JP2017211420A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 164
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 25
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 17
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 16
- 238000004347 surface barrier Methods 0.000 claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 137
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- -1 for example Polymers 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical group C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K50/00—Organic light-emitting devices
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
Abstract
【課題】フレキシブル基板を有する表示装置の製造において、材料費と製造工程を低減して、製造原価を抑えたフレキシブル表示装置の製造を可能にする。
【解決手段】湾曲可能な基板100の上に表示領域DAと端子部TAが形成され、前記表示領域DAには、アレイ層50が形成され、前記アレイ層50と前記端子部TAの間に、所定の幅で中間層160が形成されており、前記中間層160は、前記アレイ層50と前記端子部TAには重畳していないことを特徴とする表示装置。
【選択図】図25
【解決手段】湾曲可能な基板100の上に表示領域DAと端子部TAが形成され、前記表示領域DAには、アレイ層50が形成され、前記アレイ層50と前記端子部TAの間に、所定の幅で中間層160が形成されており、前記中間層160は、前記アレイ層50と前記端子部TAには重畳していないことを特徴とする表示装置。
【選択図】図25
Description
本発明は表示装置に係り、特に基板を湾曲させることができるフレキシブル表示装置に関する。
有機EL表示装置や液晶表示装置は表示装置を薄くすることによって、フレキシブルに湾曲させて使用することができる。この場合、素子を形成する基板を薄いガラスあるいは薄い樹脂によって形成する。有機EL表示装置は、バックライトを使用しないので、薄型化にはより有利である。反射型液晶表示装置についても同様である。
フレキシブル表示装置を形成するためには、基板を薄くしなければならない。しかし、基板を薄くすると、製造プロセスを通すことが困難になる。そこで、製造プロセスにおいては、比較的厚いガラス等のキャリア基板を用い、マザー基板完成後、キャリア基板を除去し、代わりにフレキシブルな、薄い基板で貼りかえることが行われている。
特許文献1には、ガラス基板と透明な樹脂基板の間に金属等の熱交換層を配置し、この熱交換層をフラッシュランプで加熱することによって、キャリアガラスと透明樹脂基板を分離する構成が記載されている。
特許文献2には、支持体、すなわち、キャリア基板とフレキシブル基板との間に金属等の剥離層を配置し、この剥離層を電磁誘導によって加熱し、支持体とフレキシブル基板を分離する構成が記載されている。
特許文献3には、ガラス基板の上に金属酸化物とフレキシブル基板となるポリイミド系樹脂の積層物を形成し、赤外線を照射することによって、金属酸化物を加熱させてフレキシブル基板とガラス基板を分離する構成が記載されている。
特許文献4には、樹脂とフィラーからなる熱伝導性樹脂を支持体に塗布し、この熱伝導性樹脂の上にデバイス層を形成し、その後、支持体と熱伝導性樹脂を剥離する構成が記載されている。
上記先行技術文献に記載の発明は、すべて、製造工程においては、キャリア基板を使用し、その後、マザー基板が完成した後、キャリア基板を剥離し、製品基板に貼りかえるものである。キャリア基板はマザー基板の状態において剥離される場合もあるし、個々の表示セルに分離した状態で剥離する場合もある。
このような製造方法においては、キャリア基板は使用後破棄される。したがって、キャリア基板の材料費が無駄になる。さらに、キャリア基板の剥離工程、製品基板を貼りつける工程等が必要であり、その分、製造コストが押し上げられる。
本発明の課題は、キャリア基板を使用せず、製造工程においても製品基板を使用することを可能にし、フレキシブル表示装置の製造コストを低減することである。
