JP5207730B2 - イソシアネートをコンディショニングするための方法 - Google Patents

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本発明は、イソシアネートをコンディショニングするための新規方法に関する。
イソシアネートの製造および加工の際に、有機リン助剤および添加剤が使用されることがある。これらの有機リン助剤および添加剤(使用されたものあるいは二次生成物の形態にある)は、イソシアネートの後の加工の際に問題となることがある。
例えば、特許文献1の教示に従って得られるウレトジオン基を含むポリイソシアネートにおいて、触媒として使用されるトリアルキルホスフィンの酸化物が生成することがあり、これは、他のリン含有中間生成物、特にトリアルキルジハロホスホランから生成することもある。これらのリン含有種の全ては、通常は蒸留による方法で分離されるモノマーの反復使用の場合の方法で蓄積することができ、これが、モノマーイソシアネートの再使用の際に問題となる。蒸留による単純な除去は、特にイソシアネートに対するトリアルキルホスフィンオキシドの触媒活性(これは、収率の許容できない高い損失を導く)のゆえに失敗する。
適切な方法で邪魔な有機リン成分を除去しようとする試み(即ち、イソシアネートのコンディショニング)がない訳ではない。しかし、これらの様々な試みにおいて、これらの邪魔な有機リン成分の変化が起こらないか、あるいは、コンディショニングされるイソシアネートがコンディショニング剤と許容できない程度まで反応するかのいずれかであることがわかった。
410を用いて、上記した種類の有機リン化合物をホスフィンスルフィドに変換することが、少なくともこのような化合物の一部について、例えば非特許文献1およびそれに引用されている文献に記載されている。しかし、非特許文献2およびそれに引用されている文献によれば、トリアルキルホスフィンオキシドは、個々の場合にP410を用いて、対応するトリアルキルホスフィンスルフィドへの変換に適するにすぎない。どの程度およびどの点で、これらの変換生成物がNCO基に対して不活性であるのか、ならびに、イソシアネートからのトリアルキルホスフィンオキシドの除去および変換の適切性は、先行技術からは明らかではない。
独国特許出願公開第1670720号明細書 Houben-Weil、Vol.XII/1、第168頁以降 Houben-Weil、Vol.E2 (有機リン化合物II)、第87頁以降
本発明の目的は、イソシアネートまたはその混合物からトリアルキルホスフィンオキシドおよびトリアルキルジハロホスホランを除去するのに適する方法であって、コンディショニングされたイソシアネートを、コンディショニング剤またはその二次生成物との邪魔な副反応の問題を有することなく、高収率および高純度で回収することが可能な方法を提供することであった。
ここに驚くべきことに、トリアルキルホスフィンオキシド含有イソシアネートおよび混合物[これらはP(リン)含有不純物、例えばトリアルキルジハロホスホランなどでさらに汚染されていることもある]を、コンディショニング剤としてのP410で処理することによって、上記目的が達成されることがわかった。
本発明は、イソシアネートまたはイソシアネート混合物からトリアルキルホスフィンオキシドおよび場合によりトリアルキルジハロホスホランを少なくとも部分的に除去するための方法に関する。この方法は、トリアルキルホスフィンオキシドおよび場合によりトリアルキルジハロホスホランを含むイソシアネートまたはイソシアネート混合物にP410を加え、該P410をトリアルキルホスフィンオキシドおよび場合によりトリアルキルジハロホスホランと反応させ、これにより、比例量のトリアルキルホスフィンスルフィドを生成させることを含んでなる。
通常、イソシアネートおよびイソシアネート混合物中に存在するトリアルキルホスフィンオキシドおよびトリアルキルジハロホスホランは、好ましくは以下の一般式(I)で示される:
Figure 0005207730
[式中、
R、R'およびR''は、同一または異なっていてよく、それぞれが1〜20個の炭素原子を含む有機基であり、その鎖中にヘテロ原子(例えば、酸素、窒素および硫黄)が存在していてもよく;
Xは、トリアルキルホスフィンオキシドの場合には酸素原子であり、トリアルキルジハロホスホランの場合にはハロゲン原子であり;
Yは、トリアルキルジハロホスホランの場合にはハロゲン原子であり;そして
nは、トリアルキルホスフィンオキシドの場合には0であり、トリアルキルジハロホスホランの場合には1である]。
コンディショニングされる適するイソシアネートまたはイソシアネート混合物には、当業者には自体既知である全てのNCO含有化合物が含まれる。これには、例えば、自体既知であり、ウレタン、アロファネート、ウレア、ビウレット、ウレトジオン、カルボジイミド、ウレトンイミン(uretonimine)、イソシアヌレートおよび/またはイミノオキサジアジンジオン構造を有する高分子量イソシアネート二次生成物が含まれる。
