JP5213300B2 - 分岐状ポリカーボネート - Google Patents
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Description
に適合する構造ユニットを含む。
に適合する少なくとも1種の分岐剤を使用することによって達成された。
ジフェニルカーボネート、ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−ブチルフェニルカーボネート、イソブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−イソブチルフェニルカーボネート、tert−ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−tert−ブチルフェニルカーボネート、n−ブチルフェニルカーボネート、n−ヘキシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−(n−ヘキシルフェニル)カーボネート、シクロヘキシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−シクロヘキシルフェニルカーボネート、フェニルフェノール−フェニルカーボネート、ジ−フェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−イソオクチルフェニルカーボネート、n−ノニルフェノール−フェニルカーボネート、ジ−(n−ノニルフェノール)カーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジ−クミルフェニルカーボネート、ナフチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−ナフチルフェニルカーボネート、ジ−tert−ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−(ジ−tert−ブチルフェニル)カーボネート、ジクミルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−(ジクミルフェニル)カーボネート、フェノキシフェニル−フェニルカーボネート、ジ−(4−フェノキシフェニル)カーボネート、3−ペンタデシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−(3−ペンタデシルフェニル)カーボネート、トリチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−トリチルフェニルカーボネート。
好ましい触媒はテトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムヒドロキシド、テトラフェニルホスホニウムフェノラート、特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノラートである。
2,4−ビス[1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル]フェノール(「トリスフェノール」)の合成:
分析:
トリメチルシリル誘導体での誘導体化後のGC−MS:期待質量362がここで生成物ピークとしてみられた。純度:97.94%(不純物としてBPA1.79%が確認された)。
メチレンクロリド118mlおよびクロロベンゼン30mlを水118ml中ビスフェノールA15.862g(0.0694モル)およびナトリウムヒドロキシド6.13g(0.153モル)の窒素不活性溶液へ添加した。実施例1からの分岐剤0.081g(ビスフェノールAに対して0.00022モルまたは0.32モル%)および連鎖停止剤としてp−tert−ブチルフェノール(BUP)0.3559g(ビスフェノールAに対して0.00237モルまたは3.4モル%)を単段階処理において添加した。pH値13.4および20℃でホスゲン9.6ml(0.1394モル)を1時間に渡って添加した。pH値を12.6以下になるのを防ぐために、25%濃度(strength)のナトリウムヒドロキシド溶液をホスゲン化の間に添加した。ホスゲン化および窒素を用いたフラッシング(flushing)の完了後、N−エチルピペリジン96.7μl(ビスフェノールA1モル%に対して0.0007モル)を触媒として添加し、撹拌を1時間継続した。水相を分離後、有機相をリン酸で酸性化し、中性および無塩になるまで蒸留水で洗浄した。メタノール中で沈殿および真空ドライキャビネット中80℃で乾燥後ポリカーボネート16.8gが得られた。
メチレンクロリド中相対溶液粘度(0.5g/溶液100ml):1.310/1.315
GPC(BPAポリカーボネートに対する検量):分子量Mw=31789、Mn=14010、分散指数D=2.27
メチレンクロリド28.4lおよびクロロベンゼン9lを水28.4l中ビスフェノールA4096.3g(17.94モル)およびナトリウムヒドロキシド1584g(39.6モル)の窒素不活性溶液へ添加した。実施例1からの分岐剤20.88g(ビスフェノールAに対して0.0576モルまたは0.32モル%)および連鎖停止剤としてp−tert−ブチルフェノール(BUP)91.92g(ビスフェノールAに対して0.612モルまたは3.4モル%)を単段階処理において添加した。pH値13.4および21℃でホスゲン3560g(36モル)を1時間および20分に渡って添加した。pH値を12.6以下になるのを防ぐために、25%濃度のナトリウムヒドロキシド溶液をホスゲン化の間に添加した。ホスゲン化および窒素を用いたフラッシング(flushing)の完了後、N−エチルピペリジン24.7ml(ビスフェノールA1モル%に対して0.18モル)を触媒として添加し、撹拌を1時間継続した。水相を分離後、有機相をリン酸で酸性化し、中性および無塩になるまで蒸留水で洗浄した。溶媒をクロロベンゼンに交換した後、不揮発性押出機を通して生成物が押し出された。
メチレンクロリド中の相対溶液粘度(0.5g/溶液100ml):1.34
MVR300℃/1.2kg:1.7ml/10分
IMVR300℃/1.2kg 20分:1.7ml/10分
ビカーVSTB50:153.2℃