本発明は上記課題を克服するものであり、代表的な手段は次のとおりである。
(1)湾曲可能な基板の上に表示領域と端子部が形成され、前記表示領域には、アレイ層が形成され、前記アレイ層と前記端子部の間に、所定の幅で中間層が形成されており、前記中間層は、前記アレイ層と前記端子部には重畳していないことを特徴とする表示装置。
(2)前記表示領域には光学シートが貼り付けられ、前記光学シートと前記中間層はオーバーラップしていることを特徴とする(1)に記載の表示装置。
(3)フレキシブル表示装置の製造方法であって、支持基板の上にフレキシブル基板を形成し、前記フレキシブル基板の上に表示領域と端子部を形成し、前記表示領域にアレイ層を形成し、前記端子部に中間層を形成し、前記アレイ層と前記中間層を覆って光学シートを貼り付け、前記光学シートを前記表示領域と前記端子部との境界において切断し、前記端子部に形成された前記中間層をアブレージョンすることによって、前記端子部を覆う前記光学シートを除去することを特徴とするフレキシブル表示装置の製造方法。
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。以下の説明では、主として有機EL表示装置を例にとって説明するが、液晶表示装置についても適用することができる。
図1は本発明が適用されるフレキシブル基板100を有する有機EL表示装置の平面図であり、図2は図1のA−A断面図である。図1および図2において、フレキシブル基板100の上にTFTや有機EL層等を含むアレイ層50が形成され、これを偏光板200が覆っている。なお、アレイ層50は表示領域に含まれている。
図1および図2において、フレキシブル基板100が偏光板200に覆われていない部分は端子部150となっている。端子部150にはアレイ層50から配線が引き出され、端子部150に搭載されたドライバIC310に接続している。ドライバIC310からの配線は、端子部150の端部において、フレキシブル配線基板300と接続している。フレキシブル配線基板300からは、有機EL表示装置へ電源、信号等が供給される。
フレキシブル基板100は厚さ10μm乃至20μmの樹脂、例えばポリイミドで形成されている。したがって、フレキシブルに湾曲させることができる。一方、このようなフレキシブル基板100は機械的に弱く、また、表示装置として形状が安定しない。そのために、フレキシブル基板100の下側に支持基板10を配置している。支持基板10はガラスでもよいし、樹脂でもよい。
支持基板の厚さは0.1mm乃至0.5mm程度であるが、本発明においては、フレキシブル基板100おおびアレイ層50を最初から支持基板10に形成するので、アレイ層50を形成する製造ラインを通過することができる厚さとする必要がある。なお、有機EL表示装置は個々に製造したのでは、効率が悪いので、複数の有機EL表示装置をマザー基板に形成し、その後、個々の有機ELセルに分離することが行われている。したがって、本発明における支持基板は、当初は大判のマザー支持基板である。
図3は、図2の表示領域の断面図である。図3はトップエミッション型の有機EL表示装置である。図3において、厚さ10μm乃至20μmのフレキシブル基板100はポリイミドで形成されている。なお、フレキシブル基板100は、ポリイミドに限らず、他の樹脂あるいはガラスでもよい。図3において、フレキシブル基板100を樹脂で形成する場合は、支持基板10の上にスリットコーター等で例えばポリイミドを塗布し、焼成して形成する。支持基板10はガラスでもよいし、樹脂フィルムでもよい。
フレキシブル基板100の上には、基板側バリア層101が形成されている。バリア層101の目的は、主に、ポリイミド側からの水分の遮断である。基板側バリア層101は、SiOおよびSiNの積層体で形成されている。基板側バリア層101は、例えば、基板側から、厚さ50nmのSiO、厚さ50nmのSiN、厚さ300nmのSiOの3層で形成されている場合もある。なお、SiOはSiOxの場合を含み、SiNはSiNxの場合を含んでいる。基板側バリア層101の上には半導体層102が形成されている。半導体層102は当初はCVDによってa−Siを形成し、これをエキシマレーザによってPoly−Siに変換したものである。
半導体層102を覆ってCVDを用いたTEOS(テトラエトシキシラン)によるSiOによってゲート絶縁膜103を形成する。ゲート絶縁膜103の上にゲート電極104を形成する。その後、イオンインプランテーションによって、半導体層102に対しゲート電極104に対応する以外の部分を導電層とする。半導体層102において、ゲート電極104に対応する部分がチャンネル部1021になる。