イソシアネートまたはイソシアネート混合物が、Mw<500のモノマー低分子量イソシアネートであるのが好ましい。これらの例には、トルエンジイソシアネート(即ち、TDI)、ナフチレンジイソシアネート、4(2)イソシアナトフェニルメチル-4-イソシアナトベンゼン(通常は、4,4'-MDIまたは2,4'-MDIと称される)、ヘキサメチレンジイソシアネート(即ち、HDI)、メチルペンタンジイソシアネート(MPDI)、トリメチルヘキサンジイソシアネート(即ち、TMDI)、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(即ち、H6XDI)、ノルボルナンジイソシアネート(即ち、NBDI)、イソホロンジイソシアネート(即ち、IPDI)、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン(即ち、H12MDI)などの化合物ならびにこれらの任意の所望の混合物が含まれる。
本発明の方法において使用するP410の量は、主に、イソシアネートまたはイソシアネート混合物のリン含有不純物の種類および程度に依存する。この分析は、元素分析および/またはNMRスペクトル法などの通常の分析法を用いて、当業者なら困難なく行うことができる。
本発明に従って、0.1〜1.0モルのP410を、コンディショニングされるイソシアネートまたはイソシアネート混合物中に存在するリン含有不純物のリン1モルあたりに使用する。P410:リン含有不純物のリン量の比は、0.2:1〜0.5:1の範囲内であるのが好ましい。
好ましくは、本発明の方法は、リン含有不純物の割合が、最初に存在したリン含有不純物の量を基準に20%未満、好ましくは10%未満になるまで行う。
本発明の方法は、0〜150℃、好ましくは40〜120℃の範囲内の温度で行う。
410との反応に続いて、任意の溶媒を含む反応混合物を、自体既知の分離法(例えば、蒸留、抽出または結晶化/濾過)を用いて精製することができる。コンディショニング剤の存在およびその二次生成物が邪魔でなければ、コンディショニングされたイソシアネート(混合物)を、さらなる後処理をせずに使用することもできる。
410との反応に続く最初の分離は、未反応のP410およびさらにP410と邪魔なリン含有不純物との反応に由来する不溶性変換生成物を分離するための固体分離であるのが好ましい。次いで蒸留を行うが、これは、好ましい態様においては薄膜蒸留である。
2つまたはそれ以上の上記分離法の組合せを使用しうることは自明である。
本発明の方法を、全体的にまたは部分的に、回分式でまたは連続的に行うかどうかは重要ではない。
さらに、本発明の方法中の任意の所望の時点で、ポリイソシアネートの化学において一般的な添加剤および/または安定剤を加えることもできる。その例には、酸化防止剤、例えば、立体障害フェノール(2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、4-メチル-2,6-ジ-tert-ブチルフェノール)、光安定剤、例えば、HALSアミン、トリアゾールなどが含まれる。
以下に実施例を挙げて、本発明の方法をさらに詳しく説明する。上記した本発明は、その思想またはその範囲がこれら実施例によって限定されるものではない。当業者なら、以下の操作の条件を既知のように変化させうることを容易に理解するであろう。
他に特記することがなければ、全ての温度は℃であり、全ての%値は重量%である。
他に特記することがなければ、量的割合(%、ppm)に関する全てのデータは、重量に基づく。
NCO含量は、DIN 53185に記載されているような滴定によって測定した。
異なる構造タイプの互いに対するモル比またはモル%の記載は、31P-NMRスペクトル測定に基づく。
全試料のリン含量は、X線蛍光分析(XRF)によって測定した。
反応の多くは、例示の目的で、コンディショニングするイソシアネートとしてHDIを用いて記載した。これは、本発明の方法の利点を説明するためだけに行ったものであり、記載した系または反応条件への本発明の限定を意図するものではない。
410は、Aldrich(82018 Taufkirchen、独国)から市販のものを入手し、さらに精製することなく使用した。
例1(本発明による)
360ppmのリンを含み、リンの95モル%以上がトリブチルホスフィンオキシドの形態にあるヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)(1000g)に、固体のP410(3g)を加え、次いで、混合物を室温で48時間撹拌した。この過程でP410の一部が溶解した。次いで、混合物を濾過し、濾液を薄膜蒸留により0.1mバールで後処理した。この際に、蒸発器温度および計量割合(速度)を、約10%の高沸点流出物および約90%の無色留出物が得られるように選択した。留出物は180ppmのリンを含有し、その95モル%以上は、トリブチルホスフィンスルフィドの形態で存在した。
例2(本発明による)
