JP5221517B2 - アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法 - Google Patents

アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5221517B2
JP5221517B2 JP2009503952A JP2009503952A JP5221517B2 JP 5221517 B2 JP5221517 B2 JP 5221517B2 JP 2009503952 A JP2009503952 A JP 2009503952A JP 2009503952 A JP2009503952 A JP 2009503952A JP 5221517 B2 JP5221517 B2 JP 5221517B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
colloidal silica
aluminum
modified colloidal
less
aqueous solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009503952A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2008111383A1 (ja
Inventor
孝郎 柳澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuso Chemical Co Ltd
Original Assignee
Fuso Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuso Chemical Co Ltd filed Critical Fuso Chemical Co Ltd
Priority to JP2009503952A priority Critical patent/JP5221517B2/ja
Publication of JPWO2008111383A1 publication Critical patent/JPWO2008111383A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5221517B2 publication Critical patent/JP5221517B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/146After-treatment of sols
    • C01B33/148Concentration; Drying; Dehydration; Stabilisation; Purification

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Description

本発明は、シリコンウェハー研磨や半導体デバイスのCMPプロセス等に研磨砥粒として好適に用いられるアルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法に関する。詳細には、高いアルミ改質率を有するとともに高純度で酸性領域でも安定性の高いアルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法に関する。
近年、半導体技術の発展に伴い、シリコンウェハー研磨、半導体デバイスのCMPプロセス等に用いられるコロイダルシリカとして、シリコンウェハー等を汚染しないという点から、金属不純物の極めて少ない高純度コロイダルシリカが求められている。
しかし、金属不純物の少ない高純度コロイダルシリカは酸性領域でゲル化および凝集等が起こり不安定であり、酸性領域で使用するCMPプロセス等では扱うのが困難であった。
R.K.Ilerはザ・ケミストリー・オブ・シリカの著書の中でアルミン酸イオンとコロイダルシリカ表面のシラノール基との反応により生成したアルミノシリケイトサイトがコロイダルシリカに負の電荷を与える事を述べている。その負の電荷によって、酸性コロイダルシリカは安定化されている。
特許文献1に、コロイダルシリカにアルミン酸ナトリウム水溶液などの両性金属の水溶性金属酸塩を添加する、pH5〜12の安定なコロイダルシリカの製造方法が開示されている。しかしながら、特許文献1記載の方法ではpH5.0以下においてコロイダルシリカがゲル化、凝集するため、安定な酸性コロイダルシリカを得ることができなかった。
上記問題点を改善した方法として、特許文献2には酸性コロイダルシリカにアンモニアまたはアミン類を添加した後、アルミン酸ナトリウム水溶液を添加して処理を行うか、あるいはこれらを同時に添加して処理する方法が開示されている。
しかしながら、特許文献2記載の方法は、酸性コロイダルシリカを原料としており、酸性コロイダルシリカの製造方法は陽イオン交換処理によってアルカリ性コロイダルシリカを脱アルカリすることで得られるが、単純に脱アルカリを行っただけでは、コロイド粒子内部に抱きこまれているアルカリまでは除去することができない。
上記以外の方法として、特許文献3には(i)酸性珪酸液とアルミニウム化合物水溶液を、同時にまたは交互に、SiO含有アルカリ水溶液またはアルカリ金属水酸化物水溶液に添加する方法、(ii)アルミニウム化合物が混在する酸性珪酸液を、SiO含有アルカリ水溶液またはアルカリ金属水酸化物水溶液に添加する方法で調製し、(i)または(ii)で得られたアルミニウム化合物含有アルカリ性シリカゾルを陽イオン交換樹脂で処理して脱アルカリすることからなる、アルミ改質された安定な酸性シリカゾルの製造方法が開示されている。
特許文献3記載の方法により得られたシリカゾルは、酸性条件下における安定性が向上したものであるが、原料として水ガラス由来のコロイダルシリカを用いているため、金属不純物の含有量が多く、例えば半導体ウエハーの研磨剤や半導体用CMP研磨剤のように、高純度コロイダルシリカが求められる用途には適さない。