メチレンクロリド28.4lおよびクロロベンゼン9lを水28.4l中ビスフェノールA4096.3g(17.94モル)およびナトリウムヒドロキシド1584g(39.6モル)の窒素不活性溶液へ添加した。実施例1からの分岐剤19.57g(ビスフェノールAに対して0.054モルまたは0.30モル%)および連鎖停止剤としてp−tert−ブチルフェノール(BUP)57.6g(ビスフェノールAに対して0.612モルまたは3.4モル%)を単段階処理において添加した。pH値13.4および21℃でホスゲン3560g(36モル)を1時間および20分に渡って添加した。pH値を12.6以下になるのを防ぐために、25%濃度のナトリウムヒドロキシド溶液をホスゲン化の間に添加した。ホスゲン化および窒素を用いたフラッシング(flushing)の完了後、N−エチルピペリジン24.7ml(ビスフェノールA1モル%に対して0.18モル)を触媒として添加し、撹拌を1時間継続した。水相を分離後、有機相をリン酸で酸性化し、中性および無塩になるまで蒸留水で洗浄した。溶媒をクロロベンゼンに交換した後、不揮発性押出機を通して生成物が押し出された。
メチレンクロリド中の相対溶液粘度(0.5g/溶液100ml):1.340
MVR300℃/1.2kg:2.4ml/10分
IMVR300℃/1.2kg 20分:2.2ml/10分
ビカーVSTB50:149.6℃
メチレンクロリド28.4lおよびクロロベンゼン9lを水28.4l中ビスフェノールA4096.3g(17.94モル)およびナトリウムヒドロキシド1584g(39.6モル)の窒素不活性溶液へ添加した。実施例1からの分岐剤19.57g(ビスフェノールAに対して0.054モルまたは0.30モル%)および連鎖停止剤としてフェノール66.06g(ビスフェノールAに対して0.702モルまたは3.9モル%)を単段階処理において添加した。pH値13.4および21℃でホスゲン3560g(36モル)を1時間および20分に渡って添加した。pH値を12.6以下になるのを防ぐために、25%濃度のナトリウムヒドロキシド溶液をホスゲン化の間に添加した。ホスゲン化および窒素を用いたフラッシング(flushing)の完了後、N−エチルピペリジン24.7ml(ビスフェノールA1モル%に対して0.18モル)を触媒として添加し、撹拌を1時間継続した。水相を分離後、有機相をリン酸で酸性化し、中性および無塩になるまで蒸留水で洗浄した。溶媒をクロロベンゼンに交換した後、不揮発性押出機を通して生成物が押し出された。
メチレンクロリド中の相対溶液粘度(0.5g/溶液100ml):1.303
MVR300℃/1.2kg:4.2ml/10分
IMVR300℃/1.2kg 20分:4.3ml/10分
ビカーVSTB50:147.5℃
メチレンクロリド24.1lおよびクロロベンゼン12.4lを水36.5l中ビスフェノールA4566g(20モル)およびナトリウムヒドロキシド1760g(44モル)の窒素不活性溶液へ添加した。実施例1からの分岐剤21.75g(ビスフェノールAに対して0.06モルまたは0.30モル%)および連鎖停止剤としてフェノール67.76g(ビスフェノールAに対して0.72モルまたは3.6モル%)を単段階処理において添加した。pH値13.4および21℃でホスゲン3956g(36モル)を1時間および20分に渡って添加した。pH値を12.6以下になるのを防ぐために、30%濃度のナトリウムヒドロキシド溶液をホスゲン化の間に添加した。ホスゲン化および窒素を用いたフラッシング(flushing)の完了後、N−エチルピペリジン24.7ml(ビスフェノールA1モル%に対して0.18モル)を触媒として添加し、撹拌を1時間継続した。水相を分離後、有機相をリン酸で酸性化し、中性および無塩になるまで蒸留水で洗浄した。溶媒をクロロベンゼンに交換した後、不揮発性押出機を通して生成物が押し出された。
メチレンクロリド中の相対溶液粘度(0.5g/溶液100ml):1.320
GPC(BPAポリカーボネートに対する検量):分子量Mw=34441、Mn=11334、分散指数D=3.04
ジフェノールとしてビスフェノールAおよび分岐剤としてイサチンビスクレゾール(0.3%)を有し、連鎖停止剤としてフェノールおよびMVR3を有する分岐状ポリカーボネート。
生成物の熱安定性を、前記実施例3−5と同様の種々の分岐状ポリカーボネートに関して示され得る。
MVR300℃/1.2kg:1.7モル/10分 IMVR300℃/1.2kg 20分:1.7ml/10分
実施例4によるポリマー:
MVR300℃/1.2kg:2.4モル/10分 IMVR300℃/1.2kg 20分:2.2ml/10分
実施例5によるポリマー:
MVR300℃/1.2kg:4.2モル/10分 IMVR300℃/1.2kg 20分:4.3ml/10分
MVRおよびIMVR測定からの結果は、分岐状構造要素が熱的に安定であることを示す。
以下に測定された擬似塑性は、分岐点(branch point)が熱的応力の後でさえも無傷であり、かつ用いられる分岐剤中のいかなる想定の不純物も有害ではないことを更に証明する。従って、分岐構造単位の分解は発生しない。
Claims (4)
- 相境界プロセスによる分岐状ポリカーボネートの製造プロセスにおいて、改良が式(1)
R 5 、R 6 およびR 7 は互いに独立して水素またはC 1 −C 10 アルキルを表し、またはR 1 およびR 2 、並びにR 3 およびR 4 は、それらが結合されている炭素原子と共に、C 5 −C 10 シクロアルキル基を形成し、その場合、該シクロアルキル基は置換されてもよい]
に適合する少なくとも1種の化合物を使用することを含み、
該化合物は、ビスフェノールAまたはその誘導体の再結晶または溶融結晶化における未精製の粗生成物であることを特徴とする、分岐状ポリカーボネートの製造プロセス。 - 溶融エステル交換方法による分岐状ポリカーボネートの製造プロセスにおいて、改良が式(1)
R 5 、R 6 およびR 7 は互いに独立して水素またはC 1 −C 10 アルキルを表し、またはR 1 およびR 2 、並びにR 3 およびR 4 は、それらが結合されている炭素原子と共に、C 5 −C 10 シクロアルキル基を形成し、その場合、該シクロアルキル基は置換されてもよい]
に適合する少なくとも1種の化合物を使用することを含み、
該化合物は、ビスフェノールAまたはその誘導体の再結晶または溶融結晶化における未精製の粗生成物であることを特徴とする、分岐状ポリカーボネートの製造プロセス。 - 化合物が、その生成からの、ビスフェノールAストリームの蒸留生成物である、請求項1に記載の方法。
- 化合物が、その生成からの、ビスフェノールAストリームの蒸留生成物である、請求項2に記載の方法。
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