RU2536127C2 - Кислый электролит для серебрения - Google Patents
Кислый электролит для серебрения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2536127C2 RU2536127C2 RU2010108653/02A RU2010108653A RU2536127C2 RU 2536127 C2 RU2536127 C2 RU 2536127C2 RU 2010108653/02 A RU2010108653/02 A RU 2010108653/02A RU 2010108653 A RU2010108653 A RU 2010108653A RU 2536127 C2 RU2536127 C2 RU 2536127C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electrolyte
- acid
- gelatin
- thiourea
- silver nitrate
- Prior art date
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для нанесения финишного серебряного покрытия при изготовлении печатных плат. Кислый электролит серебрения содержит нитрат серебра, используемый в качестве растворимого соединения, сульфаминовую кислоту и тиомочевину, используемые в качестве реагентов, обеспечивающих стабильность электролита, структуроформирующие добавки в виде желатины, неионогенного поверхностно-активного вещества и один или несколько видов продуктов из меркапто-соединений, при этом он содержит упомянутые компоненты в водном растворе, имеющем рН от 0 до 3, при следующем соотношении, г/л: нитрат серебра (по Ag) 10-20, сульфаминовую кислоту 10-20, тиомочевину 130-150, желатину 0,5-1,5, неионогенное поверхностно-активное вещество 1-3, один или несколько видов продуктов из меркапто-соединений 0,1-1,0. Технический результат - создание кислого электролита серебрения, обеспечивающего осаждение на печатные платы плотного однородного мелкокристаллического покрытия, не имеющего внешних дефектов и не вызывающего разрушение и отслаивание пленки органического фоторезиста в процессе нанесения покрытия. 4 пр.
Description
Изобретение относится к области электролитического осаждения металлов и рекомендуется для нанесения финишного серебряного покрытия при изготовлении печатных плат.
Широко используемые в настоящее время электролиты для нанесения серебряных покрытий, в том числе нецианистые, такие как пирофосфатные, йодистые, аммиакатные, роданистые, роданисто-синеродистые, сульфосалицилатные работают в диапазоне рН 8-10, что вызывает разрушение и отслаивание пленки органического фоторезиста на печатной плате, которая присутствует на поверхности платы при нанесении на нее покрытия.
Наиболее близким к заявляемому техническому решению является электролит фирмы ENTHONE [US] (1), недостатком которого является то, что сульфоновая кислота (или ее производные), входящая в состав электролита, обладает значительно большей коррозионной активностью, чем сульфаминовая, что отрицательно сказывается на устойчивости пленки органического фоторезиста.
Задачей настоящего изобретения является создание кислого электролита серебрения, обеспечивающего осаждение из него плотного однородного мелкокристаллического покрытия на печатные платы, не имеющего внешних дефектов и не вызывающего разрушение и отслаивание пленки органического фоторезиста в процессе нанесения покрытия.
Поставленная задача решается кислым электролитом серебрения, в состав которого входят нитрат серебра, используемый в качестве растворимого соединения, сульфаминовая кислота и тиомочевина, используемые в качестве реагентов, обеспечивающих стабильность кислого электролита, и структуроформирующие добавки: желатина, неионогенное поверхностно-активное вещество и один или несколько видов продуктов из меркапто-соединений, отличающимся тем, что упомянутые компоненты содержатся в водном растворе, имеющем рН от 0 до 3, при следующем соотношении, г/л:
Нитрат серебра | 10-20 (по Аg) |
Сульфаминовая кислота | 10-20 |
Тиомочевина | 130-150 |
Желатина | 0,5-1,5 |
Неионогенное поверхностно-активное вещество | 1-3 |
Один или несколько видов продуктов из меркаптогруппы | 0,1-1 |
Рекомендуемое содержание компонентов электролита в его рабочем состоянии обусловлено следующим.
Увеличение концентрации серебра выше 20 г/л нецелесообразно, поскольку показатели процесса не улучшаются, но увеличивается расход серебра. Снижение концентрации серебра ниже 10 г/л может привести к снижению скорости процесса электроосаждения.
Содержание сульфаминовой кислоты предпочтительно в диапазоне 10-20 г/л. При содержании кислоты ниже 10 г/л ухудшается стабильность гальванической ванны, что может приводить к выпадению осадка, а превышение 20 г/л не дает дополнительного эффекта улучшения показателей процесса.
Тиомочевина действует как дополнительный реагент к серебру, обеспечивающий стабильность раствора. Содержание тиомочевины предпочтительно от 130 до 150 г/л. Ниже 130 г/л невозможно в достаточной степени получить эффект стабильности, а превышение 150 г/л не дает дополнительного эффекта улучшения показателей процесса.
Желатина является одной из структуроформирующих добавок, обеспечивающих выделение серебра хорошего внешнего вида, с отсутствием игольчатых, дендритных или порошкообразных осадков. Содержание желатины целесообразно от 0,5 до 1,5 г/л. При содержании желатины ниже 0,5 г/л не достигается необходимое качество серебряного осадка, а превышение 1,5 г/л не дает дополнительного улучшения качества осадка.