特許文献2の類似で出願されている特許文献4には、(a)コロイダルシリカの粒子径が4〜30nmであり、且つpH2〜9であるコロイダルシリカに、Al/SiOモル比が0.0006〜0.004になるように、アルミン酸塩水溶液を添加し、(b)得られたコロイダルシリカを80〜250℃で0.5〜20時間加熱を行い、(c)得られたコロイダルシリカをイオン交換樹脂に接触させることにより、pH2〜5であるアルミ改質された酸性コロイダルシリカを製造する方法が開示されている。また、特許文献4に記載される製造方法により得られる酸性シリカゾルには、例えばNaOが290ppm含まれることが記載されている。このように金属含量が高いシリカゾルは、アルミ改質率が低下するだけでなく、半導体ウエハー等に使用すると腐食の原因となるため好ましくない。即ち、特許文献4に記載のシリカゾルは金属含有量が高いために、その用途が限定されるという問題を有していた。
また、その実施例には、水ガラス由来のコロイダルシリカを原料とした場合の製造方法について記載されている。水ガラス由来のコロイダルシリカを原料とした場合、アルミン酸塩水溶液の添加前にナトリウムイオンを除去し、その後コロイダルシリカのpHを中性領域に調整する必要があり、工程が煩雑になる。その上、水ガラス由来のコロイダルシリカでは、中性領域で不安定である為、pH調整後に直ちに処理する必要があった。また、オートクレーブ装置などを用いて高圧、高温下で処理を行う必要があり、このような処理を行わなければ充分にコロイダルシリカ表面がアルミン酸イオンと反応しないという問題を有していた。
米国特許第2892797号 特公昭49−7800号公報 特開昭63−123807号公報 特開平06−199515号公報
本発明の課題は、金属不純物の少ない高純度であるとともに、酸性領域でも安定なアルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法を提供することである。本発明の他の課題は、前記アルミ改質コロイダルシリカを、100℃以下の低温で製造できる簡便な製造方法を提供することにある。
本発明者らは、コロイダルシリカに、アルミン酸塩水溶液を添加する工程を含むコロイダルシリカの製造方法において、原料として、アルコキシド法により得られるコロイダルシリカであって、pHが6〜10であるコロイダルシリカを使用して、アルミン酸塩水溶液を添加したコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程を含むことにより、金属不純物の少ない高純度の酸性領域でも安定なアルミ改質コロイダルシリカが製造できることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明に係る実施形態は、以下の工程(1)〜(3)を含むことを特徴とするアルカリ金属含有量がそれぞれ50ppm以下であるアルミ改質コロイダルシリカの製造方法に関する。
(1)アルコキシド法により得られるコロイダルシリカであって、pHが6〜10であるコロイダルシリカに、Al/SiOのモル比が0.00005〜0.01の範囲になるように、アルミン酸塩水溶液を添加する工程
(2)工程(1)で得られたコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程
(3)工程(2)で得られたコロイダルシリカ中のアルカリイオンを必要に応じて除去し、アルミ改質コロイダルシリカを得る工程
本発明に係るその他の実施形態は、前記アルミン酸塩水溶液が、アルミニウム化合物をアルカリ水溶液に溶解させて得られたアルミン酸塩水溶液であることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカの製造方法に関する。
本発明に係るその他の実施形態は、前記アルミ改質コロイダルシリカ中アルカリ土類金属及び重金属を含有し、前記アルカリ土類金属がカルシウム及び/又はマグネシウムであって、前記重金属が鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン及びコバルトからなる群より選ばれる1種以上であって、前記アルカリ土類金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であり、前記重金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカの製造方法に関する。
本発明に係るその他の実施形態は、前記工程(3)でアルカリイオンを除去することにより前記アルミ改質コロイダルシリカを酸性とすることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカの製造方法に関する。
本発明に係るその他の実施形態は、アルカリ金属含有量が50ppm以下であるアルミ改質コロイダルシリカであって、pH3〜11におけるゼータ電位が−20mV以下であることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカに関する
発明に係るその他の実施形態は、前記アルミ改質コロイダルシリカ中にアルカリ土類金属及び重金属を含有し、前記アルカリ土類金属がカルシウム及び/又はマグネシウムであって、前記重金属が鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン及びコバルトからなる群より選ばれる1種以上であって、前記アルカリ土類金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であり、前記重金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカに関する。
本発明に係るその他の実施形態は、前記アルミ改質コロイダルシリカが酸性であることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカに関する。
本発明に係るその他の実施形態は、以下の工程(1)〜(3)を含む製造方法により得られることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカに関する。