ゲート電極104を覆って層間絶縁膜105をCVDによるSiNによって形成する。その後、層間絶縁膜105およびゲート絶縁膜103にスルーホールを形成し、ドレイン電極106およびソース電極107を接続する。図3において、ドレイン電極106、ソース電極107、層間絶縁膜105を覆って有機パッシベーション膜108を形成する。有機パッシベーション膜108は平坦化膜を兼ねているので、2乃至3μmと、厚く形成される。有機パッシベーション膜108は例えばアクリル樹脂によって形成する。
有機パッシベーション膜108の上に、反射電極110を形成し、その上に陽極となる下部電極110をITO等の透明導電膜によって形成する。反射電極109は反射率の高いAl合金によって形成する。反射電極109は、TFTのソース電極107と、有機パッシベーション膜108に形成されたスルーホールを介して接続する。
下部電極110の周辺にはアクリル等によるバンク111が形成される。バンク111を形成する目的は、次に形成される発光層を含む有機EL層112や上部電極113が段切れによって導通不良となることを防ぐことである。バンク111は、アクリル樹脂等の透明樹脂を全面にコートし、下部電極110に対応する部分に有機EL層からの光を取り出すホールを形成することによって形成される。
図3において、下部電極110の上に有機EL層112が形成される。有機EL層112は、例えば電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層等で形成される。有機EL層112の上には、カソードとしての上部導電層113が形成される。上部導電層113は、透明導電膜であるIZO(Indium Zinc Oxide)、ITO(Indium Tin Oxide)等によって形成されるほか、銀等の金属の薄膜で形成される場合もある。
その後、上部電極113側からの水分の侵入を防止するために、上部電極113の上に表面バリア層114を、CVDを用いてSiNによって形成する。有機EL層112は熱に弱いために、表面バリア層114を形成するためのCVDは100℃程度の低温CVDによって形成される。
トップエミッション型の有機EL表示装置は、反射電極110が存在しているために、画面は、外光を反射してコントラストが低下する。これを防止するために、表面に偏光板200を配置して、外光による反射を防止している。偏光板200は、一方の面に粘着材201を有しており、表面バリア層114に圧着することによって、有機EL表示装置に接着させている。粘着材201の厚さは30μm程度であり、偏光板200の厚さは100μm程度である。図1及び図2に示すように、偏光板200および粘着材201は、アレイ層周辺をも覆うように形成されている。
図3において、フレキシブル基板100は10乃至20μmのポリイミドで形成されているので、機械的に弱く、また、フレキシブル表示装置の形状が安定しない。そこで、フレキシブル表示装置の形状を安定させるために支持基板10を配置している。支持基板10の材料、厚さ、形状は、フレキシブル表示装置の用途等によって種々の構成を選択することができる。しかし、本発明においては、マザー支持基板を、フレキシブル基板、アレイ層等を形成するための工程を通過させることができる厚さ、あるいは、材料とする必要がある。
有機EL表示装置は1個1個製造したのでは効率が悪いので、マザー基板に多数の有機ELセルを形成し、マザー基板が完成後1個1個の有機ELセルに分離する。図4はマザー基板400の例を示す平面図である。図4において、7×5=35個の有機ELセル410が配置され、マザー基板400が完成した後、分離線420において個々の有機ELセル410に分離され、有機EL表示装置が形成される。
図5は、本発明を使用しない場合の図4のB−B断面図である。図5では、図を複雑化させないために、有機ELセル410が4個配列している場合を記載している。図1において、第1キャリア基板20の上にポリイミド等の樹脂によるフレキシブル基板100が形成され、その上に各有機ELセル毎にアレイ層50が形成されている。すなわち、第1キャリア基板20は、フレキシブル基板100およびアレイ層50を形成するプロセスを通過できるものであることが必要である。アレイ層50を覆って第2キャリア基板30が形成されている。第2キャリア基板30は、プロセス中において、アレイ層50等を保護するためのもので、樹脂フィルムで形成される場合が多い。
図5のようなマザー基板400が完成すると、図5に示す分離線420に沿って、各有機ELセル410は、マザー基板400から分離される。図6は、図5に示すマザー基板400から、分離線420に沿って、有機ELセル410が分離された状態を示す断面図である。図6において、第1キャリア基板20の上にフレキシブル基板100が形成され、その上にアレイ層50が形成されている。フレキシブル基板100及びアレイ層50を覆って第2キャリア基板30が貼り付けられている。