В качестве применяемых в составе электролита неионогенных поверхностно-активных веществ (ПАВ) могут быть полиоксиэтиленалкилэфир, полиоксиэтиленалкилфенилэфир, полиоксиэтиленалкиламиноэфир, эфир полиоксиэтиленовой жирной кислоты, а также полиэтиленгликоли (полиоксиэтилены, полиэтиленоксиды), предпочтительно из ряда низкомолекулярных. Содержание этого компонента предпочтительно в диапазоне от 1 до 3 г/л. Ниже 1 г/л при повышении плотности тока может наблюдаться подгар на осадке, а превышение 3 г/л не дает дополнительного улучшения качества осадка.
Добавка, выбираемая из меркаптогруппы, содержащей ароматический компаунд, противодействует появлению дендритных, крупнокристаллических или порошкообразных осадков. Характерными продуктами из этой группы являются 2-меркаптобензойная кислота, 2-меркаптобензооксазол и 2-меркаптобензотиазол. Содержание добавок предпочтительно в диапазоне от 0,1 до 1 г/л. Когда содержание вышеуказанной добавки находится ниже нижнего предела, возможно образование некачественных (игольчатых, дендритных, гранулярных или порошкообразных) осадков. Когда оно превышает верхний предел, возможна неоднородность цвета покрытия.
Пример 1 | |
Нитрат серебра | 10 г (по Аg) |
Сульфаминовая кислота | 10 г |
Тиомочевина | 130 г |
Желатина | 0,5 |
Полиэтиленгликоль 1000 | 1 г |
2-меркаптобензойная кислота | 0,1 г |
Вода | Остальное - до 1 л |
Пример 2 | |
Нитрат серебра | 20 г (по Ад) |
Сульфаминовая кислота | 20 г |
Тиомочевина | 150 г |
Желатина | 1,5 г |
Полиоксиэтиленлаурил эфир | 3 г |
2-меркаптобензотиазол кислота | 0,1-1 г |
Вода | Остальное - до 1 л |
Пример 3 | |
Нитрат серебра | 15 г (по Аg) |
Сульфаминовая кислота | 15 г |
Тиомочевина | 140 г |
Желатина | 1 г |
Полиоксиэтиленлаурил эфир | 1,5 г |
2-меркаптобензотиазол кислота | 0,5 г |
Вода | Остальное - до 1 л |
Пример 4 | |
Нитрат серебра | 15 г (по Аg) |
Сульфаминовая кислота | 15 г |
Тиомочевина | 140 г |
Желатина | 1 г |
Полиэтиленгликоль 1000 | 1,5 г |
2-меркаптобензотиазол | 0,5 г |
Вода | Остальное - до 1 л |
Контроль качества электроосаждения проводился с использованием вышеописанного электролита при следующих условиях. Покрытие наносилось в гальванической ванне на печатные платы, закрепленные на подвески. Перемешивание электролита осуществлялось за счет возвратно-поступательного перемещения катодной штанги, на которой закреплялись подвески с платами. Аноды растворимые, серебряные. Плотность катодного тока 30 А/м2. Температура от 35 до 45°С. Время 15 мин. Скорость осаждения при катодной плотности тока 30 А/м2 - 0,2 мкм/мин.
Полученные таким образом серебряные осадки подвергались визуальному контролю. Результаты контроля показали, что каждое покрытие из Примеров 1-4 было плотное, однородное, мелкокристаллическое, полублестящее. Покрытие не имело дефектов внешнего вида, т.е. в нем не было игольчатых, дендритных или порошкообразных осадков. Разрушения и отслаивания пленки органического фоторезиста в процессе нанесения покрытия не наблюдалось.
Изобретение обеспечивает нанесение качественного покрытия в течение длительного периода эксплуатации электролита.
Используемая литература
1. Патент ЕР1918426, 2008 г.