(1)アルコキシド法により得られるコロイダルシリカであって、pHが6〜10であるコロイダルシリカに、Al/SiOのモル比が0.00005〜0.01の範囲になるように、アルミン酸塩水溶液を添加する工程
(2)上記工程(1)で得られたコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程
(3)上記工程(2)で得られたコロイダルシリカ中のアルカリイオンを必要に応じて除去し、アルミ改質コロイダルシリカを得る工程
本発明の製造方法により得られるアルミ改質コロイダルシリカは、高純度シリカゾルであり、詳細にはアルカリ金属含有量が50ppm以下である。このようなアルミ改質コロイダルシリカは、酸性領域で安定であり、且つ高純度であるから、半導体ウエハーの研磨剤やCMP研磨剤などに好適に用いられる。
本発明の製造方法により得られるアルミ改質コロイダルシリカは、アルミン酸イオンによる改質率が40%以上であるため、過剰のアルミン酸塩水溶液を用いる事なく処理することが可能であり、それによりアルカリイオンの除去工程も容易であり、且つ高純度のアルミ改質コロイダルシリカを得ることが出来る。
本発明の製造方法により得られるアルミ改質コロイダルシリカは、アルミン酸塩水溶液を添加して得られたコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程を含み、コロイダルシリカ表面に負の電荷を与えるアルミノシリケートサイトが形成されているため、酸性領域における安定性に優れる。
さらに、本発明の製造方法において、原料としてアルコキシド法により得られるコロイダルシリカを使用するから、コロイダルシリカに添加されるアルミン酸塩水溶液のアルミン酸イオンとコロイダルシリカ表面のシラノール基との反応を阻害するアルカリ成分を含まない。従って、アルコキシド法により得られるコロイダルシリカの安定領域であるpH7以上で、且つ100℃以下の低温で、短時間でアルミ改質コロイダルシリカを製造することができる。
本発明の製造方法において、アルミン酸塩水溶液として、アルミニウム化合物を含む水溶液が使用され、該水溶液として第4級アンモニウム水溶液、または有機アミンなどの金属不純物やアルカリ金属をほぼ含まないアルカリ水溶液に溶解させて得られたアルミン酸塩水溶液を用いた時、金属不純物やアルカリ金属をほぼ含まない高純度のアルミ改質コロイダルシリカを得ることができる。この方法により得られた高純度コロイダルシリカは、例えばシリコンウェハー研磨や半導体デバイスのCMPプロセス等の研磨砥粒等の用途に特に適したコロイダルシリカとなる。
本発明のアルミ改質コロイダルシリカの製造方法とは、以下の工程(1)〜(3)を含むことを特徴とするアルカリ金属含有量がそれぞれ50ppm以下であるアルミ改質コロイダルシリカの製造方法である。
(1)アルコキシド法により得られるコロイダルシリカであって、pHが6〜10であるコロイダルシリカに、Al/SiOのモル比が0.00005〜0.01の範囲になるように、アルミン酸塩水溶液を添加する工程
(2)工程(1)で得られたコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程
(3)工程(2)で得られたコロイダルシリカ中のアルカリイオンを必要に応じて除去し、アルミ改質コロイダルシリカを得る工程
まず、工程(1)について説明する。
本発明のアルミ改質コロイダルシリカの製造方法において、原料として使用されるコロイダルシリカは、アルコキシド法により得られる。この理由は、次の通りである。アルコキシド法により得られるコロイダルシリカ(以下、単に原料コロイダルシリカという場合がある。)は、金属不純物が少なく高純度であるため、シラノール基とアルミン酸イオンの反応を阻害するアルカリ成分がない。さらに、アルミ改質コロイダルシリカの製造時において、水ガラス由来のコロイダルシリカを原料とした場合に生じる陽イオン交換処理、及びpH調整などの煩雑な工程が不要であるばかりでなく、比較的低温、短時間の反応でコロイダルシリカを得ることができる。また、アルコキシド法により得られるコロイダルシリカは、そのpHが6〜10、好ましくはpH7〜9で安定する。即ち、安定な領域にするためにpH調整することなく処理が可能である。例えば、水ガラス由来のコロイダルシリカを用いると、このコロイダルシリカは中性領域で不安定であるため、pH調整後、直ちに使用する必要がある。
前記アルコキシド法に用いられる原料は、テトラメチルシリケート、テトラエチルシリケート、テトラプロピルシリケートなどのようなアルコキシシランを用いることが好ましく、テトラメチルシリケートを用いることが特に好ましい。
この理由は、テトラメチルシリケートを原料として得られるコロイダルシリカは、他のアルコキシシランよりも反応性が高く、比較的低温でも短時間で反応出来るために生産効率に優れる。
尚、本発明でいうアルコキシド法とは、アルコキシシランを水と反応させて加水分解して縮合反応することによりコロイダルシリカを得る方法である。
原料コロイダルシリカのシリカ濃度は特に限定されないが、好ましくは10〜40重量%である。シリカ濃度が10重量%未満であると使用用途が限定されることがある。また40重量%を超えると、表面改質後にコロイダルシリカを濃縮する段階において生産効率が悪くなる。さらに、原料であるコロイダルシリカの粘性が上昇することで攪拌効率が悪くなり、製造工程中で、アルミン酸塩水溶液を添加した際に部分的に凝集する可能性がある。
原料コロイダルシリカの金属含有量は特に限定されないが、アルカリ金属含有量が好ましくはそれぞれ1ppm以下、より好ましくはそれぞれ0.5ppm以下である。前記アルカリ金属とは、ナトリウム又はカリウムである。
さらに好ましくは、原料コロイダルシリカに含まれる前記アルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属の含有量が好ましくはそれぞれ1ppm以下、より好ましくはそれぞれ0.5ppm以下である。
