JP5217658B2 - 積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の積層セラミック電子部品は、その外部電極の形成において、ペースト電極、スパッタ電極、蒸着電極などを伴わず、積層体に対し、直接めっき層を形成することが前提となる。そして、積層体に直接形成された前記めっき層の外側に、ガラス粒子が分散しためっき層が形成されていることを特徴とする。本発明の積層セラミック電子部品について、積層セラミックコンデンサの例を図1に示す。
<本発明の比較例に相当する例>
次に、本発明の範囲外となる本発明の比較例に相当する例について、図3の積層セラミックコンデンサを用いて説明する。
<その他、本発明の実施形態に関する事項>
本発明における第1のめっき層6、7を形成するためのめっき方法は、めっき析出物の成長力および展性の高さを利用したものである。隣り合う内部電極間の厚みが、電解めっきの場合は10μm以下、無電解めっきの場合は20μm以下である場合、上述のめっき析出物が互いに成長して接続しやすくなるので好ましい。
被めっき物として、長さ1.0mm、幅0.5mm、厚み0.5mmの積層セラミックコンデンサ用の積層体を用意した。誘電体セラミック層はチタン酸バリウム系誘電体材料からなり、内部電極はNiを主成分とするものであった。また、隣り合う内部電極間の誘電体層の厚みは2μmであり、内部電極層の厚みは1μmであった。
被めっき物として、実施例1と同じ積層体を用意した。
被めっき物として、実施例1と同じ積層体を用意した。
2 積層体
3 誘電体セラミック層
4、5 内部電極層
6、7 第1のめっき層
8、9 第2のめっき層
10、11 第3のめっき層
12、l3 第4のめっき層
20 ガラス粒子
106、107 ペースト電極層
Claims (7)
- 複数の積層されたセラミック層と、前記セラミック層の界面に沿って形成された複数の内部電極層とを含む積層体に対し、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続するよう外部電極が形成された積層セラミック電子部品において、
前記外部電極は複数のめっき層を含み、
前記積層体の表面に露出した内部電極と直接接続されるめっき層と、
前記内部電極と直接接続されるめっき層の外側に、当該めっき層の端縁部をも覆うように形成され、かつ、前記積層体表面の一部に接する、ガラス粒子が分散しためっき層と、を備えることを特徴とする、積層セラミック電子部品。 - 前記ガラス粒子が分散しためっき層が、電解めっき層であることを特徴とする、請求項1に記載の積層セラミック電子部品。
- 前記ガラス粒子が分散しためっき層の主成分が、Cuであることを特徴とする、請求項1または2に記載の積層セラミック電子部品。
- 積層された複数のセラミック層および前記セラミック層間の界面に沿って形成された複数の内部電極を含み、前記内部電極の各端部が所定の面に露出している積層体を用意する工程と、
前記積層体の前記所定の面に露出した複数の前記内部電極の各端部を互いに電気的に接続するように、前記積層体の前記所定の面上に外部電極を形成する工程と、を含む積層セラミック電子部品の製造方法であって、
前記外部電極を形成する工程が、
前記積層体の前記所定の面に露出した複数の前記内部電極の各端部にめっき析出物を析出させ、かつ前記めっき析出物が相互に接続されるように前記めっき析出物をめっき成長させ、それによって、連続しためっき層を形成するようにめっきする第1の工程と、
前記めっき層の外側に、ガラス粒子を含むめっき浴を用いて、当該めっき層の端縁部をも覆い、かつ、前記積層体表面の一部に接する、ガラス粒子が分散しためっき層を形成する第2の工程と、を含むことを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法。 - 前記ガラス粒子が分散しためっき層を形成する工程が、電解めっきによるものであることを特徴とする、請求項4に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
- 前記ガラス粒子が分散しためっき層を形成する工程の後に、前記ガラス粒子の軟化点以上の温度において熱処理する工程を備える、請求項4または5に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
- 前記めっき浴におけるガラス粒子が、シランカップリング剤により被覆されていることを特徴とする、請求項4〜6に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
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