その後、図7に示すように、まず、第2キャリア基板30を剥離する。第2キャリア基板30は、剥離しやすいように、弱粘着性の粘着材によって、アレイ層等に貼り付けられているものなので、アレイ層50を傷つけず、容易に剥離することができる。
第2キャリア基板30を剥離した後、図8に示すように、アレイ層50に偏光板200が貼り付けられる。偏光板200は製品に貼り付けられるものなので、剥がれないように、強い接着力を有する粘着材によって貼り付けられる。その後、図9に示すように、第1キャリア基板20を剥離する。第1キャリア基板20とポリイミド等で形成されたフレキシブル基板100との剥離は、例えば、第1キャリア基板20とフレキシブル基板100との界面にフォーカスしたレーザービームをスキャンする、レーザーアブレージョンによって行われる。
その後、図10に示すように、支持基板10をフレキシブル基板100の下面に接着する。支持基板10は、製品に付いていくものなので、支持基板10とフレキシブル基板100を接着する粘着材は強力な接着力を有するものが使用される。
以上のような方式では、プロセスを通すために使用される第1キャリア基板20および第2キャリア基板30は、破棄されるので、この材料は無駄になる。また、第1キャリア基板20を剥離した後に支持基板10を貼り付ける工程、第2キャリア基板30を剥離した後に偏光板200を貼り付ける工程が必要になり、これは、製造原価を押し上げる。
このようなプロセスを省略する手段として、最初から第1キャリア基板20の代わりに支持基板10を、また、第2キャリア基板30の代わりに偏光板200を貼り付けておくことが考えられる。しかし、この方法は、図11乃至図13で説明するような問題点を有している。
図11は、この方法におけるマザー基板400の平面図である。図11における有機ELセル410の配置は図4と同じである。しかし、図11では、第1キャリア基板の代わりに大判のマザー支持基板が、第2キャリア基板の代わりに、大判のマザー偏光板が上下に存在している。また、マザー基板が完成した後、分離線420に沿って有機ELセル410がマザー基板から分離することも図4と同じであるが、図11では、端子部から、偏光板を除去する必要があるので、ハーフカット線421が点線で記載されている。
図12は、図11のC−C断面図である。図12における有機ELセル410の配置は図5と同様であるが、フレキシブル基板100の下側に支持基板10が、アレイ層50の上側に偏光板400が配置している点が異なっている。さらに、有機ELセル毎の分離線420に加えて、端子部から偏光板200を除去するためのハーフカット線421が形成されている。なお、このハーフカット線421に沿う切り込みは有機ELセルがマザー基板から分離した後行っても良い。
図13は、マザー基板から分離された有機ELセルの断面図である。図13において、フレキシブル基板100の下には支持基板10が配置し、アレイ層50の上には偏光板200が接着している。支持基板10はフレキシブル基板100と強い接着力で接着し、かつ、偏光板200はアレイ層50および端子部と強い接着力で接着している。ハーフカット線421は、端子部から偏光板を除去するためのものである。
しかし、偏光板200は端子部と強い接着力で接着しているので、ハーフカット線421に添って偏光板に切り込みを入れても、偏光板200を端子部から剥離することができない。つまり、ハーフカット421を入れても、図13のA領域において、偏光板200の接着力が強いために、この部分の偏光板200を剥離することができない。
本発明は、このような問題を解決するものである。図14は本発明におけるマザー基板400である。図14において、有機ELセル410の配置は図4あるいは図11と同様である。ただし、図14においては、各有機ELセル410の端子部の偏光板200との界面に端子用樹脂が形成されている。
図15は図14のD−D断面図である。図15の有機ELセル410の配置は図12と同様である。フレキシブル基板100の下側に支持基板10が、また、アレイ層50の上側に偏光板200が配置している。ただし、有機ELセル410の端子部と偏光板200との界面には、端子部用中間層が形成されている。各有機ELセル410は分離線420に沿ってマザー基板から分離され、また、端子部とアレイ層との境界にハーフカット線421が形成されている。
有機ELセル410をマザー基板から分離する方法は、レーザービームを用いてもよいし、機械刃を用いてもよい。また、端子部から偏光板200を除去するためのハーフカット421もレーザービームをもちいてもよいし、機械刃を用いても良い。また、ハーフカット421はマザー基板の状態で行ってもよいし、各有機ELセルに分離した状態でおこなっても良い。
図16は、各有機ELセルに分離した状態で、レーザービームLBによって、ハーフカット421を形成している例である。偏光板200がポリエチレンテレフタレート(PET)によって形成されている場合、レーザービームLBは、9000〜10000nmのスペクトルを持つCO2レーザが好ましい。