前記アルカリ土類金属とは、カルシウム又はマグネシウムである。前記重金属とは、鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン又はコバルトである。
前記金属含有量を有する原料コロイダルシリカを使用すると、低温処理でのアルミ改質処理が容易となる。
工程(1)において、原料コロイダルシリカに、アルミン酸塩水溶液が添加される。前記アルミン酸塩水溶液としては、好ましくは、アルミニウム粉末又は水酸化アルミニウムなどのアルミニウム化合物をアルカリ水溶液に溶解させたものが挙げられる。
或いは、アルミン酸ナトリウムなどのアルカリ金属塩、アルミン酸第4級アンモニウム、アルミン酸グアニジン等の有機アミン塩の水溶液を使用してもよい。
これらのうち、アルミン酸第4級アンモニウムの水溶液、アルミン酸グアニジン等の有機アミン塩水溶液を使用することが好ましい。
本発明の製造方法において、アルミン酸塩水溶液を使用すると、それに含まれる金属不純物含有量が少ないため高純度コロイダルシリカを製造できる。
尚、前記アルミン酸塩水溶液として、工業薬品として市販されているアルミン酸ナトリウム水溶液を使用する事もできる。尚、このアルミン酸ナトリウム中のアルカリ成分は水酸化ナトリウムである。
前記アルミニウム化合物を溶解させるアルカリ水溶液としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液などの第4級アンモニウム水溶液、グアニジン、トリエチルアミンなどの有機アミンを含む水溶液が好ましく使用される。
前記アルミン酸塩水溶液の濃度は特に限定されないが、濃度が低すぎると得られるアルミ改質コロイダルシリカのシリカ濃度が低くなる可能性があるため、Al濃度で0.3〜10重量%の範囲で調製することが好ましい。
工程(1)において、アルミン酸塩水溶液が原料コロイダルシリカに添加される。
アルミン酸塩水溶液の添加量は、Al/SiOモル比が0.00005〜0.01の範囲であり、好ましくは0.0001〜0.005である。添加量が0.00005未満では、コロイダルシリカ表面のシラノール基とアルミン酸イオンの反応が不十分であり、酸性コロイダルシリカとした時の安定性が悪くなる。また、添加量が0.01を超えるとシラノール基との反応に必要な量以上のアルミン酸イオンを添加することになり、アルカリ成分を除去する為の陽イオン交換樹脂量が増えるだけでなく、コロイダルシリカ粒子が凝集し、二次粒子径が大きくなるなどの問題がある。
アルミン酸塩水溶液の添加条件は特に限定されないが、攪拌下、コロイダルシリカの液温20〜100℃において添加することが好ましい。
次に、工程(2)について説明する。
工程(2)において、工程(1)で得られたコロイダルシリカを一定温度で一定時間維持し、アルカリ性コロイダルシリカを得る。
維持する温度は、好ましくは60〜100℃であり、より好ましくは80〜100℃である。維持する温度が60℃未満であると、コロイダルシリカ表面のシラノール基とアルミン酸イオンの反応が不十分になる可能性があるため、また100℃を超えるとオートクレーブ装置などの加圧容器での処理が必要になるため、いずれの場合も好ましくない。
前記温度に維持する時間は、好ましくは0.5〜10時間であり、より好ましくは1〜3時間である。維持する時間が0.5時間未満であると、反応が不十分の可能性があるため、また10時間を超えると反応時間が不必要に長くなり生産効率が悪くなるため、いずれの場合も好ましくない。
次に、工程(3)について説明する。
工程(3)において、工程(2)により得られたコロイダルシリカ中のアルカリイオンを必要に応じて除去する。
必要に応じてアルカリイオンを除去する方法は、公知のいずれの方法も用いることが出来るが、イオン交換樹脂を用いる方法が一般的であり、このとき用いられるイオン交換樹脂は、陽イオン交換樹脂、または陰イオン交換樹脂及び陽イオン交換樹脂の組み合わせである。これらのうち、好ましくは、陰イオン交換樹脂及び陽イオン交換樹脂を組み合わせて使用される。この理由は、陽イオン交換樹脂でアルカリイオンを除去し、陰イオン交換樹脂で陽イオン交換樹脂から溶出する可能性のあるイオンを除去できるからである。
本発明の製造方法によって得られるアルミ改質コロイダルシリカは、以下に示す量の金属不純物を含む。尚、この金属不純物にはアルミニウムは含まれない。
金属不純物として、アルカリ金属含有量は50ppm以下、好ましくは30ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下である。該アルカリ金属は、ナトリウム又はカリウムである。
さらに、アルカリ土類金属及び重金属の含有量がそれぞれ1ppm以下であることが好ましく、より好ましくはそれぞれ0.5ppm以下である。
前記アルカリ土類金属とは、カルシウム又はマグネシウムである。前記重金属とは、鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン又はコバルトである。
これらの金属不純物含有量が、上記範囲を超えると、例えば半導体ウエハーの研磨剤に用いられたとき、ウエハー表面の汚染原因となるため好ましくない。
本発明のアルミ改質コロイダルシリカは、アルミン酸イオンによる改質率が40%以上、好ましくは50%以上、さらに好ましくは70%以上である。このようなアルミ改質コロイダルシリカは、半導体ウエハーの研磨剤、CMPスラリーの研磨剤に好適に使用することができる。
尚、本発明でいうアルミン酸イオンによる改質率とは、「改質率(%)={(アルミ改質コロイダルシリカ中のAl量(ppm)−原料コロイダルシリカ中のAl量(ppm))/アルミ改質コロイダルシリカの理論Al量}×100」で表される改質率である。このアルミ改質コロイダルシリカ中の理論Al量とは、原料アルミン酸塩水溶液中のアルミン酸イオン中のAl量を示す。
本発明のアルミ改質コロイダルシリカは、高純度アルミ改質コロイダルシリカであるから、コロイダルシリカ表面のシラノール基とアルミン酸イオンとの反応により生成したアルミノシリケイトサイトがコロイダルシリカに負の電荷を与えているため、その負の電荷によって安定な酸性コロイダルシリカとなる。本発明のアルミ改質コロイダルシリカのpH3〜11におけるゼータ電位は、−15mV以下、好ましくは−20mV以下である。前記ゼータ電位−20mV以下を有する本発明のアルミ改質コロイダルシリカは酸性領域で安定性に優れる。
