JP5201854B2 - 有機elパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
前記有機EL素子群が複数配置されている部材の前記複数の有機EL素子群の間で、前記基材と前記保護層とを切断することによって得る有機ELパネルの製造方法において、有機樹脂からなる積層部材を前記保護層の上に接して前記複数の有機EL素子群の間を跨いで配置する工程と、
前記基材と、前記積層部材が配置された前記保護層とを、前記複数の有機EL素子群の間で前記基材側から切断する工程と、
を有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法を提供する。
したがって本発明は、保護層にひび割れや剥がれの少ない有機ELパネルを簡単な方法で提供することができる。
図1及び図2において、1は基材、2は有機EL素子群、3は保護層、4は接着部材(積層部材)、5は平面部材、6は外部接続端子、7は切断ラインである。
ガラス基材上に蒸着装置やスピンコーターなどの成膜装置により一対の電極と一対の電極間に配置される有機化合物層とからなる有機EL素子の複数からなる有機EL素子群を複数形成し、更に保護層3を形成する。
本発明の実施例を図3を用いて説明する。
複数のパネルのTFT回路が形成されたガラス基材上にアクリル樹脂よりなる平坦化膜をフォトリソグラフィー法にて形成し、回路による凹凸を平坦にした。
上記平坦化膜が形成されたガラス基材上にCrターゲットをDCスパッタし、陽極として100nmの厚さにCr膜を成膜した。この際、成膜マスクを用いて、20μm×100μmの画素電極とした。Arガスを用いて、0.2Paの圧力、300Wの投入電力条件で行った。
次に基材をスパッタ装置より取り出してアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、次いでIPAで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄した。
各素子を分離するために、ポリイミド樹脂よりなる素子分離膜をフォトリソグラフィー法にて形成した。
有機EL蒸着装置へ移し、真空排気し、前処理室で基材付近に設けたリング状電極に50WのRF電力を投入し酸素プラズマ洗浄処理を行った。酸素圧力は0.6Pa、処理時間は40秒であった。
基材を前処理室より成膜室へ移動し、成膜室を、1×10E(−4)Paまで排気した後、正孔輸送性を有するαNPDを抵抗加熱蒸着法により成膜速度0.2〜0.3nm/secの条件で成膜、膜厚35nm正孔輸送層を形成した。なお、正孔輸送層、発光層、および電子注入層は、同一の蒸着マスクを用いることにより所定の部分に蒸着した。所定の部分とは基材上で、画素電極であるCrが露出している部分である。
続いて正孔輸送層の上にアルキレート錯体であるAlq3を抵抗加熱蒸着法により正孔輸送層と同様の成膜条件で成膜し、膜厚15nmの発光層を形成した。
次に、発光層の上に抵抗加熱共蒸着法によりAlq3と炭酸セシウム(Cs2CO3)を膜厚比9:1の割合で混合されるよう、各々の蒸着速度を調整して成膜し、膜厚35nmの電子注入層を形成した。詳しくは、それぞれの蒸着ボートにセットした材料を抵抗加熱方式で蒸発させ、有機層、共蒸着層それぞれのボート電流値を調整することで、あわせて0.5nm/secの蒸着速度で膜形成を行った。
こうして、正孔輸送層、発光層、電子注入電極層からなる有機EL層を形成した。
別の成膜室に基材を移し、電子注入層の上にITOターゲットを用いてDCマグネトロンスパッタリング法により、膜厚が130nmになるよう成膜し、ITOからなる陰極を形成した。
最後に、保護層の形成を行った。すなわち、前記陰極の上にプラズマCVD法を用いて、厚さ1μmの窒化シリコン膜を堆積した。この時、後述する実装工程でFPCを接続する電極パッド部のみはマスクによって窒化シリコン膜が堆積しないようにした。それ以外は複数のパネルにわたって全面に窒化シリコン膜を堆積した。
次いで、電極パッド部に対応する部分に打ち抜き加工によって開口部9を設けた粘着剤付き円偏光部材をロールラミネーターを用いて位置合わせしながら有機EL基板8に貼り付けた。その後、粘着材中の気泡を除去するためにオートクレーブを用いて2気圧の条件下で50℃/10分の加熱を行った。