しかし、図16のようにハーフカット421を形成しても、偏光板200の接着力が強いために、端子部から偏光板200は除去できない。本発明の特徴は端子部に端子部用中間層を形成し、図17に示すように、端子部用中間層と偏光板200との界面に焦点を当てたレーザービームLAを照射し、端子部をスキャンする。そうすると、端子部用中間層がレーザービームLBによって蒸発し、いわゆるレーザーアブレージョンによって、図18に示すように、端子部の偏光板200を剥離することが出来る。
端子部用中間層としては、偏光板200を形成する樹脂を透過する波長に吸収を持つ材料であることが好ましい。偏光板200を形成する樹脂が例えばポリエチレンテレフタレート(PET)である場合、端子部用中間層としては、例えばポリイミドを使用することができる。PETは例えば355nmの波長を比較的透過する。355nmに吸収を持つポリイミドとしては、例えばPMDA/ODAがある。
端子部用中間層は、フレキソ印刷あるいはインクジェット等を用いて端子部に塗布することができる。端子部用中間層の厚さは、例えば、100nm〜10μm、より好ましくは、500nm〜2μm程度である。355nmに吸収を持つ端子部用中間層をレーザーアブレージョンするには、例えば、YAGの第3高調波レーザー(波長355nm)を用いることができる。
図18のようにしてレーザーアブレージョンによって端子部から偏光板200を除去した後の端子部には端子部用中間層の残渣が存在している。この残渣を除去しないと、端子部にドライバIC、フレキシブル配線基板等の接続ができない。ところで、有機EL表示装置が完成した後、偏光板200の表面に傷がつかないように、図19に示すように、偏光板200の表面に、微粘着材を有する表面保護フィルム210が貼り付けられる。このような表面保護フィルム210はPETあるいはPP(ポリプロピレン)等を基材とし、微粘着材としてアクリル樹脂を配置したものであり、厚さは25乃至50μmである。
そこで、図19に示すように、この微粘着保護フィルム210をマスクにして、ドライエッチングあるいはプラズマアッシャーPAをかけることによって、ポリイミドの残渣を取り除くことができる。図19におけるPAは有機EL表示装置の表面にこのようなプラズマアッシャーをかけていることを示している。このようなプラズマアッシャーPAとしては酸素プラズマアッシャーを用いることができる。
そうすると、図20に示すように、有機EL表示装置の端子部が清浄化され、ドライバICの接続やフレキシブル配線基板の接続が可能になる。なお、表面保護フィルム210はポリイミドの残渣に比べてはるかに厚いので、プラズマアッシャーをかけても、表面保護フィルム210の外観はほとんど変化しない。
図21乃至図25は、以上で説明した、端子部から偏光板を剥離するプロセスを示す詳細断面図である。図21において、支持基板10の上にフレキシブル基板100であるポリイミドが厚さ10乃至20μmで形成されている。本発明では、支持基板10は剥離せず、そのまま製品用の支持基板として使用することができる。フレキシブル基板100の上には、図3で説明した基板側バリア層101が形成されている。基板側バリア層101の上には、配線層130が形成されているが、この配線層130は、図3におけるゲート電極、ドレイン電極等と同様な層に形成された配線の総称で、表示領域DAから端子部TAに延在している。
表示領域DAにはアレイ層50が形成されているが、この層は、図3における有機EL層等の総称である。アレイ層50を覆って、図3で説明したバンクを形成する有機膜と同じ有機膜111が形成されている。そして、有機膜111および配線層50を覆って表面バリア層114が形成されている。表面バリア層114は、表示領域DAのみでなく、端子部TAにも延在して配線層130を保護している。
本発明の特徴は、端子部において表面バリア層114を覆って、端子部用中間層が例えばポリイミドで形成されている点である。表面バリア層114および端子部用中間層を覆って偏光板200が粘着材201を介して接着している。図2において、ハーフカット線421に沿ってレーザービームLBを照射し、偏光板200および端子部用中間層を切断する。図21において、このハーフカット線421より左側が表示領域DAであり、右側が端子部TAである。
端子部用中間層は本発明の目的からは、端子部TAのみに形成されていればよいが、レーザービームによるハーフカットと端子部用中間層の端部を完全に一致させるのは不可能なので、端子部用中間層をハーフカット線421よりもやや表示領域DA側にrmだけはみ出して形成する。rmは例えば50乃至100μmである。こうすることによって、レーザービームLBによるハーフカット421あるいはレーザーアブレージョン時に、レーザービームの照射位置のばらつきに起因して、上層バリア114や電極層130等が損傷を受けることを防止することができる。