本発明のアルミ改質コロイダルシリカのpHは2〜10、好ましくはpH2〜4であり
酸性である。
次に、本発明を、実施例を用いて詳細に説明する。
以下の製造方法によって、実施例1、2及び比較例1〜3を製造し、得られたアルミ改質コロイダルシリカの、pH値、シリカ濃度、一次粒子径、二次粒子径、及び各金属含量を測定した。結果を図1に示す。
[実施例1]
<工程(1)>
アルコキシド法により製造された扶桑化学工業(株)製コロイダルシリカPL−3(シリカ濃度19.5wt%、pH7.3、一次粒子径35nm、二次粒子径70nm)1800gに、攪拌下で液温25℃に保ちながら、市販されているAl含有量18.8%のアルミン酸ナトリウム水溶液2.65gを10gの純水に希釈した水溶液を添加した。
<工程(2)>
工程(1)終了後のコロイダルシリカを、沸騰還流状態(98〜100℃)で2時間保持し、アルカリ性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
<工程(3)>
室温において、工程(2)で得られたアルカリ性アルミ改質コロイダルシリカに陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−124H)30gを投入し、pH値が3.5以下になるまで攪拌をおこなった。
その後、陽イオン交換樹脂を除去して、酸性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
得られた酸性アルミ改質コロイダルシリカのpHは2.9、シリカ濃度は19.2wt%、一次粒子径(BET法)34nm、二次粒子径(動的光散乱法)68nm、金属不純物(アルカリ金属およびアルミニウムを除く金属)の各金属含量は図1に示す如くそれぞれ1ppm以下、アルカリ金属含量11.1ppm、Al/SiOモル比は0.00071であった。
[実施例2]
<工程(1)>
5%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液27.2gに、粉末アルミニウム0.27gを添加し、室温、攪拌下で反応を行った。反応終了後、残渣分を濾過してアルミン酸塩水溶液を調製した。
アルコキシド法により製造された扶桑化学工業(株)製コロイダルシリカPL−3(シリカ濃度19.5wt%、pH7.3、一次粒子径35nm、二次粒子径70nm)1800gに、攪拌下で液温100℃に保ちながら、調製したアルミン酸塩水溶液27.5gを添加した。
<工程(2)>
工程(1)終了後のコロイダルシリカを、沸騰還流状態(98〜100℃)で2時間保持し、アルカリ性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
<工程(3)>
室温において、工程(2)で得られたアルカリ性アルミ改質コロイダルシリカに陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−124H)30gを投入し、pH値が3.5以下になるまで攪拌をおこなった。
その後、陽イオン交換樹脂を除去して、酸性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
得られた酸性アルミ改質コロイダルシリカのpHは2.9、シリカ濃度は19.4wt%、一次粒子径(BET法)34nm、二次粒子径(動的光散乱法)68nm、金属不純物(アルカリ金属およびアルミニウムを除く金属)の各金属含量は図1に示す如くそれぞれ1ppm以下であり、アルカリ金属含量は0.18ppm、Al/SiOモル比は0.00047であった。
[比較例1]
<工程(1)>
市販されている水ガラス由来のコロイダルシリカ(シリカ濃度20.5wt%,pH3.0,一次粒子径11nm、二次粒子径21nm)1800gをテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液でpH7.0に調整した後、攪拌下で液温25℃に保ちながら、市販されているAl含有量18.8%のアルミン酸ナトリウム水溶液2.80gを11gの純水で希釈した水溶液を添加した。
<工程(2)>
工程(1)終了後のコロイダルシリカを、沸騰還流状態(98〜100℃)で2時間保持し、アルカリ性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
<工程(3)>
室温において、工程(2)で得られたアルカリ性アルミ改質コロイダルシリカに陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−124H)32gを投入し、pH値が3.5以下になるまで攪拌をおこなった。
その後、陽イオン交換樹脂を除去して、酸性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
得られた酸性アルミ改質コロイダルシリカのpHは2.8、シリカ濃度は20.3wt%、一次粒子径(BET法)11nm、二次粒子径(動的光散乱法)20nm、アルカリ金属含量は181ppm、Al/SiOモル比は0.00165であった。
[比較例2]
<工程(1)>
5%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液25.7gに、粉末アルミニウム0.26gを添加し、室温、攪拌下で反応を行った。反応終了後、残渣分を濾過してアルミン酸塩水溶液を調製した。
市販されている水ガラス由来のコロイダルシリカ(シリカ濃度20.5wt%,pH3.0,一次粒子径11nm,二次粒子径21nm)1800gをアンモニア水溶液でpH7.0に調整した後、攪拌下で液温100℃に保ちながら、調製したアルミン酸塩水溶液26.0gを添加した。
<工程(2)>
工程(1)終了後のコロイダルシリカを、沸騰還流状態(98〜100℃)で2時間保持し、アルカリ性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
