JP5201315B2 - 電気めっき方法 - Google Patents
電気めっき方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5201315B2 JP5201315B2 JP2007248643A JP2007248643A JP5201315B2 JP 5201315 B2 JP5201315 B2 JP 5201315B2 JP 2007248643 A JP2007248643 A JP 2007248643A JP 2007248643 A JP2007248643 A JP 2007248643A JP 5201315 B2 JP5201315 B2 JP 5201315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- bath
- electroplating
- tank
- conductive agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
特に、陰極となる被めっき物及び陽極が浸漬されてめっきが実施されるめっき本槽と、めっき本槽との間で電気めっき浴が循環可能に連結した循環槽とを設け、循環槽に上記めっき浴成分を補給し、めっき本槽と循環槽との間でめっき浴を循環させて上記めっき浴成分を希釈及び/又は溶解させること、その場合、更に、循環槽からめっき本槽へ電気めっき浴が戻される流路にフィルターを設けて、循環槽からめっき本槽への粉体状のめっき浴成分の流入を抑制しつつめっき浴成分を希釈及び/又は溶解させることが有効であることを見出し、本発明をなすに至った。
[1] めっき浴成分として、コバルト、ニッケル及び鉄から選ばれる1種以上の金属のイオン、緩衝剤、導電剤並びにハロゲン化物イオンを含む電気めっき浴により可溶性陽極又は不溶性陽極を用いて被めっき物を繰り返し電気めっきする方法であって、
陰極となる被めっき物及び陽極が浸漬されてめっきが実施されるめっき本槽と、該めっき本槽との間で電気めっき浴が循環可能に連結した循環槽とを設けると共に、
建浴時の電気めっき浴中の上記導電剤の濃度をその飽和濃度の70〜95%とし、めっきを繰り返すことにより減少した電気めっき浴中の各々のめっき浴成分を、
めっき浴成分の補給時に電気めっきを停止し、
上記金属イオンを与える粉体状の金属塩、粉体状の緩衝剤、粉体状の導電剤、ハロゲン化物イオンを与える粉体状のハロゲン化物塩、又は上記金属イオンを与える金属塩、緩衝剤、導電剤、及びハロゲン化物イオンを与えるハロゲン化物塩から選ばれる1種以上が飽和した飽和液若しくは懸濁した懸濁液として上記循環槽の電気めっき浴に添加することにより補給すると共に、
めっき浴成分の補給後に、
上記めっき本槽からオーバーフローした電気めっき浴を上記循環槽に導入し、該循環槽からめっき本槽へ、上記循環槽に補給されためっき浴成分を含む電気めっき浴を返送し、
上記めっき本槽と上記循環槽との間で電気めっき浴を循環させることにより、上記めっき浴成分を希釈及び/又は溶解させて電気めっき浴を均一化し、
上記めっき浴成分を補給した後の電気めっき浴中の上記導電剤の濃度をその飽和濃度の70〜95%に調整して電気めっきを再開し、電気めっきを繰り返すことを特徴とする電気めっき方法、
[2] 上記めっき浴成分を上記懸濁液で上記循環槽に補給すると共に、上記循環槽から上記めっき本槽へ電気めっき浴が戻される返送路にフィルターを設けて、上記循環槽に補給された粉末状で存在しているめっき浴成分を、上記フィルターにより、上記循環槽から上記めっき本槽への粉体状のめっき浴成分の流入を抑制しつつ上記めっき浴成分を希釈及び/又は溶解させることを特徴とする[1]記載の電気めっき方法、及び
[3] 上記導電剤が硫酸塩であることを特徴とする[1]又は[2]記載の電気めっき方法
を提供する。
本発明は、めっき浴成分として、コバルト、ニッケル及び鉄から選ばれる1種以上の金属のイオン、緩衝剤、導電剤並びにハロゲン化物イオンを含む電気めっき浴により可溶性陽極又は不溶性陽極を用いて被めっき物を繰り返し電気めっきする方法であり、建浴時の電気めっき浴中の上記導電剤の濃度をその飽和濃度の70〜95%とし、めっきを繰り返すことにより減少した電気めっき浴中の各々のめっき浴成分を、上記金属イオンを与える粉体状の金属塩、粉体状の緩衝剤、粉体状の導電剤、ハロゲン化物イオンを与える粉体状のハロゲン化物塩、又は上記金属イオンを与える金属塩、緩衝剤、導電剤、及びハロゲン化物イオンを与えるハロゲン化物塩から選ばれる1種以上が飽和した飽和液若しくは懸濁した懸濁液として上記電気めっき浴に添加することにより補給すると共に、上記めっき浴成分を補給した後の電気めっき浴中の上記導電剤の濃度をその飽和濃度の70〜95%に調整して電気めっきを繰り返す方法である。
T(%)=[(P−M)/(P+M−2)]×100
T:均一電着性
P:5(陽極と陰極との距離比)
M:2枚の陰極に析出しためっき皮膜の質量比