図22は、レーザービームによってハーフカットした後、端子部TAにおいて、端子部用中間層をレーザービームLAでスキャンしてレーザーアブレージョンを行っている状態を示す断面図である。図22において、ハーフカット421は実線で描かれており、偏光板200はすでにハーフカットされていることを示している。
図23は、レーザーアブレージョンによって、端子部TAにおける偏光板200が除去された状態を示す断面図である。端子部用中間層はレーザーアブレージョンによっては完全に取りきれず、端子部用中間層の一部は端子部TAに表面が荒れた状態になって残っている。
その後、図23の状態の有機ELセルの表示領域の偏光板200の上に微粘着性の保護フィルム210を貼り付ける。その後、図24に示すように、有機ELセルの表面にプラズマアッシャーPAをかけ、端子部用中間層の残渣を除去する。
図25はこのようにして形成された製品の端子部付近の断面図である。図25において、端子部用中間層がrmの範囲で、偏光板200の下で、表面バリア層114の上に残っている。これによって、製造ばらつきに起因してレーザーアブレージョン時に表面バリア層114等がレーザービームによる損傷を受けることを防止することができる。
ところで、端子部用中間層を厚く形成する必要がある場合、端子部用中間層がアレイ層50領域に流れ込むと表示品質を劣化させる。図26は、端子部用中間層がアレイ層50領域に流れこまないようにするための土手状のリブ170を形成した例である。このリブ170は、端子部と表示領域の境界に沿って土手状に形成される。リブ170の材料としては、例えば、アクリル樹脂を用いることができる。
その後の端子用樹脂の形成、レーザービームによるハーフカット。レーザーアブレージョンによる偏光板の剥離、端子部用樹脂の残渣の除去等は、図21乃至図24で説明したのと同様である。図27は本実施形態による製品における端子部付近の断面図である。図27において、端子部用中間層とリブ170がrmの範囲で、偏光板200の下で、表面バリア層114の上に残っている。これによって、レーザービーム照射位置のばらつきに起因して、レーザーアブレージョン時に表面バリア層114等が損傷を受けることを防止することができる。
以上で説明した本発明では、支持基板10としては、マザー基板として使用されたものが製品として使用されるものである。マザー基板において、製造ラインを通すためには、支持基板の厚さが0.5mm程度のガラスである必要があるような場合があり、一方、製品の支持基板としては、0.2mm以下であるような場合がある。このような場合は、マザー基板が完成後、マザー基板の状態において、支持基板を研磨して必要な薄さに形成することができる。
以上の説明では、表示領域を覆って偏光板が配置されている場合を説明した。しかし、反射防止のためには、偏光板には限らず、透過率の低い光学シートを貼り付けても良い。すなわち、外光の反射光は、光学シートを2回通過するが、発光素子からの光は、光学シートを1回通過するだけなので、光学シートの光透過率を低くすることによって、外光によるコントラストの劣化を防止することができる。本発明は、このような構成の場合にも適用することができる。この場合にも、光学シートによる光の吸収波長範囲と端子部用樹脂の光の吸収波長範囲は異ならせた方が良い。
また、以上で説明した本発明では、最終製品が支持基板を含むとして説明したが、フレキシブル表示装置の用途としては、必ずしも支持基板を必要としない場合もある。この場合は、最終工程において、レーザーアブレージョン等によって、樹脂で形成されたフレキシブル基板から、支持基板を剥離すればよい。
以上は、主として有機EL表示装置について説明した。一方、液晶表示装置でも、厚さを薄くすることによってフレキシブルな表示装置とすることができる。フレキシブルな液晶表示装置を形成する場合にも、以上で説明した本発明を適用することができる。
10…支持基板、 20…第1キャリア基板、 30…第2キャリア基板、 50…アレイ層、 100…フレキシブル基板、 101…基板側バリア層、 102…半導体層、 103…ゲート絶縁膜、 104…ゲート電極、 105…層間絶縁膜、 106…ドレイン電極、 107…ソース電極、 108…有機パッシベーション膜、 109…反射電極、 110…下部電極、 111…バンク、 112…有機EL層、 113…上部電極、 114…表面バリア層、 130…配線層、 150…端子部、 160…中間層、 170…リブ、 200…偏光板、 201…偏光板用粘着材、 210…表面保護フィルム、 300…フレキシブル配線基板、 310…ドライバIC、 400…マザー基板、 410…有機ELセル、 420…分離線、 421…ハーフカット線、 LB…ハーフカット用レーザービーム、 LA…アブレージョン用レーザービーム、 DA…表示領域、 TA…端子部、 rm…端子部用樹脂はみ出し範囲