<工程(3)>
室温において、工程(2)で得られたアルカリ性アルミ改質コロイダルシリカに陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−124H)32gを投入し、pH値が3.5以下になるまで攪拌をおこなった。
その後、陽イオン交換樹脂を除去して、酸性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
得られた酸性アルミ改質コロイダルシリカのpHは2.8、シリカ濃度は20.3wt%、一次粒子径(BET法)11nm、二次粒子径(動的光散乱法)20nm、アルカリ金属含量145.9ppm、Al/SiOモル比は0.00139であった。
[比較例3]
<工程(1)>
扶桑化学工業(株)製コロイダルシリカPL−3(シリカ濃度19.5wt%、pH7.3,一次粒子径35nm,二次粒子径70nm)1800gに、攪拌下で液温25℃に保ちながら、市販されているAl含有量18.8%のアルミン酸ナトリウム水溶液0.08gを0.3gの純水で希釈した水溶液を添加した。
<工程(2)>
工程(1)終了後のコロイダルシリカを、沸騰還流状態(98〜100℃)で2時間保
持し、アルカリ性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
<工程(3)>
室温において、工程(2)で得られたアルカリ性アルミ改質コロイダルシリカに陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−124H)1.0gを投入し、pH値が3.5以下になるまで攪拌をおこなった。
その後、陽イオン交換樹脂を除去して、酸性アルミ改質コロイダルシリカを得た。
得られた酸性アルミ改質コロイダルシリカのpHは2.9、シリカ濃度は19.5wt%、一次粒子径(BET法)35nm、二次粒子径(動的光散乱法)69nm、アルカリ金属含量は約0.14ppm、Al/SiOモル比は0.000037であった。
この得られた酸性アルミ改質コロイダルシリカを、クエン酸水溶液でpH2.0に調整し60℃で保存すると、粘度が上昇し最終的には1日後にゲル化した。
(試験例1:アルミ改質コロイダルシリカの保存安定性試験)
前述の実施例1と2について、下記の試験方法にて、アルミ改質コロイダルシリカの保存安定性試験を行った。
実施例1と2のアルミ改質コロイダルシリカを、60℃の温度条件並びにpH2に調製した後、7日間保存した後に、各アルミ改質コロイダルシリカの保存安定性について確認した。
確認の結果、7日間保存した後の実施例1及び2のアルミ改質コロイダルシリカは、ゲル化、凝集、白濁、増粘なく、製造時の状態を維持し極めて安定していることが分かった。pH2で60℃の条件下において保存安定性に優れており、且つ金属不純物含有量が少ない為、実施例1及び2のコロイダルシリカは、有機酸などを添加する酸性領域で用いるCMPスラリーなどに好適に使用できる。
(試験例2:ゼータ電位の測定)
前述の実施例1、2及び比較例1〜3について、それぞれのゼータ電位を測定した。
(測定方法)
実施例1、2及び比較例1〜3のアルミ改質コロイダルシリカのゼータ電位を、ELS−8000(大塚電子社製)を用いて動的光散乱ドップラー法にて測定した。
測定温度25℃、NaOH水溶液とHCl水溶液を用いてpH調整を行った。結果を表1及び図2に示す。
Figure 0005221517
表1及び図2が示すとおり、実施例1及び2のゼータ電位は、酸性領域において、およそ−28〜−42mVの範囲であり、一方、比較例1〜3のゼータ電位は、酸性領域において、およそ−5〜−21mVである。従って、本発明の実施例1と2のアルミ改質コロイダルシリカは、比較例1〜3よりも表面電荷のマイナスチャージが強く粒子自体の反発力が強い為、酸性領域でも安定性に優れたコロイダルシリカである。
以上より、アルコキシド法のコロイダルシリカを原料とした実施例1及び2は、比較例よりも金属不純物量が少ないアルミ改質コロイダルシリカであり、アルミン酸イオンによる改質率も実施例の方が格別に高いばかりか、顕著に優れた保存安定性を示す。
従って、本発明のアルミ改質コロイダルシリカの製造方法は、100℃以下の低温、短時間でアルミ改質することが可能であり、また、本発明のアルミ改質コロイダルシリカは、金属不純物が少なくアルミン酸イオンによる改質率も高く、さらに酸性領域でも保存安定性に優れる。
実施例1、2及び比較例1〜3によるアルミ改質コロイダルシリカの、pH値、シリカ濃度、一次粒子径、二次粒子径、及び各金属含量の測定結果を示す。 pH変化における実施例1、2及び比較例1〜3のアルミ改質コロイダルシリカのゼータ電位を示す。

Claims (8)

  1. 以下の工程(1)〜(3)を含むことを特徴とするアルカリ金属含有量がそれぞれ50ppm以下であるアルミ改質コロイダルシリカの製造方法。
    (1)アルコキシド法により得られるコロイダルシリカであって、pHが6〜10であるコロイダルシリカに、Al/SiOのモル比が0.00005〜0.01の範囲になるように、アルミン酸塩水溶液を添加する工程
    (2)工程(1)で得られたコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程
    (3)工程(2)で得られたコロイダルシリカ中のアルカリイオンを必要に応じて除去し、アルミ改質コロイダルシリカを得る工程
  2. 前記アルミン酸塩水溶液が、アルミニウム化合物をアルカリ水溶液に溶解させて得られたアルミン酸塩水溶液であることを特徴とする請求項1に記載のアルミ改質コロイダルシリカの製造方法。
  3. 前記アルミ改質コロイダルシリカ中アルカリ土類金属及び重金属を含有し、
    前記アルカリ土類金属がカルシウム及び/又はマグネシウムであって、
    前記重金属が鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン及びコバルトからなる群より選ばれる1種以上であって、