表1に示される電気めっき浴Aをめっき槽に1,000L入れて建浴し、この電気めっき浴中に100dm2の被めっき面を有する被めっき物を入れ、55℃、1A/dm2の条件で20分間めっきする操作を繰り返した。
めっき浴をハーリングセルに移し、陽極板と、陰極板とを距離比5で測定した場合の、下記式で示される均一電着性(T)が35%以上を示すものを「良」、35未満のものを「不良」とした。
T(%)=[(P−M)/(P+M−2)]×100
T:均一電着性
P:5(陽極と陰極との距離比)
M:2枚の陰極に析出しためっき皮膜の質量比
得られためっき皮膜を目視で観察し、ハルセル(高電流密度部分から低電流密度部分まで観察可能)でのめっき外観が均一で、著しい外観むらがないものを「良」、不均一で、めっき外観むらがあるものを「不良」とした。
懸濁液Bの代わりに表2に示される懸濁液Cを用いた以外は、実施例1と同様にして電気めっきを繰り返し、上記各回におけるめっき皮膜の均一電着性とめっき皮膜外観を評価した。結果を表3に示す。
懸濁液Bの代わりに表2に示される懸濁液Dを用いた以外は、実施例1と同様にして電気めっきを繰り返し、上記各回におけるめっき皮膜の均一電着性とめっき皮膜外観を評価した。結果を表3に示す。
懸濁液Bの代わりに表2に示される懸濁液Eを用いた以外は、実施例1と同様にして電気めっきを繰り返し、上記各回におけるめっき皮膜の均一電着性とめっき皮膜外観を評価した。結果を表3に示す。
懸濁液Bの代わりに表2に示される粉末状のめっき浴成分Fを用いた以外は、実施例1と同様にして電気めっきを繰り返し、上記各回におけるめっき皮膜の均一電着性とめっき皮膜外観を評価した。結果を表3に示す。
表1に示される電気めっき浴Aをめっき槽に1,000L入れて建浴し、この電気めっき浴中に100dm2の被めっき面を有する被めっき物を入れ、55℃、1A/dm2の条件で20分間めっきする操作を繰り返した。
懸濁液Bの代わりに表1に示される建浴時のめっき浴Aを用いた以外は、実施例1と同様にして電気めっきを繰り返し、上記各回におけるめっき皮膜の均一電着性とめっき皮膜外観を評価した。結果を表3に示す。
Claims (3)
- めっき浴成分として、コバルト、ニッケル及び鉄から選ばれる1種以上の金属のイオン、緩衝剤、導電剤並びにハロゲン化物イオンを含む電気めっき浴により可溶性陽極又は不溶性陽極を用いて被めっき物を繰り返し電気めっきする方法であって、
陰極となる被めっき物及び陽極が浸漬されてめっきが実施されるめっき本槽と、該めっき本槽との間で電気めっき浴が循環可能に連結した循環槽とを設けると共に、
建浴時の電気めっき浴中の上記導電剤の濃度をその飽和濃度の70〜95%とし、めっきを繰り返すことにより減少した電気めっき浴中の各々のめっき浴成分を、
めっき浴成分の補給時に電気めっきを停止し、
上記金属イオンを与える粉体状の金属塩、粉体状の緩衝剤、粉体状の導電剤、ハロゲン化物イオンを与える粉体状のハロゲン化物塩、又は上記金属イオンを与える金属塩、緩衝剤、導電剤、及びハロゲン化物イオンを与えるハロゲン化物塩から選ばれる1種以上が飽和した飽和液若しくは懸濁した懸濁液として上記循環槽の電気めっき浴に添加することにより補給すると共に、
めっき浴成分の補給後に、
上記めっき本槽からオーバーフローした電気めっき浴を上記循環槽に導入し、該循環槽からめっき本槽へ、上記循環槽に補給されためっき浴成分を含む電気めっき浴を返送し、
上記めっき本槽と上記循環槽との間で電気めっき浴を循環させることにより、上記めっき浴成分を希釈及び/又は溶解させて電気めっき浴を均一化し、
上記めっき浴成分を補給した後の電気めっき浴中の上記導電剤の濃度をその飽和濃度の70〜95%に調整して電気めっきを再開し、電気めっきを繰り返すことを特徴とする電気めっき方法。 - 上記めっき浴成分を上記懸濁液で上記循環槽に補給すると共に、上記循環槽から上記めっき本槽へ電気めっき浴が戻される返送路にフィルターを設けて、上記循環槽に補給された粉末状で存在しているめっき浴成分を、上記フィルターにより、上記循環槽から上記めっき本槽への粉体状のめっき浴成分の流入を抑制しつつ上記めっき浴成分を希釈及び/又は溶解させることを特徴とする請求項1記載の電気めっき方法。
- 上記導電剤が硫酸塩であることを特徴とする請求項1又は2記載の電気めっき方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007248643A JP5201315B2 (ja) | 2007-09-26 | 2007-09-26 | 電気めっき方法 |
CN 200810166295 CN101397692B (zh) | 2007-09-26 | 2008-09-25 | 电镀方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007248643A JP5201315B2 (ja) | 2007-09-26 | 2007-09-26 | 電気めっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009079247A JP2009079247A (ja) | 2009-04-16 |