Claims (20)
- 湾曲可能な基板の上に表示領域と端子部が形成され、
前記表示領域には、アレイ層が形成され、
前記アレイ層と前記端子部の間に、所定の幅で中間層が形成されており、
前記中間層は、前記アレイ層と前記端子部には重畳していないことを特徴とする表示装置。 - 前記表示領域には光学シートが貼り付けられ、前記光学シートと前記中間層はオーバーラップしていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記光学シートと前記中間層は異なる材料であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記光学シートと前記中間層は、光の吸収波長が異なることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記中間層はポリイミドであることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記光学シートはPETで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記光学シートは偏光板であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 湾曲可能な基板は樹脂シートによって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記樹脂シートはポリイミドで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記中間層は、前記表示領域に形成された無機膜で形成された表面バリア層の上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記中間層と前記アレイ層との間には、土手状のリブが形成され、前記リブは前記中間層と接触していることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- および前記中間層は前記光学シートと
前記表示領域には光学シートが貼り付けられ、前記光学シートと前記中間層及び前記土手状リブはオーバーラップしていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記湾曲可能な基板の背面には支持基板が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記支持基板はガラスであることを特徴とする請求項13に記載の表示装置。
- 前記表示装置は有機EL表示装置であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記表示装置は液晶表示装置であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- フレキシブル表示装置の製造方法であって、
支持基板の上にフレキシブル基板を形成し、
前記フレキシブル基板の上に表示領域と端子部を形成し、
前記表示領域にアレイ層を形成し、
前記端子部に中間層を形成し、
前記アレイ層と前記中間層を覆って光学シートを貼り付け、
前記光学シートを前記表示領域と前記端子部との境界において切断し、
前記端子部に形成された前記中間層をアブレージョンすることによって、前記端子部を覆う前記光学シートを除去することを特徴とするフレキシブル表示装置の製造方法。 - 前記端子部に残った前記中間層の残渣をプラズマアッシャーまたはドライエッチングによって除去することを特徴とする請求項17に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
- フレキシブル表示装置の製造方法であって、
支持基板の上にフレキシブル基板を形成し、
前記フレキシブル基板の上に表示領域と端子部を形成し、
前記表示領域にアレイ層を形成し、
前記アレイ層と前記端子部との間に土手状にリブを形成し、
前記リブをストッパーとして、前記端子部に樹脂を塗布し、焼成して中間層とし、
前記アレイ層と前記中間層を覆って光学シートを貼り付け、
前記光学シートを前記表示領域と前記端子部との境界において切断し、
前記端子部に形成された前記中間層をアブレージョンすることによって、前記端子部を覆う前記光学シートを除去することを特徴とするフレキシブル表示装置の製造方法。 - 前記端子部に残った前記中間層の残渣をプラズマアッシャーまたはドライエッチングによって除去することを特徴とする請求項19に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016102474A JP2017211420A (ja) | 2016-05-23 | 2016-05-23 | 表示装置及びその製造方法 |