    前記アルカリ土類金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であり、前記重金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のアルミ改質コロイダルシリカの製造方法。
  4. 前記工程(3)でアルカリイオンを除去することにより前記アルミ改質コロイダルシリカを酸性とすることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のアルミ改質コロイダルシリカの製造方法。
  5. アルカリ金属含有量が50ppm以下であるアルミ改質コロイダルシリカであって、
    pH3〜11におけるゼータ電位が−20mV以下であることを特徴とするアルミ改質コロイダルシリカ。
  6. 前記アルミ改質コロイダルシリカ中アルカリ土類金属及び重金属を含有し、
    前記アルカリ土類金属がカルシウム及び/又はマグネシウムであって、
    前記重金属が鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン及びコバルトからなる群より選ばれる1種以上であって、
    前記アルカリ土類金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であり、前記重金属のそれぞれの含有量が全て1ppm以下であることを特徴とする請求項5に記載のアルミ改質コロイダルシリカ。
  7. 前記アルミ改質コロイダルシリカが酸性であることを特徴とする請求項5または6に記載のアルミ改質コロイダルシリカ。
  8. 以下の工程(1)〜(3)を含む製造方法により得られることを特徴とする請求項5乃至いずれかに記載のアルミ改質コロイダルシリカ。
    (1)アルコキシド法により得られるコロイダルシリカであって、pHが6〜10であるコロイダルシリカに、Al/SiOのモル比が0.00005〜0.01の範囲になるように、アルミン酸塩水溶液を添加する工程
    (2)上記工程(1)で得られたコロイダルシリカを60〜100℃に一定時間維持する工程
    (3)上記工程(2)で得られたコロイダルシリカ中のアルカリイオンを必要に応じて除去し、アルミ改質コロイダルシリカを得る工程
JP2009503952A 2007-03-13 2008-02-22 アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法 Active JP5221517B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009503952A JP5221517B2 (ja) 2007-03-13 2008-02-22 アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007064094 2007-03-13
JP2007064094 2007-03-13
PCT/JP2008/053095 WO2008111383A1 (ja) 2007-03-13 2008-02-22 アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法
JP2009503952A JP5221517B2 (ja) 2007-03-13 2008-02-22 アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008111383A1 JPWO2008111383A1 (ja) 2010-06-24
JP5221517B2 true JP5221517B2 (ja) 2013-06-26

Family

ID=39759325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009503952A Active JP5221517B2 (ja) 2007-03-13 2008-02-22 アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5221517B2 (ja)
TW (1) TW200902445A (ja)
WO (1) WO2008111383A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5551338B2 (ja) * 2008-02-20 2014-07-16 日揮触媒化成株式会社 ハードコート層形成用塗料組成物および光学物品
JP5591530B2 (ja) * 2009-06-24 2014-09-17 日揮触媒化成株式会社 シリカ系微粒子分散ゾルの製造方法、シリカ系微粒子分散ゾル、該分散ゾルを含む塗料組成物、硬化性塗膜および硬化性塗膜付き基材
KR101774067B1 (ko) * 2009-11-16 2017-09-01 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 실리카·알루미나졸의 제조방법, 실리카·알루미나졸, 상기 졸을 포함하는 투명 피막형성용 도료 및 투명 피막 부착 기재
JP2012162426A (ja) * 2011-02-08 2012-08-30 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd シリカ系微粒子の分散ゾル、該分散ゾルの製造方法および塗料組成物
JP2013249528A (ja) 2012-06-04 2013-12-12 Dipsol Chemicals Co Ltd アルミ変性コロイダルシリカを含有した3価クロム化成処理液
CN105586004A (zh) * 2015-12-31 2016-05-18 江苏天恒纳米科技股份有限公司 一种铝改性的硅溶胶的制备方法
MX2019013608A (es) * 2017-05-15 2020-09-07 Saudi Arabian Oil Co Composicion y metodo para cierre o interrupcion de agua y gas en formaciones subterraneas.
