的に、芳香環基あるいは非芳香環基あるいは、置換基を有するケイ素原子でもよいが、好ましくは、溶解性の面で、非芳香環基であり、より好ましくは、置換基を有していても良いアルキル基であり、感度向上の面から、特に好ましくは、炭素数が、１〜５のアルキル基である。

・ＡのＹへの結合点が、炭素原子の場合
Ａの具体例としては、上述した「ＡのＹへの結合点が、ヘテロ原子の場合」で挙げたものが当てはまる。Ｙの具体例としては、上述した「ＡのＹへの結合点が、ヘテロ原子の場合」で挙げたものが当てはまる。ヘテロ原子を有する連結基、（例えば、−ＮＨ−、Ｃ＝Ｏ、−Ｏ−、−Ｓ−）などがあげられる。ＡとＸが、リンカーを介して、あるいは、直接、分子内塩を形成してもよいが、より好ましくは、Ｘが、分子間で塩を形成している方が、好ましい。

このとき、該芳香環基、複素環基、非芳香環基の置換基としては、錯体の性能に悪影響を与えない基であれば、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、イミド基、及び、シリル基などからなる群より選択された基が挙げられる。

これらの置換基として具体的には、メチル基、エチル基などの炭素数１〜６のアルキル基、エチニル基、プロペニル基などの炭素数１〜６のアルケニル基、アセチレニル基などの炭素数１〜６のアルキニル基、フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜２０のアリール基、チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数３〜２０の複素環基、エトキシ、プロポキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜２０のアリールオキシ基、ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などの炭素数３〜２０の複素環オキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数１〜６のアルキルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数６〜２０のアリールチオ基、ピリジルチオ基、チエニルチオ基などの炭素数３〜２０の複素環チオ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数１〜２０の置換基を有してもよいアミノ基、アセチル基、ピバロイル基などの炭素数２〜２０のアシル基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数２〜２０のアシルアミノ基、３−メチルウレイド基などの炭素数２〜２０のウレイド基、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数１〜２０のスルホンアミド基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数１〜２０のあるバモイル基、エチルスルファモイル基などの炭素数１〜２０のスルファモイル基、ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数１〜２０のスルファモイルアミノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数６〜２０のアリールオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数６〜２０の複素環オキシカルボニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、チエニルスルホニル基などの炭素数３〜２０の複素環スルホニル基、フタルイミドなどの炭素数４〜２０のイミド基、又は、アルキル基及びアリール基の群から選ばれる置換基で３置換されているシリル基があげられる。

Ｘは、一般に、カチオンを中和するアニオン種であればよいが、例えば、ハロゲン原子、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ⁻、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻、ＣＦ_３ＣＯ_２ ⁻、ＣＨ_３ＣＯ_２ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｈ_５）_４ ⁻などが挙げられる。特に、ＰＦ_６ ⁻とＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻が安定性の面で好ましい。
ｍは、０または１を表す。ｍは１であることが錯体化合物の耐性向上の面で好ましい。
ｎは０もしくは１を表す。ｎは０であることが錯体化合物の耐性向上の面で好ましい。

《キレート錯体化合物》
色素としては、ヒドラジド化合物の錯体であってもよい。例えば、下記式［IX］で表される化合物が挙げられる。

（式［IX］中、Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙ、Ｒ_２６、Ｒ_２７、Ｒ_２８、ｍ、および、ｎは、いずれも式［VIII］と同義であり、Ｍは、遷移金属原子を表し、ａとｂは、分子全体を中性にする整数の組み合わせを示す。さらに、上記分子は、さらに、カウンターイオンを有しても良い。）

式［IX］において、Ｍは２〜１２族元素を表す。その具体例としては、ヒドラジド化合物と錯体を形成し得るものであれば何でもよく、具体例としてはＴｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｅｒ等が挙げられる。

該２〜１２族元素カチオンを構成する元素は、周期表第４周期元素であることが好ましく、耐光性向上の面からＣｏ、Ｎｉ、Ｃｕが好ましく、溶解性をあわせて、特に、Ｃｏであることが特に好ましい。ａは１〜３の整数である。