US15/478,347 US20170338441A1 (en) | 2016-05-23 | 2017-04-04 | Display device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016102474A JP2017211420A (ja) | 2016-05-23 | 2016-05-23 | 表示装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017211420A true JP2017211420A (ja) | 2017-11-30 |
Family
ID=60331066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016102474A Pending JP2017211420A (ja) | 2016-05-23 | 2016-05-23 | 表示装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170338441A1 (ja) |
JP (1) | JP2017211420A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020197678A (ja) * | 2019-06-05 | 2020-12-10 | 株式会社Joled | 表示装置および表示装置の製造方法 |
US11450834B2 (en) | 2018-02-27 | 2022-09-20 | Japan Display Inc. | Display device including an adhesive bonded polarization plate |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR20200021577A (ko) * | 2018-08-20 | 2020-03-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR102608963B1 (ko) * | 2019-03-19 | 2023-12-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
EP3785897B1 (en) | 2019-08-29 | 2021-12-29 | SHPP Global Technologies B.V. | Transparent, flexible, impact resistant, multilayer film comprising polycarbonate copolymers |
CN110556059A (zh) * | 2019-09-03 | 2019-12-10 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性显示装置及提升其稳定性的方法 |
-
2016
- 2016-05-23 JP JP2016102474A patent/JP2017211420A/ja active Pending
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2017
- 2017-04-04 US US15/478,347 patent/US20170338441A1/en not_active Abandoned
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US11963380B2 (en) | 2018-02-27 | 2024-04-16 | Japan Display Inc. | Display device including an adhesive bonded polarization plate |
JP2020197678A (ja) * | 2019-06-05 | 2020-12-10 | 株式会社Joled | 表示装置および表示装置の製造方法 |
JP7373104B2 (ja) | 2019-06-05 | 2023-11-02 | JDI Design and Development 合同会社 | 表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170338441A1 (en) | 2017-11-23 |
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