CN111320178B (zh) * 2020-03-02 2021-08-27 正大能源材料(大连)有限公司 一种用于合成sapo-34分子筛的金属改性硅溶胶及其制备方法
CN113174234A (zh) * 2020-11-12 2021-07-27 常州泰特耐特新材料科技有限公司 一种增强型芳纶浆粕的制备方法
CN113135573B (zh) * 2021-05-26 2023-03-31 山东银丰纳米新材料有限公司 一种锆改性的阳离子型硅溶胶及其制备方法
CN115403050B (zh) * 2022-08-17 2024-04-12 浙江博来纳润电子材料有限公司 一种高纯有机铝改性酸性硅溶胶及其制备方法和应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06199515A (ja) * 1992-09-25 1994-07-19 Nissan Chem Ind Ltd 酸性シリカゾルの製造方法
JP2000247625A (ja) * 1999-03-04 2000-09-12 Nippon Chem Ind Co Ltd 高純度シリカゾル及びその製造方法
JP2005162533A (ja) * 2003-12-02 2005-06-23 Fuso Chemical Co Ltd 変性コロイダルシリカの製造方法
JP2006036605A (ja) * 2004-07-29 2006-02-09 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 高純度水性シリカゾルの製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06199515A (ja) * 1992-09-25 1994-07-19 Nissan Chem Ind Ltd 酸性シリカゾルの製造方法
JP2000247625A (ja) * 1999-03-04 2000-09-12 Nippon Chem Ind Co Ltd 高純度シリカゾル及びその製造方法
JP2005162533A (ja) * 2003-12-02 2005-06-23 Fuso Chemical Co Ltd 変性コロイダルシリカの製造方法
JP2006036605A (ja) * 2004-07-29 2006-02-09 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 高純度水性シリカゾルの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW200902445A (en) 2009-01-16
JPWO2008111383A1 (ja) 2010-06-24
WO2008111383A1 (ja) 2008-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5221517B2 (ja) アルミ改質コロイダルシリカ及びその製造方法
JP6962797B2 (ja) 研磨用シリカ系粒子および研磨材
JP5602358B2 (ja) 非球状シリカゾル、その製造方法および研磨用組成物
JP5155185B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP5398963B2 (ja) 低ナトリウムで非球状のコロイダルシリカ
JP4222582B2 (ja) 高純度シリカゾルの製造方法
JP4549878B2 (ja) 高純度水性シリカゾルの製造方法
JPH06199515A (ja) 酸性シリカゾルの製造方法
JP6962783B2 (ja) 研磨用シリカ系粒子および研磨材
JP3993993B2 (ja) シリカゾルおよびシリカ系複合酸化物ゾルの製造方法
JP5405024B2 (ja) エチレンジアミンが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
CN103589344B (zh) 一种氧化铝抛光液的制备方法
JP2001072409A (ja) 高純度シリカの製造方法および利用方法
JP5318705B2 (ja) コロイダルシリカおよびその製造方法
JP3362793B2 (ja) シリカゾルの製造方法
JP5377135B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP2006202932A (ja) 研磨用組成物、その製造方法及び該研磨用組成物を用いる研磨方法
JP5905767B2 (ja) 中性コロイダルシリカ分散液の分散安定化方法及び分散安定性に優れた中性コロイダルシリカ分散液
JP5346167B2 (ja) 粒子連結型アルミナ−シリカ複合ゾルおよびその製造方法
JP5405023B2 (ja) イミダゾールが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
JP5081653B2 (ja) ε−カプロラクタムが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
WO2020171140A1 (ja) シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
JP5377134B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP7482699B2 (ja) 異形シリカ粒子分散液の製造方法
JP2010241642A (ja) コロイダルシリカ

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120702

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120821

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130307

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5221517

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250