Claims (1)
- Кислый электролит серебрения, содержащий нитрат серебра, используемый в качестве растворимого соединения, сульфаминовую кислоту и тиомочевину, используемые в качестве реагентов, обеспечивающих стабильность электролита, структуроформирующие добавки в виде желатины, неионогенного поверхностно-активного вещества и один или несколько видов продуктов из меркапто-соединений, отличающийся тем, что он содержит упомянутые компоненты в водном растворе, имеющем рН от 0 до 3, при следующем соотношении, г/л:
нитрат серебра 10-20 (по Аg) сульфаминовая кислота 10-20 тиомочевина 130-150 желатина 0,5-1,5 неионогенное поверхностно-активное вещество 1-3 один или несколько видов продуктов из меркаптосоединений 0,1-1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2010108653/02A RU2536127C2 (ru) | 2010-03-09 | 2010-03-09 | Кислый электролит для серебрения |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2010108653/02A RU2536127C2 (ru) | 2010-03-09 | 2010-03-09 | Кислый электролит для серебрения |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010108653A RU2010108653A (ru) | 2011-09-20 |
RU2536127C2 true RU2536127C2 (ru) | 2014-12-20 |
Family
ID=44758328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010108653/02A RU2536127C2 (ru) | 2010-03-09 | 2010-03-09 | Кислый электролит для серебрения |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2536127C2 (ru) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU583209A1 (ru) * | 1971-04-12 | 1977-12-05 | Казанский Химико-Технологический Институт Им.С.М.Кирова | Электролит серебрени |
SU679649A1 (ru) * | 1978-03-03 | 1979-08-15 | Войсковая часть 75360 | Электролит серебрени |
SU796250A1 (ru) * | 1978-02-20 | 1981-01-15 | Киевский Ордена Ленина Политехни-Ческий Институт Им. 50-Летия Великойоктябрьской Социалистической Револю-Ции | Способ электролитического осаждени СЕРЕбРА HA МЕТАлличЕСКиЕ издЕли |
RU2323276C2 (ru) * | 2006-03-23 | 2008-04-27 | Закрытое акционерное общество "Драгцветмет" (ЗАО "Драгцветмет") | Электролит серебрения |
EP1918426A1 (de) * | 2006-10-09 | 2008-05-07 | Enthone, Inc. | Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung und Verfahren zur Abscheidung von Silber- oder Silberlegierungsschichten auf Substraten |
-
2010
- 2010-03-09 RU RU2010108653/02A patent/RU2536127C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU583209A1 (ru) * | 1971-04-12 | 1977-12-05 | Казанский Химико-Технологический Институт Им.С.М.Кирова | Электролит серебрени |
SU796250A1 (ru) * | 1978-02-20 | 1981-01-15 | Киевский Ордена Ленина Политехни-Ческий Институт Им. 50-Летия Великойоктябрьской Социалистической Револю-Ции | Способ электролитического осаждени СЕРЕбРА HA МЕТАлличЕСКиЕ издЕли |
SU679649A1 (ru) * | 1978-03-03 | 1979-08-15 | Войсковая часть 75360 | Электролит серебрени |
RU2323276C2 (ru) * | 2006-03-23 | 2008-04-27 | Закрытое акционерное общество "Драгцветмет" (ЗАО "Драгцветмет") | Электролит серебрения |
EP1918426A1 (de) * | 2006-10-09 | 2008-05-07 | Enthone, Inc. | Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung und Verfahren zur Abscheidung von Silber- oder Silberlegierungsschichten auf Substraten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2010108653A (ru) | 2011-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102758228B (zh) | 一种磺酸型半光亮纯锡电镀液 | |
JP2009041097A (ja) | 銅めっき方法 | |
EP2476779B1 (en) | Immersion tin or tin alloy plating bath with improved removal of cupurous ions | |
CN1190523C (zh) | 用于电镀锡-银合金镀层的电解液和方法 | |
JP5201315B2 (ja) | 電気めっき方法 | |
JP5452458B2 (ja) | ニッケルめっき液及びニッケルめっき方法 | |
EP1819848A1 (en) | Near neutral ph tin electroplating solution | |
CN110331392B (zh) | 一种化学镀锡液及其制备方法 | |
JP2007262430A (ja) | 電気めっき方法 | |
CN104131320A (zh) | 一种含硫羰基络合剂的无氰亚铜电镀铜溶液及其稳定化方法 | |
KR101255911B1 (ko) | 전해동 도금액 조성물 | |
JP6448634B2 (ja) | スズを金でドープすることによりスズ表面及びスズめっき表面上でのスズウィスカの成長を軽減するための方法及び装置 | |
RU2536127C2 (ru) | Кислый электролит для серебрения | |
JP2001107287A (ja) | Sn−Cu合金めっき浴 | |
EP3178969B1 (en) | Copper-tin alloy plating bath | |
ES2298799T3 (es) | Solucion acidica acuosa y metodo para depositar electroliticamente recubrimientos de cobre asi como el uso de dicha solucion. | |
KR101998605B1 (ko) | 아연니켈합금 전기도금액 및 이를 이용한 전기도금법 | |
WO1993018211A1 (en) | Cyanide-free copper plating bath and process | |
CN111876805B (zh) | 通过将锡与锗掺杂减轻锡和镀锡表面上的锡须生长的方法和装置 | |
CN104264195A (zh) | 一种巯基咪唑无氰镀金的电镀液及其电镀方法 | |
JP2020117803A (ja) | インジウム電気めっき組成物及びインジウムをニッケル上に電気めっきするための方法 | |
RU2313621C1 (ru) | Электролит низкоконцентрированный для нанесения полублестящего покрытия сплавом олово-цинк | |
CZ20011633A3 (cs) | Vodný roztok pro elektrolytické pokovování slitinami cínu a zinku | |
CN105441995A (zh) | 一种氨基葡萄糖酸无氰镀金的电镀液及其电镀方法 | |
JP2020029582A (ja) | すず合金電気めっき浴及びそれを用いためっき方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180310 |