なお、錯体の中心該２〜１２族元素カチオンはヒドラジド化合物の他に、溶媒や他のキレート配位子と追加的に配位しても良い。

溶媒としては、アルコール性溶媒、ケトン系溶媒あるいはアミノ系溶媒など金属のアキシアル位あるいは別の位置から配位可能なものが挙げられる。

他のキレートとしては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジンあるいはピラジンなどの配位性原子を有する配位子が挙げられる。

また、ヒドラジドキレート錯体化合物は、該化合物が分子全体として電気的に中性となるように、カウンターイオンを適宜有していても良い。この場合、有していても良いカウンターアニオンとしては、具体的には、ＢＦ_４ ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ハロゲンイオン、水酸化物イオン、酢酸イオンなどが挙げられ、カウンターカチオンとしては、周期表第１族カチオンなど、特に１価のカチオンが挙げられる。

本発明に記載の錯体化合物の分子量は、該２〜１２族元素カチオンとヒドラジドを合計して通常２，０００以下、中でも１，５００以下であることが好ましい。カウンターイオンは、これに含めない。ヒドラジドキレート錯体化合物は、記録媒体の保存安定性を向上させる理由から、通常水不溶性であることが好ましい。ここで「水不溶性」とは、２５℃、１気圧の条件下における水に対する溶解度が、通常０．１重量％以下、好ましくは０．０１重量％以下であることを言う。

記録層２２の形成方法としては、塗布法、真空蒸着法等で形成することができるが、特に、塗布法で形成することが好ましい。即ち、上記色素を主成分に結合剤、クエンチャー等とともに適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調整し、前述の反射層２３上に塗布する。

溶解液中の主成分色素の濃度は、通常０．０１重量％以上、好ましくは０．１重量％以上、さらに好ましくは０．２重量％以上、また、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、さらに好ましくは２重量％以下である。これにより、通常、１ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みに記録層２２が形成される。その厚みを５０ｎｍ未満とするために、上記色素濃度を１重量％未満とするのが好ましく、０．８重量％未満とするのがより好ましい。また、塗布の回転数をさらに調整することも好ましい。

主成分色素材料等を溶解する溶剤としては、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）、オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）等のフッ素化炭化水素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；ジクロルメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン等を挙げることができる。これらの溶剤を溶解すべき主成分色素材料等の溶解性を考慮して適宜選択し、また、２種以上を混合して用いることができる。

結合剤としては、セルロース誘導体、天然高分子物質、炭化水素系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニールアルコール、エポキシ樹脂等の有機高分子等を使うことができる。さらに、記録層２２には、耐光性を向上させるために、種々の色素又は色素以外の褪色防止剤を含有させることができる。

褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、前記記録層２２の材料に対して、通常０．１重量％以上、好ましくは１重量％以上、さらに好ましくは５重量％以上、また、好ましくは５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下、さらに好ましくは２５重量％以下である。

また、本発明において、耐光性が低い色素については、耐光性が良好な他の色素や、例えば、従来ＣＤ−Ｒ等に使用されている有機色素化合物等を混合することにより、耐光性を光記録媒体２０の実用レベルに向上させることが可能である。カップラー成分との組み合わせや金属の種類により変動するが、およその傾向として耐光性はジアゾ成分に由来する割合が高く、波長的に短いジアゾ成分であるイソキサゾール、トリアゾールが低めの傾向が見られ、波長的に長いチアゾールやベンゾチアゾール、ピラゾールの方が耐光性のよい結果が得られている。一方で、耐光性が良好な色素は光感応性が低いため記録感度が低下する傾向がある。

本発明においては、後述する第２実施形態に用いる色素材料は、より記録感度を高くする必要がある。そのため、イソキサゾールをジアゾ成分として含む耐光性が低く光感応性が高い（記録感度がよい）含金アゾ色素ＡＡとピラゾールをジアゾ成分として含む耐光性が高く記録感度の悪い含金アゾ色素ＢＢを混合する際に、ＡＡの色素の比率をＢＢの色素に対して多くすることで、感度が良く、かつ耐光性に優れた色素を含有する記録層２２を形成することが好ましい。

このように、本願発明においては、特性の異なる２種類以上の色素を混合することにより記録特性を補うことが可能である。

（界面層３０）
本実施の形態においては、特に、記録層２２とカバー層２４との間に適当な界面層３０を設けることで、高速記録時のパワーマージンを改善し、パーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減することができる。