580ppmのリンを含み、リンの約50モル%がトリブチルホスフィンオキシドの形態で存在し、リンの約50モル%がトリブチルジフルオロホスホランの形態で存在するHDI(1000g)に、固体のP410(3.3g)を加え、次いで、混合物を室温で48時間撹拌した。この過程でP410の一部が溶解した。次いで、混合物を濾過し、濾液を薄膜蒸留により0.2mバールで後処理した。この際に、蒸発器温度および計量割合を、約5%の高沸点流出物および約95%の無色留出物が得られるように選択した。留出物は210ppmのリンを含有し、その95モル%以上は、トリブチルホスフィンスルフィドの形態で存在した。トリブチルホスフィンオキシドのシグナルは、もはや31P-NMRスペクトルにおいて現れず、トリブチルジフルオロホスホランの三重線は、極めて低い強度で認識されうるにすぎなかった。
実験1および2で得られた蒸留残留物(高沸点流出物)は、室温で非常に粘稠であったが、温度を上げることによって困難なく再溶融することができ、さらなるP410を添加剤として加えた後にコンディショニングに再使用することができた。
例3(本発明による)
例2の記載のようにして得られたP410によってコンディショニングされた生成混合物を、薄膜蒸留の代わりに、蒸留塔(排気、内部鏡面仕上げジャケット、長さ50cm、直径40mm、4mmのV4Aワイヤスパイラルを充填)において、蒸留釜蒸留(精留)にかけ、そこで、リン含量が<10ppmである99.96%(GC)純度のHDI(全体量の96.4%)が頂部を通過した。蒸留残留物の外観は、1および2に記載したものと全く同様であった。
例4(比較例)
例2の汚染HDIを、P410で前処理することなく、例3と同様に蒸留釜蒸留(精留)にかけ、そこで、最初の留出物(0.2mバール頂部圧力で74℃未満の沸点、全体量の7.5%、約99.0%純度のHDI)を留出させた後、0.2mバール頂部圧力で沸点が74±1℃およびリン含量が<10ppmである99.9%純度のHDI(全体量の59.6%)が、主分画として通過した。底部相(全体量の32.9%)は、蒸留の過程で粘稠性が増大し、冷却後に固化してゲル様の物質を与えた。この物質は、再溶融することができず、有機溶媒に部分的にのみ溶解し、ガラスフラスコを壊した後にのみ取り出すことができた。分析によれば、遊離NCO基の存在が示されたことに加えて、主として、カルボジイミドおよびウレトンイミンの生成が確認された。底部相生成物のリン含量は110ppmであった。
説明の目的で上記において本発明を詳細に説明したが、このような詳細が該目的のためだけのものであり、当業者なら、特許請求の範囲によって限定されることを除いて、本発明の思想および範囲から逸脱することなくそれらに変更を加えうることを理解すべきである。

Claims (6)

  1. イソシアネートまたはイソシアネート混合物からトリアルキルホスフィンオキシドおよび場合によりトリアルキルジハロホスホランを少なくとも部分的に除去するための方法であって、トリアルキルホスフィンオキシドおよび場合によりトリアルキルジハロホスホランを含むイソシアネートまたはイソシアネート混合物にP410を加え、該P410をトリアルキルホスフィンオキシドおよびトリアルキルジハロホスホランと反応させ、これにより、比例量のトリアルキルホスフィンスルフィドを生成させることを含んでなる方法。
  2. トリアルキルホスフィンオキシドおよびトリアルキルジハロホスホランが、以下の一般式(I):
    Figure 0005207730
    [式中、
    R、R'およびR''は、同一または異なっていてよく、それぞれが1〜20個の炭素原子を含む有機基であり、その鎖中にヘテロ原子(例えば、酸素、窒素および硫黄)が存在していてもよく;
    Xは、トリアルキルホスフィンオキシドの場合には酸素原子であり、トリアルキルジハロホスホランの場合にはハロゲン原子であり;
    Yは、トリアルキルジハロホスホランの場合にはハロゲン原子であり;そして
    nは、トリアルキルホスフィンオキシドの場合には0であり、トリアルキルジハロホスホランの場合には1である]
    で示される請求項1に記載の方法。
  3. 410:イソシアネートまたはイソシアネート混合物中に存在するリン含有化合物のリンのモル比が0.1:1〜1:1である請求項1に記載の方法。
  4. トリアルキルホスフィンオキシドおよび/またはトリアルキルジハロホスホランの割合が、最初に存在したトリアルキルホスフィンオキシドおよび/またはトリアルキルジハロホスホランの量を基準に、10%未満になるまで方法を行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. 反応に続いて、固体を分離して、未反応P410およびP410とトリアルキルホスフィンオキシドおよび場合によりトリアルキルジハロホスホランとの反応の不溶性変換生成物を除去することをさらに含む請求項1に記載の方法。
  6. 固体分離に続いて蒸留を行う請求項5に記載の方法。
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