JP5201315B2 true JP5201315B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=40516527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007248643A Expired - Fee Related JP5201315B2 (ja) | 2007-09-26 | 2007-09-26 | 電気めっき方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5201315B2 (ja) |
CN (1) | CN101397692B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012162786A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-08-30 | Kanto Gakuin | 電気ニッケルめっき浴、電気ニッケルめっき方法及び電気ニッケルめっき製品 |
KR101665617B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2016-10-14 | 주식회사 필머티리얼즈 | 저열팽창 철-니켈-코발트 3원계 합금의 전주도금 조성물 및 이를 이용하여 전주도금된 저열팽창 철-니켈-코발트 3원계 합금 |
CN107119289A (zh) * | 2017-05-08 | 2017-09-01 | 安徽长青电子机械(集团)有限公司 | 一种提高均镀性的电镀方法 |
CN107245739A (zh) * | 2017-05-08 | 2017-10-13 | 安徽长青电子机械(集团)有限公司 | 一种电镀方法 |
US11035048B2 (en) * | 2017-07-05 | 2021-06-15 | Macdermid Enthone Inc. | Cobalt filling of interconnects |
KR102647950B1 (ko) * | 2017-11-20 | 2024-03-14 | 바스프 에스이 | 레벨링제를 포함하는 코발트 전기도금용 조성물 |
JP6969688B2 (ja) * | 2018-09-05 | 2021-11-24 | 日本製鉄株式会社 | 電気めっき浴、電気めっき製品の製造方法、及び電気めっき装置 |
CN110318090B (zh) * | 2019-08-08 | 2021-08-31 | 湖南金康电路板有限公司 | 一种印刷电路板电镀装置及电镀方法 |
CN111850643A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-10-30 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种引线框架的电镀方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH572989A5 (ja) * | 1973-04-27 | 1976-02-27 | Oxy Metal Industries Corp | |
JPS60138096A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-22 | C Uyemura & Co Ltd | めつき方法 |
JPS62109991A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-05-21 | C Uyemura & Co Ltd | 電気めつき液 |
JPS6383300A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-13 | Toshiba Corp | 情報記録デイスク用スタンパの製造装置 |
JPS63270492A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-08 | Katsukawa Mikaroomu Kogyo Kk | 不溶性陽極を用いる工業用ニツケルめつき法 |
JP2712661B2 (ja) * | 1989-11-15 | 1998-02-16 | 住友金属工業株式会社 | 電気メッキ浴の調整方法 |
CN1021237C (zh) * | 1991-05-14 | 1993-06-16 | 沈阳电镀厂 | 稀土永磁体电镀多层镍的方法 |
JP2982658B2 (ja) * | 1994-06-10 | 1999-11-29 | 上村工業株式会社 | 電気めっき液中の金属濃度の低下方法 |