本発明の界面層３０は、酸化スズを２０重量％以上含有するものである。酸化スズは、ＳｎＯ、ＳｎＯ_２、ＳｎＯ_３のいずれでもよいが、比較的高い導電性を有するＳｎＯ_２が好ましい。酸化スズは上述のうち１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。酸化スズの含有量は４０重量％以上が好ましく、更に好ましくは６０重量％以上、特に好ましくは８０重量％以上である。また、酸化スズ９０重量％以下が好ましい。この範囲にあると、良好なパワーマージンが得やすく、パーティクルが発生しにくいため好ましい。これは、上記範囲の酸化スズを含有することで、界面層３０が記録による変形に対して適度な硬度を有するためと推定している。

従来用いられているＩＴＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２）においては、Ｉｎ_２Ｏ_３とＳｎＯ_２との重量比が、Ｉｎ_２Ｏ_３：９０重量％、ＳｎＯ_２：１０重量％であり、本願発明の範囲からは外れている。

本願発明の界面層３０は、酸化スズが上記規定の含有率で含有されていれば、他の化合物との混合物であっても構わない。他の化合物としては、金属、半導体等の酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）等のフッ化物等の誘電体化合物やその混合物が好ましい。これら他の化合物を混合する場合、その種類は一種だけに限定されず、２種以上の混合物を任意の組み合わせ及び割合で混合することができる。中でも、他の化合物としてＺｎＯ及び／又はＳｉＯ_２を少なくとも含有することが特に好ましい。界面層３０に含有されるＺｎＯ及び／又はＳｉＯ_２の合計の含有量は、５重量％以上が好ましく、更に好ましくは１０重量％以上である。また、２０重量％以下が好ましい。この範囲にあると、適度な硬度となり記録感度が良好となるため好ましい。

上記材料を界面層３０に用いることで、高速記録時のパワーマージンを改善できる理由については、詳細は不明であるが以下のように推定している。

先行するマークの記録によって発生する熱や変形が、その次のマークの記録生成に影響を与え、その始まりの位置ずれが発生することが記録マークの始まりのジッタ（リーディングジッタ）悪化の大きな原因の１つであり、一般に記録速度が速くなるほどその影響度合いが大きくなるとされている。本発明ではリーディングジッタの改善が顕著であることから、この影響度合いが抑制されるためと推定している。

界面層３０の膜厚は１ｎｍ以上が好ましく、更に好ましくは５ｎｍ以上、特に好ましくは１０ｎｍ以上である。また、５０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは３０ｎｍ以下、特に好ましくは２０ｎｍ以下である。

界面層３０はスパッタリング法、イオンプレーティング法や、電子ビーム蒸着法など従来公知の方法で形成することができる。この中では、生産性等の観点より、スパッタリング法で形成することが好ましい。

スパッタリング法で形成する場合、チャンバー内で発生したパーティクルが光記録媒体２０上に付着することにより、記録再生時のエラーを増加させる懸念がある。このパーティクルの発生原因は、主にＩＴＯに含有されるインジウムであると思量される。

従来のＩＴＯにおいては、例えばＩｎ_２Ｏ_３が９０重量％含まれるなど、パーティクルの発生が顕著な傾向にあった。しかし、本発明の光記録媒体に用いられる材料は、通常のＩＴＯに比べＩｎ_２Ｏ_３の含有量が少なく、パーティクルの発生を抑えることが可能となると思量される。

さらには、本発明の光記録媒体に用いられる材料は、通常のＩＴＯに比べＩｎ_２Ｏ_３の含有量が少ないため、高価なＩｎを用いる量が減り、コストの削減を図ることができる。

（カバー層２４）
カバー層２４は、記録再生光ビーム２７に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板（以下、シートとよぶことがある）を接着剤で貼り合せるか、カバー層２４を形成する成分を含有する塗布液を塗布後、光、放射線、または熱等で硬化して形成する。

カバー層２４は、記録再生光ビーム２７の波長λに対して透過率７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。

シートの材料として用いられるプラスチックは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル、三酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等である。接着には、光、放射線硬化、熱硬化樹脂や、感圧性の接着剤が用いられる。感圧性接着剤としては、また、アクリル系、メタクリレート系、ゴム系、シリコン系、ウレタン系の各ポリマーからなる粘着剤を使用できる。これらの材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。

例えば、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を記録層２２または界面層３０上に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜上にポリカーボネートシートを重ね合わせる。その後、必要に応じて重ね合わせた状態で、媒体を回転させるなどして塗布液をさらに延伸展開した後、ＵＶランプで紫外線を照射して硬化させる。あるいは、感圧性接着剤をあらかじめシートに塗布しておき、シートを記録層２２あるいは界面層３０上に重ね合わせた後、適度な圧力で押さえつけて圧着する。

前記粘着剤としては、透明性、耐久性の観点から、アクリル系、メタクリレート系のポリマー粘着剤が好ましい。より具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−オクチルアクリレートなどを主成分モノマーとし、これらの主成分モノマーを、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の極性モノマーを共重合させる。主成分モノマーの分子量調整、その短鎖成分の混合、アクリル酸による架橋点密度の調整により、ガラス転移温度Ｔｇ、タック性能（低い圧力で接触させたときに直ちに形成される接着力）、剥離強度、せん断保持力等の物性を制御することができる。アクリル系ポリマーの溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン等が用いられる。上記粘着剤は、さらに、ポリイソシアネート系架橋剤を含有することが好ましい。粘着剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。

また、粘着剤は、前述のような材料を用いるが、カバー層２４用のシートの記録層２２側に接する表面に所定量を均一に塗布し、溶剤を乾燥させた後、記録層２２側表面（界面層３０を有する場合はその表面）に貼り合わせローラー等により圧力をかけて硬化させる。該粘着剤を塗布されたカバー層２４用のシートを、記録層２２を形成した記録媒体表面に接着する際には、空気を巻き込んで泡を形成しないように、真空中で貼り合せるのが好ましい。

また、離型フィルム上に上記粘着剤を塗布して溶剤を乾燥した後、カバー層２４用のシートを貼り合わせ、さらに離型フィルムを剥離してカバー層２４用のシートと粘着剤層とを一体化した後、記録媒体と貼りあわせても良い。

塗布法によってカバー層２４を形成する場合には、スピンコート法、ディップ法等が用いられるが、特に、ディスク状媒体に対してはスピンコート法を用いることが多い。塗布によるカバー層２４用の材料としては、同様に、ウレタン、エポキシ、アクリル系の樹脂等を用い、塗布後、紫外線、電子線、放射線を照射し、ラジカル重合もしくは、カチオン重合を促進して硬化する。

カバー層２４は、さらにその入射光側表面に耐擦傷性、耐指紋付着性といった機能を付与するために、表面に厚さ０．１μｍ〜５０μｍ程度の層を別途設けることもある。カバー層２４の厚みは、記録再生光ビーム２７の波長λや対物レンズ２８のＮＡ（開口数）にもよるが、０．０１ｍｍ以上が好ましく、０．０５ｍｍ以上がさらに好ましく、また０．３ｍｍ以下が好ましく、０．１５ｍｍ以下がより好ましい。接着層やハードコート層等の厚みを含む全体の厚みが、光学的に許容される厚み範囲となるようにするのが好ましい。たとえば、ブルーレイディスクでは、１００μｍ±３μｍ程度以下に制御するのが好ましい。

（その他の構成）
本実施の形態においては、前述の記録層２２とカバー層２４との間の界面層３０の他に、基板２１、反射層２３、記録層２２、のそれぞれの界面に、相互の層の接触・拡散防止や、位相差及び反射率の調整のために界面機能層を挿入することができる。界面機能層は、本発明の効果を著しく制限しない限り、界面層３０と同様の層としてもよいし、他の材料、構成を有する層であってもよい。

［２．第２実施形態］
図２は、本発明の光記記録媒体の第２実施形態の構成を説明する図である。第２実施形態は、第１実施形態に比べて反射層の膜厚を薄くし、記録再生光の略５０％以上が透過する半透明反射層を設けることで、１枚の光記録媒体に複数の記録層を備えさせることを可能とした多層記録媒体である。即ち、基板上に、複数の記録層及び反射層（以下、併せて情報層と呼ぶ）を設けた記録媒体である。

第２実施形態の光記録媒体１００は、少なくとも、案内溝を形成した基板１０１上に、反射層１０３と、記録層１０２と、前記記録層１０２に接する図示されない界面層と、信号の混信を防止するための中間層１１４と、記録再生光の略５０％以上が透過する半透明反射層１１３と、記録層１１２と、前記記録層１１２に接する図示されない界面層と、カバー層１１１とが順次積層された構造を有している。すなわち、２層の情報層を有している。第２実施形態の光記録媒体１００も、膜面入射構成をとっている。

（基板１０１）
基板１０１は、上述の基板２１と同様の構成とすることができ、その材料、製法、形状、厚みなども同様とすることができる。

（情報層）
２層の情報層のうち、記録再生光ビーム１０７が入射する側の情報層をＬ１層、奥側にある情報層をＬ０層と呼ぶ。

Ｌ１層は、透過率５０％以上であることが好ましい。そのため、Ｌ１層の半透明反射層１１３が、例えば、Ａｇ合金であれば、Ａｇ合金の膜厚を好ましくは１ｎｍ以上、さらに好ましくは５ｎｍ以上、また、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下とすることが好ましい。その他、半透明反射層１１３の材質や形成方法などは、上記の反射層２３と同様とすることができる。さらに記録層１１２の構成、材質、製法、形状等も上記の記録層２２と同様とすることができる。

Ｌ０層については、透過率など制限がないため、反射層１０３や記録層１０２の構成、材質、製法、形状等は、第１実施形態の反射層２３および記録層２２と同様とすることができる。

Ｌ０層、Ｌ１層それぞれに、異なる層構成を用いてもよいし、同一の層構成を用いてもよい。それぞれの情報層に用いる色素を主成分とする記録層１０２，１１２の組成や材料が異なっていても良いし、同じでもよい。

本実施の形態においては、特に、主として位相変化を利用しているので、記録前後でＬ１層を透過する光量がほとんど変化しないことが期待される。これは、Ｌ１層が記録・未記録であるにかかわらず、Ｌ０層への透過光量、Ｌ０層からの反射光量がほとんど変化しないことを意味し、Ｌ１層の状態に関わらず、安定的にＬ０層の記録再生ができるので好ましいことである。

（中間層１１４）
Ｌ０層とＬ１層との間には、それぞれの信号の混信を防止するために、透明な中間層１１４が設けられる。

中間層１１４の材料としては、放射線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂がある。これら材料の中で、工業的に好ましいのは、放射線硬化性樹脂である。放射線硬化性樹脂としては、電子線や紫外線の照射で硬化する材料を挙げることができるが、工業生産性を考慮すると、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、公知のラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂とが挙げられ、いずれも使用することができる。

中間層１１４の形成方法としては、２層ＤＶＤ−Ｒ等で公知である、フォトポリメリゼーション法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：以下、「２Ｐ法」と記すことがある。）と呼ばれる製造方法により製造されるのが好ましい。
２Ｐ法の場合は、中間層は、通常、以下のようにして製造される。すなわち、まず、Ｌ０層上に、紫外線硬化性樹脂原料等を塗布して樹脂原料層を形成した後、この上に転写用の凹凸形状（以下適宜、「転写用凹凸形状」という）を有するスタンパを載置する。次いで、上記紫外線硬化性樹脂原料等を硬化させた後に、スタンパを剥離する。このようにして、紫外線硬化性樹脂の表面にスタンパの転写用凹凸形状を転写させて、凹凸形状を有する中間層を形成することができるようになっている。

中間層１１４の厚みとしては、例えば記録再生光ビーム１０７の波長λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）＝０．８５の光学系において、約２５μｍとされる。中間層１１４の厚み分布は、同様に±２μｍ程度以下とするのが好ましい。

（カバー層１１１）
カバー層１１１は、上述のカバー層２４と同様の構成とすることができ、その材料、製法、形状なども同様とすることができる。その厚みは、中間層１１４が上述の条件下で約２５μｍとされる場合、カバー層１１１の厚みは約７５μｍ程度とされる。

（界面層）
第２実施形態においては、記録層１１２とカバー層１１１との間に界面層を設ける。また、記録層１０２と中間層１１４との間に界面層を設けてもよい。２カ所以上に界面層を設ける場合は、各界面層の成分や厚みなどは同一であってもよく、異なっていてもよい。各界面層の構成、材料、製法、形状等は、上述の界面層３０と同様とすることができる。

（その他の構成）
本実施の形態においては、前述の界面層の他に、基板１０１、反射層１０３、記録層１０２、中間層１１４、半透明反射層１１３、記録層１１２、カバー層１１１のそれぞれの界面に、相互の層の接触・拡散防止や、位相差及び反射率の調整のために界面機能層を挿入することができる。界面機能層は、本発明の効果を著しく制限しない限り、界面層と同様の層としてもよいし、他の材料、構成を有する層であってもよい。

［３．本発明に用いる光記録装置について］
本発明に用いる記録装置の基本構造は、従来の光記録装置と同じものを用いることができる。例えば、そのフォーカスサーボ方式や、トラッキングサーボ方式は、従来公知の方式を適用できる。集束ビームの焦点位置のスポットが、カバー層溝間部２５に照射され、トラッキングサーボによって、該カバー層溝間部２５を追従するようになっていればよい。通常は、プッシュプル信号が利用されている。

カバー層溝間部２５に記録を行う場合、集束された記録再生光ビーム２７，１０７は、記録層２２，１０２，１１２の主成分色素を昇温・発熱せしめて、変質（膨張、分解、昇華、溶融等）を起こさせる。マーク長変調記録を行う場合、記録再生光ビーム２７，１０７のパワー（記録パワー）をマーク長に従って、強弱変調させる。なお、マーク長変調方式は、特に制限は無く、通常用いられるＲｕｎ−Ｌｅｎｇｔｈ−Ｌｉｍｉｔｅｄ符号である、ＥＦＭ変調（ＣＤ）、ＥＦＭ＋変調（ＤＶＤ）、１−７ＰＰ変調（ブルーレイディスク）等を適用できる。

ただし、ＨｔｏＬ極性信号を前提とした記録再生系においては、ＬｔｏＨ記録に当たって、マークとスペースでの記録信号極性が逆になるように記録データ信号の極性を予め反転させておくことがある。こうすれば、記録後の信号は、見かけ上、ＨｔｏＬ極性の信号と同等にできる。

通常は、マーク部で記録パワーを高レベルＰｗとし、マーク間（スペース）で低レベルＰｓとする。Ｐｓ／Ｐｗは、通常０．５以下とする。Ｐｓは一回だけの照射では、記録層２２，１０２，１１２に上記変質を生じさせないようなパワーであり、Ｐｗに先行して記録層２２，１０２，１１２を予熱したりするために利用される。公知の記録パルスストラテジーは、本発明記録方法及び記録装置においても適宜使用される。例えば、記録マーク部に対応する記録パワーＰｗ照射時間はさらに、短い時間で断続的に照射されたり、複数のパワーレベルに変調したり、Ｐｗ照射後、Ｐｓに移行するまでの一定時間Ｐｓよりもさらに低いパワーレベルＰｂを照射する、等の記録ストラテジーが使用できる。

以下、実施例に基づき本実施の形態をさらに詳細に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されない。

（実施例１、２、３および比較例１）
トラックピッチ０．３２μｍで溝幅約０．１８μｍ、溝深さ約４０ｎｍの案内溝を形成したポリカーボネート樹脂基板上に、Ａｇ_９８．１Ｎｄ_１．０Ｃｕ_０．９合金ターゲット（組成はいずれも原子％）をスパッタして厚さ約５０ｎｍの反射層を形成した。

その上に、下記構造式で表される配位子Ａと二価のＮｉとからなる含金アゾ色素ＡＷと、配位子Ｂと二価のＣｏとからなる含金アゾ色素ＢＷとを、重量％でＡＷ：ＢＷ＝６０：４０の割合で混合し、トリフルオロペンタノール（ＴＦＰ）で０．７重量％に希釈した混合溶液をスピンコートで成膜して記録層を形成した。

スピンコート法の条件は、以下のとおりである。すなわち、前記混合溶液をディスク中央付近に０．６ｇ環状に塗布し、ディスクを２５０ｒｐｍで３秒間回転させ混合溶液を延伸し、その後、６０００ｒｐｍで２秒間回転させ混合溶液を振り切ることによる塗布を行った。尚、塗布後にはディスクを４０℃の環境下に２０分間保持することで溶媒であるＴＦＰを蒸発除去した。

その後、色素記録層上にＳｎＯ_２ターゲット（実施例１）、ＳｎＯ_２−ＺｎＯ（８０：２０重量％）ターゲット（実施例２）、ＳｎＯ_２−ＳｉＯ_２（８０：２０重量％）ターゲット（実施例３）、またはＩＴＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２（９０：１０重量％））ターゲット（比較例１）をスパッタして約１６ｎｍの厚みの界面層を形成した。

その上に、厚さ７５μｍのポリカーボネート樹脂のシートと厚み２５μｍの感圧接着剤層からなる合計１００μｍの透明なカバー層を貼り合わせ、光記録媒体を作製した。
作製した光記録媒体の記録再生評価を下記の通り行った。

［記録再生評価］
光記録媒体の記録再生評価は、記録再生光波長λ＝４０６ｎｍ、ＮＡ（開口数）＝０．８５、集束ビームスポット径約０．４２μｍ（１／ｅ^２の強度となる領域）の光学系を有するパルステック社製ＯＤＵ１０００テスターを用いて行った。

光記録媒体は、線速度９．８３ｍ／ｓ（以下、２ｘと記載）もしくは、２９．５０ｍ／ｓ（以下、６ｘと記載）で回転させ、記録光のパワーを変化させて記録を行った。再生は線速度を４．９２ｍ／ｓとし、再生光のパワーは０．３０ｍＷとした。記録には、マーク変調信号（１−７ＰＰ）を用いた。基準クロック周期Ｔは１５．１５ｎｓ（チャンネルクロック周波数６６ＭＨｚ）とした。

（ジッタ）
ジッタ測定は、記録信号をリミット・イコライザーにより波形等化した後、２値化を行い、２値化した信号の立ち上がりエッジ及び立ち下がりエッジと、チャンネルクロック信号の立ち上がりエッジとの時間差の分布σをタイムインターバルアナライザにより測定し、基準クロック周期をＴとして、σ／Ｔ×１００（％）をジッタと定義した（データ・トゥー・クロック・ジッタ Ｄａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋ Ｊｉｔｔｅｒ）。ジッタの値が小さいほど、エラーの発生が少ない記録再生が可能となる。

（パワーマージン）
パワーマージンは、ジッタ値が最適、即ち最小となる記録パワーをＰｗｏ、ジッタの絶対値が１０％となる記録パワー値における、Ｐｗｏより高パワー側の記録パワーをＰｗｈ、低パワー側の記録パワーをＰｗｌとした場合に、（（Ｐｗｈ−Ｐｗｌ）／Ｐｗｏ）×１００（％）と定義して求めた。パワーマージンの値が大きいほど、記録再生時における記録パワーの変動に対するジッタのマージンが大きく、優れた光記録媒体であるといえる。実用に際しては、パワーマージンが３０％以上あることが好ましい。

［結果］
界面層にＳｎＯ_２を用いたものを実施例１、ＳｎＯ_２−ＺｎＯを用いたものを実施例２、ＳｎＯ_２−ＳｉＯ_２を用いたものを実施例３、ＩＴＯを用いたものを比較例１として、上記のようにして求めたパワーマージンの値を表１に示す。

２ｘ記録時では、実施例１〜３のパワーマージンは、比較例１と同程度となっているが、６ｘ記録時では、比較例１のパワーマージンが大きく低下するのに対し、実施例１〜３のパワーマージンは３０％以上の値を維持していることが判る。

即ち、本発明の界面層を用いることにより、特に高速記録におけるパワーマージンが改善されていることが明らかである。

また、比較例１においては、ＩＴＯのスパッタチャンバー内に、主にＩｎＯからなるパーティクルが発生していたが、実施例１〜３の場合においてパーティクルは発生しなかった。

Claims (3)

1. 少なくとも、
   案内溝が形成された基板と、
   前記基板上に光反射機能を有する反射層と、
   未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、
   前記記録層に接する界面層と、
   前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、
   前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、
   前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加する光記録媒体において、
   前記界面層に酸化スズが８０重量％以上含有されることを特徴とする光記録媒体。
2. 前記界面層にＺｎＯ及び／又はＳｉＯ_２が含有されることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
3. 前記界面層にＺｎＯ及び／又はＳｉＯ_２が合計で５重量％以上２０重量％以下含有されることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。

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