複数のパネルを有する有機EL基板8を基材側からダイアモンド回転刃を具備した精密ガラススクライバーを用いて切断し、円偏光部材および粘着材をカッターにて切断することによって個々のパネルに分離した。
最後に有機ELパネルを駆動させるための駆動回路を接続するのに必要なFPCの実装を行った。すなわち、有機ELパネルの外部接続端子にFPCを異方性導電性フィルムで熱圧着を行い、FPCを接合した。
以上のような工程によって10個の有機ELパネルを作製した。このパネルの切断面を光学顕微鏡で観察したところ、防湿層にクラック、剥離は認められなかった。さらに、60℃/90%RHの環境下に1000時間保管する高温高湿試験を行った後、外観を目視及び光学顕微鏡で観察したところ問題は認められなかった。また、高温高湿試験後、陽極、陰極間に電圧を印加して評価した有機ELパネルの発光特性にも異常は認められなかった。
実施例において、防湿層までは同様にして有機EL基板を作製した。
複数のパネルを有するこの有機EL基板をダイアモンド回転刃を具備した精密ガラススクライバーを用いて基板側から切断して個々のパネルに分離した。
最後に実施例と同様にして電極パッド部にFPCを接合した。
以上のような工程によって10個の有機ELパネルを作製した。このパネルの切断面を光学顕微鏡で観察したところ、防湿層にクラックが認められ、切断部から最大で0.5mm程度の剥離も発生していた。さらに、60℃/90%RHの環境下に1000時間保管する高温高湿試験を行った後、外観を目視及び光学顕微鏡で観察したところ、クラックがさらにパネル内側にまで進行していた。高温高湿試験後の有機ELパネルを発光させたところ、パネル周辺部の画素の有機EL層が劣化して発光効率が低下しており、一部画素が発光していないことが確認された。
2 有機EL素子群
3 保護層
4 積層部材
5 平面部材
6 外部接続端子
7 切断ライン
8 有機EL基板
9 開口部
Claims (6)
- 基材と、前記基材の上に配置されている複数の有機EL素子を有する有機EL素子群と、前記有機EL素子群の上に配置されている透明性を有する無機物からなる保護層と、を有する有機ELパネルを、
前記有機EL素子群が複数配置されている部材の前記複数の有機EL素子群の間で、前記基材と前記保護層とを切断することによって得る有機ELパネルの製造方法において、有機樹脂からなる積層部材を前記保護層の上に接して前記複数の有機EL素子群の間を跨いで配置する工程と、
前記基材と前記積層部材が配置された前記保護層とを前記複数の有機EL素子群の間で前記基材側から切断する工程と、
を有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 前記有機ELパネルは、前記積層部材の上に接して平面部材を有し、
前記積層部材を配置する工程は、前記積層部材を前記平面部材に配置する工程と、前記積層部材が配置された前記平面部材を前記保護層の上に配置する工程とを有することを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネルの製造方法。 - 前記平面部材、及び前記積層部材を前記複数の有機EL素子群の間で前記平面部材側から切断する工程を有することを特徴とする請求項2に記載の有機ELパネルの製造方法。
- 前記有機ELパネルは外部接続端子を有しており、
前記積層部材を配置する工程は、前記積層部材が配置された前記平面部材の前記外部接続端子に対応する位置に開口を設ける工程を有し、
前記平面部材を前記保護層の上に配置する工程は、前記開口を有する前記積層部材および前記平面部材を前記保護層の上に配置する工程であることを特徴とする請求項2に記載の有機ELパネルの製造方法。 - 前記積層部材は接着剤であって、前記有機EL素子の光取り出し側に配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の有機ELパネルの製造方法。
- 前記平面部材は円偏光部材であることを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれか1項に記載の有機ELパネルの製造方法。
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