JP3659479B2 (ja) * | 2000-03-10 | 2005-06-15 | スズキ株式会社 | めっき処理装置及びこの装置を用いためっき処理方法 |
-
2007
- 2007-09-26 JP JP2007248643A patent/JP5201315B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-09-25 CN CN 200810166295 patent/CN101397692B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009079247A (ja) | 2009-04-16 |
CN101397692B (zh) | 2012-12-26 |
CN101397692A (zh) | 2009-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5201315B2 (ja) | 電気めっき方法 | |
JP4221064B2 (ja) | 銅層の電解析出方法 | |
JP5293276B2 (ja) | 連続電気銅めっき方法 | |
US20160024683A1 (en) | Apparatus and method for electrolytic deposition of metal layers on workpieces | |
JP2007262430A (ja) | 電気めっき方法 | |
US10538854B2 (en) | Copper-nickel alloy electroplating device | |
US1993623A (en) | Electrodeposition of platinum metals | |
JP5688145B2 (ja) | ニッケルのpHを調整する方法及び装置 | |
US2984603A (en) | Platinum plating composition and process | |
TW201905243A (zh) | 用於在基板上沉積裝飾用鎳塗層之鎳電鍍浴 | |
US11946152B2 (en) | Method and system for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate | |
US2489523A (en) | Electrodeposition of tin or lead-tin alloys | |
JP5086290B2 (ja) | 黒色めっき皮膜及びその皮膜形成方法 | |
JP2022142176A (ja) | 電気ニッケルめっき液および電気ニッケルめっき方法 | |
CN114108031B (zh) | 一种环保无氰碱性镀铜细化剂及其制备方法 | |
JPH0853799A (ja) | 電気めっき液中の金属濃度の低下方法 | |
JP6969688B2 (ja) | 電気めっき浴、電気めっき製品の製造方法、及び電気めっき装置 | |
JP2012237050A (ja) | 不溶性陽極を用いた硫酸銅めっき方法とそのための装置 | |
RU2720269C1 (ru) | Способ получения коррозионностойкого электрохимического покрытия цинк-никель-кобальт | |
JPH04116191A (ja) | 電気めっき方法 | |
US6179985B1 (en) | Metal alloy fluoroborate electroplating baths | |
TW202407161A (zh) | 在基材上沉積鋅鎳合金的方法、水性鋅鎳沉積浴、光亮劑及其用途 | |
US20230160083A1 (en) | Electrolyte and method for producing chromium layers | |
Shim et al. | Electrochemical Study of the Effect of Additives on High Current Density Copper Electroplating | |
RU2536127C2 (ru) | Кислый электролит для серебрения |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100809 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121114 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5201315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160222 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |