JP5200886B2 - 液晶装置および投射型表示装置 - Google Patents

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本発明は、液晶装置および投射型表示装置に関するものである。
液晶プロジェクタ等の投射型表示装置における光変調手段として、液晶装置が用いられている。液晶装置は、一対の基板により液晶層を挟持して構成されている。その一対の基板の内側には、液晶層に対して電界を印加する電極が形成されている。その電極の内側には、液晶分子の配向状態を規制する配向膜が形成されている。そして、非選択電圧印加時と選択電圧印加時との液晶分子の配向変化に基づいて、画像光が形成されるようになっている。
従来の液晶装置を用いた投射型表示装置は、投影画像のコントラスト比が1:500程度しかなく、DMD(登録商標)等の機械式シャッタを用いた投射型表示装置のコントラスト比1:3000と比べて見劣りがしていた。その原因は、液晶装置の視角特性にある。そもそも、投射型表示装置の光変調手段に入射する光源光は、完全な平行光ではない。ところが、光変調手段として用いられる液晶装置には入射角依存性があるため、これが投影画像のコントラスト比を低下させる原因になっている。
そこで、液晶装置の入射角依存性を補償するため、光学補償板が採用されている。この光学補償板は、負の屈折率異方性を示すディスコティック液晶をハイブリッド配向させたものである(例えば、特許文献1および非特許文献1参照)。このハイブリッド配向により、光学補償板は、その法線方向から見た場合に遅相軸および進相軸を備えている。そのため、光学補償板は法線方向に位相差を有することになる。
図13は、特許文献1に記載された光学補償板における位相差の視角依存性を示すグラフである。図13によれば、光学補償板に対する視角が0°の場合の位相差、すなわち光学補償板の法線方向における位相差は、40nm程度であることがわかる。また特許文献2には、光学補償板の法線方向における位相差が、70nmおよび80nmである例が開示されている。
そして、液晶パネルにおける光入射側の基板の外側には第1光学補償板が配置され、光出射側の基板の外側には第2光学補償板が配置されている。第1光学補償板および第2光学補償板は、各光学補償板の法線方向から見た場合の進相軸方向(すなわち、ディスコティック液晶の配向規制方向であり、図5の矢印71で示すX軸方向)が、対応する基板における配向膜の配向規制方向と略一致するように配置されている。なお、液晶パネルの各基板の配向規制方向は略直交するため、各光学補償板の配向規制方向も略直交するように配置されている。
特開平8−50206号公報 特開平9−15587号公報 森裕行、「液晶ディスプレイ入門講座第11回:ディスコティック光学補償膜によるTFT−LCDの視野角拡大技術」、液晶、日本液晶学会、2002年1月25日、第6巻、第1号、p84−92
しかしながら、光学補償板は本来、直視型の液晶パネルのために開発されたものであり、広い視角範囲で高いコントラスト比が得られるように設計されている。これに対して、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度は、せいぜい極角12°程度である。そして、その狭い角度範囲の入射光によって投影画像が構成されることになる。そのため、その狭い視角範囲で、さらに高いコントラスト比が得られるような液晶装置の開発が望まれている。
ところで、液晶パネルの液晶層に電界を印加すると、液晶層の中央付近の液晶分子は垂直配向するが、配向膜付近の液晶分子は完全には垂直配向しない。そのため、電界印加時における液晶パネルは、法線方向から観察した場合にもわずかな位相差を有することになる。この位相差が、黒表示における光漏れの原因となり、液晶パネルの法線方向におけるコントラスト比を低下させることになる。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度の範囲内で、高いコントラスト比を得ることが可能な、液晶装置の提供を目的とする。また、投影画像において高いコントラスト比を得ることが可能な、投射型表示装置の提供を目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の液晶装置は、一対の基板により液晶層が挟持されたツイステッドネマチックモードの液晶パネルと、前記液晶パネルに光を照射する光源と、前記光源からの光が入射される側の前記液晶パネルの前記基板の外側に配置された負の屈折率異方性を示す液晶分子をハイブリッド配向させてなる第1の光学補償板と、前記液晶パネルの前記光源からの光が出射される側の前記基板の外側に配置された負の屈折率異方性を示す液晶分子をハイブリッド配向させてなる第2の光学補償板と、を備える液晶装置であって、前記第1の光学補償板の進相軸と前記第2の光学補償板の進相軸は、それぞれ法線方向から見た場合の進相軸が、直角でない角度で交差するように配置されており、前記第1の光学補償板の前記進相軸の方向は、該第1の光学補償板に対応する前記液晶パネルの前記基板の配向規制方向と略一致するように配置され、前記第2の光学補償板の前記進相軸の方向は、該第2の光学補償板に対応する前記液晶パネルの前記基板の配向規制方向と異なるように配置されていることを特徴とする。
この構成によれば、液晶パネルにおける一方の基板側の液晶層の位相差が第1の光学補償板によって補償され、他方の基板側の液晶層の位相差が第2の光学補償板によって補償される。そして、第1の光学補償板および第2の光学補償板の進相軸を直角でない角度で交差させることにより、光学補償板全体として法線方向の位相差を発生させることが可能になり、液晶パネルにおける法線方向の位相差を補償することができる。したがって、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度の範囲内で、高いコントラスト比を得ることができる。
また、前記第1の光学補償板および前記第2の光学補償板は、前記第1の光学補償板および前記第2の光学補償板の法線方向から見た位相差が、いずれも10nm以上30nm以下に設定されている。
この構成によれば、液晶パネルにおける法線方向の位相差を、光学補償板によって補償することができる。これにより、黒表示における光漏れを防止することが可能になり、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度の範囲内で、高いコントラスト比を得ることができる。

また、前記第2の光学補償板の前記進相軸の方向と、前記液晶パネルの前記光源からの光が出射される側の前記基板の配向規制方向と、が異なるように配置されていることを特徴とする。
また、前記第1の光学補償板は、前記液晶分子の光軸と当該第1の光学補償板の法線とのなす角度が小さい方の面が前記光源からの光が入射される側に配置され、前記第2の光学補償板は、前記液晶分子の光軸と当該第2の光学補償板の法線とのなす角度が大きい方の面が前記光源からの光が入射される側に配置されていることを特徴とする。
また、前記第1の光学補償板または前記第2の光学補償板のうち、いずれか一方の光学補償板の前記進相軸は、その光学補償板に対応する前記基板の配向規制方向と平行になるように配置されていることが望ましい。
この構成によれば、第1の光学補償板または第2の光学補償板のうち、いずれか他方の光学補償板の配置のみを調節することにより、各光学補償板の法線方向から見た場合の進相軸を直角でない角度で交差させることができる。
また、前記第1の光学補償板の前記進相軸と前記第2の光学補償板の前記進相軸との交差角度は、91°以上110°以下の範囲内に設定されていることが望ましい。 この構成によれば、液晶パネルにおける法線方向の位相差の補償と、法線方向からの極角が小さい範囲での位相差の補償とのバランスをとることが可能になる。したがって、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度の範囲内で、高いコントラスト比を得ることができる。
一方、本発明の投射型表示装置は、上述した液晶装置を、光変調手段として備えたことを特徴とする。
投射型表示装置では、光変調手段に対する光源光の入射角度が極角12°程度であり、その入射光によって投影画像が構成される。そして、上述した液晶装置により、液晶パネルにおける法線方向および極角が小さい範囲での位相差を補償することが可能になり、黒表示における光漏れを防止することができる。したがって、投影画像において高いコントラスト比を得ることができる。
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。なお本明細書では、液晶装置の各構成部材における液晶層側を内側と呼び、その反対側を外側と呼ぶことにする。また、「非選択電圧印加時」および「選択電圧印加時」とは、それぞれ「液晶層への印加電圧が液晶のしきい値電圧近傍である時」および「液晶層への印加電圧が液晶のしきい値電圧に比べて十分高い時」を意味しているものとする。
[第1実施形態]
最初に、本発明の第1実施形態に係る液晶装置につき、図1ないし図8を用いて説明する。第1実施形態に係る液晶装置は、一対の基板により液晶層が挟持された液晶パネルと、その液晶パネルの外側にそれぞれ配置された光学補償板と、その光学補償板の外側にそれぞれ配置された偏光板とを有するものである。なお本実施形態では、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下TFTという)素子を用いたアクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルを例にして説明する。
(等価回路)
図1は、液晶パネルの等価回路図である。透過型液晶パネルの画像表示領域を構成すべくマトリクス状に配置された複数のドットには、画素電極9が形成されている。また、その画素電極9の側方には、当該画素電極9への通電制御を行うためのスイッチング素子であるTFT素子30が形成されている。このTFT素子30のソースには、データ線6aが電気的に接続されている。各データ線6aには画像信号S1、S2、…、Snが供給される。なお画像信号S1、S2、…、Snは、各データ線6aに対してこの順に線順次で供給してもよく、相隣接する複数のデータ線6aに対してグループ毎に供給してもよい。
また、TFT素子30のゲートには、走査線3aが電気的に接続されている。走査線3aには、所定のタイミングでパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmが供給される。なお走査信号G1、G2、…、Gmは、各走査線3aに対してこの順に線順次で印加する。また、TFT素子30のドレインには、画素電極9が電気的に接続されている。そして、走査線3aから供給された走査信号G1、G2、…、Gmにより、スイッチング素子であるTFT素子30を一定期間だけオン状態にすると、データ線6aから供給された画像信号S1、S2、…、Snが、各画素の液晶に所定のタイミングで書き込まれる。
液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、画素電極9と後述する共通電極との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画像信号S1、S2、…、Snがリークするのを防止するため、画素電極9と容量線3bとの間に蓄積容量17が形成され、液晶容量と並列に配置されている。このように、液晶に電圧信号が印加されると、印加された電圧レベルにより液晶分子の配向状態が変化する。これにより、液晶に入射した光が変調されて階調表示が可能となる。
(平面構造)
図2は、液晶パネルの平面構造の説明図である。本実施形態の液晶パネルでは、TFTアレイ基板上に、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide、以下ITOという)等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極9(破線9aによりその輪郭を示す)が、マトリクス状に配列形成されている。また、画素電極9の縦横の境界に沿って、データ線6a、走査線3aおよび容量線3bが設けられている。本実施形態では、各画素電極9の形成された領域がドットであり、マトリクス状に配置されたドットごとに表示を行うことが可能な構造になっている。
TFT素子30は、ポリシリコン膜等からなる半導体層1aを中心として形成されている。半導体層1aのソース領域(後述)には、コンタクトホール5を介して、データ線6aが電気的に接続されている。また、半導体層1aのドレイン領域(後述)には、コンタクトホール8を介して、画素電極9が電気的に接続されている。一方、半導体層1aにおける走査線3aとの対向部分には、チャネル領域1a’が形成されている。なお走査線3aは、チャネル領域1a’との対向部分においてゲート電極として機能する。
容量線3bは、走査線3aに沿って略直線状に伸びる本線部(すなわち平面的に見て、走査線3aに沿って形成された第1領域)と、データ線6aとの交点からデータ線6aに沿って前段側(図中上向き)に突出した突出部(すなわち平面的に見て、データ線6aに沿って延設された第2領域)とによって構成されている。また、図2中に右上がりの斜線で示した領域には、第1遮光膜11aが形成されている。そして、容量線3bの突出部と第1遮光膜11aとがコンタクトホール13を介して電気的に接続され、後述する蓄積容量が形成されている。
(断面構造)
図3は、液晶パネルの断面構造の説明図であり、図2のA−A’線における側面断面図である。図3に示すように、本実施形態の液晶パネル60は、TFTアレイ基板10と、これに対向配置された対向基板20と、これらの間に挟持された液晶層50とを主体として構成されている。TFTアレイ基板10は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体10A、およびその内側に形成されたTFT素子30や画素電極9、配向膜16などを主体として構成されている。一方の対向基板20は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体20A、およびその内側に形成された共通電極21や配向膜22などを主体として構成されている。
TFTアレイ基板10の表面には、後述する第1遮光膜11aおよび第1層間絶縁膜12が形成されている。そして、第1層間絶縁膜12の表面に半導体層1aが形成され、この半導体層1aを中心としてTFT素子30が形成されている。半導体層1aにおける走査線3aとの対向部分にはチャネル領域1a’が形成され、その両側にソース領域およびドレイン領域が形成されている。なお、このTFT素子30はLDD(Lightly Doped Drain)構造を採用しているため、ソース領域およびドレイン領域に、それぞれ不純物濃度が相対的に高い高濃度領域と、相対的に低い低濃度領域(LDD領域)とが形成されている。すなわち、ソース領域には低濃度ソース領域1bと高濃度ソース領域1dとが形成され、ドレイン領域には低濃度ドレイン領域1cと高濃度ドレイン領域1eとが形成されている。
半導体層1aの表面には、ゲート絶縁膜2が形成されている。そして、ゲート絶縁膜2の表面に走査線3aが形成されて、その一部がゲート電極を構成している。また、ゲート絶縁膜2および走査線3aの表面には、第2層間絶縁膜4が形成されている。そして、第2層間絶縁膜4の表面にデータ線6aが形成され、第2層間絶縁膜4に形成されたコンタクトホール5を介して、データ線6aが高濃度ソース領域1dと電気的に接続されている。さらに、第2層間絶縁膜4およびデータ線6aの表面には、第3層間絶縁膜7が形成されている。そして、第3層間絶縁膜7の表面に画素電極9が形成され、第2層間絶縁膜4および第3層間絶縁膜7に形成されたコンタクトホール8を介して、画素電極9が高濃度ドレイン領域1eと電気的に接続されている。さらに、画素電極9を覆うように、ポリイミド等からなる配向膜16が形成されている。配向膜16の表面にはラビング等が施され、非選択電圧印加時における液晶分子の配向方向を規制しうるようになっている。
なお、本実施形態では、半導体層1aを延設して第1蓄積容量電極1fが形成されている。また、ゲート絶縁膜2を延設して誘電体膜が形成され、その表面に容量線3bが配置されて第2蓄積容量電極が形成されている。これらにより、上述した蓄積容量17が構成されている。
また、TFT素子30の形成領域に対応するTFTアレイ基板10の表面に、第1遮光膜11aが形成されている。第1遮光膜11aは、液晶パネルに入射した光が、半導体層1aのチャネル領域1a’、低濃度ソース領域1bおよび低濃度ドレイン領域1cに侵入することを防止するものである。なお、第1遮光膜11aは、第1層間絶縁膜12に形成されたコンタクトホール13を介して、前段あるいは後段の容量線3bと電気的に接続されている。これにより、第1遮光膜11aは第3蓄積容量電極として機能し、第1層間絶縁膜12を誘電体膜として、第1蓄積容量電極1fとの間に新たな蓄積容量が形成されている。
一方、データ線6a、走査線3aおよびTFT素子30の形成領域に対応する対向基板20の表面には、第2遮光膜23が形成されている。第2遮光膜23は、液晶パネルに入射した光が、半導体層1aのチャネル領域1a’や低濃度ソース領域1b、低濃度ドレイン領域1cに侵入するのを防止するものである。また、対向基板20および第2遮光膜23の表面には、ほぼ全面にわたってITO等の導電体からなる共通電極21が形成されている。さらに、共通電極21の表面には、ポリイミド等からなる配向膜22が形成されている。配向膜22の表面にはラビング等が施され、非選択電圧印加時における液晶分子の配向方向を規制しうるようになっている。
そして、TFTアレイ基板10と対向基板20との間には、ネマチック液晶からなる液晶層50が挟持されている。このネマチック液晶分子は、正の誘電率異方性を示すものであり、非選択電圧印加時に水平配向し、選択電圧印加時に垂直配向するようになっている。またネマチック液晶分子は、正の屈折率異方性を示すものであり、その複屈折と液晶層厚との積(リタデーション)Δndは、例えば約0.40μm(60℃)となっている。なお、TFTアレイ基板10の配向膜16による配向規制方向と、対向基板20の配向膜22による配向規制方向とは、図4の矢印67,68で示すように、約90°ねじれた状態で配置されている。これにより、本実施形態の液晶パネル60は、ツイステッドネマチックモードで動作するようになっている。
(偏光板)
図4は、第1実施形態の液晶装置の分解斜視図である。本実施形態の液晶装置100は、上述した液晶パネル60と、液晶パネル60の外側に配置された光学補償板70,80と、光学補償板70,80の外側に配置された偏光板62,64とによって構成されている。各光学補償板70,80および各偏光板62,64は、サファイヤガラスや水晶等の熱伝導率が高い光透過性材料で構成された支持基板78(図5参照)に装着されて、液晶パネル60から離間配置されている。
図4に示すように、液晶パネル60の光入射側には偏光板62が配置され、光出射側には偏光板64が配置されている。各偏光板62,64は、その吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する機能を有する。そして各偏光板62,64は、それぞれの吸収軸および透過軸が直交するように配置されている。なお、光出射側の偏光板64は、その吸収軸65または透過軸が、液晶パネル60の光出射側の基板における配向膜の配向規制方向68と略一致するように配置されている。また光入射側の偏光板62は、その吸収軸63または透過軸が、液晶パネル60の光入射側の基板における配向膜の配向規制方向67と略一致するように配置されている。
そして、液晶装置100に対して偏光板62の下方から光が入射すると、偏光板62の透過軸と一致する直線偏光のみが偏光板62を透過する。非選択電圧印加時の液晶パネル60では、液晶分子がらせん状に水平配向している。そのため、液晶パネル60に入射した直線偏光は、約90°旋光されて液晶パネル60から出射する。この直線偏光は、偏光板64の透過軸と一致するため、偏光板64を透過する。したがって、非選択電圧印加時の液晶パネル60では白表示が行われる(ノーマリーホワイトモード)。また、選択電圧印加時の液晶パネル60では、液晶分子が垂直配向している(図6参照)。そのため、液晶パネル60に入射した直線偏光は、旋光されることなく液晶パネル60から出射する。そして、この直線偏光は、偏光板64の透過軸と直交するため、その偏光板64を透過しない。したがって、選択電圧印加時の液晶パネル60では黒表示が行われる。
(光学補償板)
そして本実施形態では、液晶パネル60における光入射側の基板の外側に第1光学補償板70が配置され、光出射側の基板の外側に第2光学補償板80が配置されている。
図5は、光学補償板の側面断面図である。第1光学補償板70は、トリアセチルセルロース(TAC)等からなる支持体72上に配向膜(不図示)を設け、その配向膜上にトリフェニレン誘導体等のディスコティック化合物層74を形成したものである。なお、配向膜はポリビニルアルコール(PVA)等からなり、その表面にはラビング等が施されて、液晶分子の配向方向を規制しうるようになっている。一方、ディスコティック化合物層74は、負の一軸性を示す屈折率楕円体の光軸の傾斜角度が膜厚方向に連続的に変化した光学的構造を有するものである。このようなハイブリッド配向構造は、支持体72上に液晶性ディスコティック化合物を塗布し、一定温度で配向・硬化させることによって得ることができる。なおディスコティック化合物は、支持体72側で0〜15°のチルト角を示し、その反対側で20〜60°のチルト角を示す。なお、ディスコティック液晶の配向規制方向71をX軸方向と定義する。このX軸方向は、光学補償板を法線方向から見た場合の進相軸方向である。このような第1光学補償板70として、具体的には富士写真フィルム製のWVフィルムを採用することが可能である。なお第2光学補償板についても、上述した第1光学補償板70と同様に構成されている。
図6は、光学補償の説明図である。液晶パネル60に封入されたネマチック液晶は、光学的に正の一軸性を示すものである。すなわち、光軸66方向の屈折率が他の方向の屈折率より大きく、屈折率楕円体ではラグビーボール型となる。そして、液晶パネル60のネマチック液晶に選択電圧を印加すると、液晶層の厚さ方向中央部から端部にかけて液晶分子が垂直配向する。ここで、ラグビーボール型の屈折率楕円体は、斜め方向から観察すると楕円になり、その長軸と短軸との差が複屈折となる。この斜め方向から観察した場合の位相差が、黒表示における光漏れの原因となり、液晶パネルのコントラスト比を低下させて、視角特性を悪化させることになる。
これに対して、第1光学補償板70を構成するディスコティック液晶は、光学的に負の一軸性を示すものである。すなわち、光軸76方向の屈折率が他の方向の屈折率より小さく、屈折率楕円体では円盤型となる。ここで、第1光学補償板70における円盤型の屈折率楕円体75の光軸76を、液晶パネル60におけるラグビーボール型の屈折率楕円体65の光軸66と平行に配置すれば、光学的な正負が逆になって、屈折率楕円体65の複屈折効果を打ち消すことができる。そこで図4に示すように、第1光学補償板70における配向膜の配向規制方向71が、液晶パネル60における配向膜の配向規制方向67と略一致するように、第1光学補償板70を配置する。また図6に示すように、第1光学補償板70における液晶分子75の光軸76と第1光学補償板70の法線とのなす角度が大きい方の面(すなわち、液晶分子75が垂直配向している方の面)70aが、液晶パネル60と対向するように、第1光学補償板70を配置する。これにより、図6に矢印で示すように、液晶パネル60を構成する正の屈折率楕円体の光軸に対して、第1光学補償板70を構成する負の屈折率楕円体の光軸が平行に配置される。そのため、あらゆる方向から観察した場合の位相差をほぼ完全に補償することが可能になる。したがって、黒表示における光漏れを防止することが可能となり、液晶パネルのコントラスト比が向上して、視角特性を改善することができる。
ところで、液晶パネル60のネマチック液晶に選択電圧を印加すると、液晶層の中央付近の液晶分子は垂直配向するが、配向膜付近の液晶分子はアンカリングが強く完全には垂直配向しない。そのため、選択電圧印加時における液晶パネル60は、法線方向から観察した場合にもわずかな位相差を有することになる。この位相差が、黒表示における光漏れの原因となり、液晶パネル60の法線方向におけるコントラスト比を低下させることになる。
一方、各光学補償板70,80のディスコティック液晶分子は、屈折率楕円体の光軸の傾斜角度が膜厚方向に連続的に変化するハイブリッド配向をとっている。このハイブリッド配向により、各光学補償板70,80は、その法線方向から見た場合に遅相軸および進相軸を備えている。すなわち、各光学補償板70,80における配向膜の配向規制方向(X軸方向)71,81が進相軸となり、配向規制方向71,81に直交する方向が遅相軸となる。これにより、光学補償板は法線方向に位相差を有することになる。そこで、本願の発明者は、各光学補償板70,80の法線方向の位相差により、液晶パネル60の法線方向の位相差を補償することを見出した。
図7は、光学補償板の位相差と投影コントラスト比との関係を表すグラフである。各光学補償板の法線方向の位相差を変化させて、投射型表示装置による投影画像のコントラスト比を計算した。図7では、各光学補償板の厚みを変化させることにより、各光学補償板の法線方向の位相差(リタデーション)を5〜80nmまで変化させた。なお、液晶パネルに照射される光は、通常の投射型表示装置に使用される光源からの光と同等であり、液晶パネルの法線方向に最大強度を持ち、極角12°で強度が1/10に減ずる程度の広がりを持っている。
なお、第1光学補償板および第2光学補償板の進相軸方向を直交させた場合には、それぞれの法線方向の位相差が相互に打ち消されてしまうので、光学補償板全体として法線方向の位相差が0になり、液晶パネルの法線方向の位相差を補償することができなくなる。そこで、様々な位相差に設定された第1光学補償板および第2光学補償板につき、それぞれの進相軸方向を直交以外の角度で交差させることにより、光学補償板全体として法線方向の位相差が発生するようにした。具体的には、図4に示すように、光入射側偏光板62の吸収軸角度を0°とした場合に、第1光学補償板70の進相軸方向(配向規制方向)71を0°、液晶パネル60における光入射側基板の配向規制方向67を0°、光出射側基板の配向規制方向68を90°、光出射側偏光板64の吸収軸角度を90°に設定するとともに、第2光学補償板80の進相軸方向(配向規制方向)81を91°〜110°の範囲内で変化させた。なお、第2光学補償板80の進相軸方向81を、液晶パネル60における光出射側基板の配向規制方向68と異ならせた場合には、液晶パネル60を斜め方向から観察した場合の位相差の補償が不完全となる可能性がある。そこで、投射型表示装置による投影画像のコントラスト比が最大となる角度に、第2光学補償板80の進相軸方向81を配置する。これにより、液晶パネルにおける法線方向の位相差の補償と、法線方向からの極角が小さい範囲での位相差の補償とのバランスをとることが可能になる。
図7に示すように、光学補償板がない場合(すなわち、光学補償板の法線方向の位相差が0の場合)には、投影コントラスト比が480となっている。また、各光学補償板の法線方向の位相差が40nmである従来の光学補償板を使用した場合には、投影コントラスト比が930となっている。これに対して、各光学補償板の法線方向の位相差を10〜30nmとした場合には、投影コントラスト比が1200を越えている。特に、各光学補償板の法線方向の位相差を20nmとした場合には、投影コントラスト比が1500を上回っている。なお、各光学補償板の法線方向の位相差が10nm、20nm、30nmおよび40nmの場合において、投影コントラスト比を最適化しうる第2光学補償板の進相軸方向の角度は、それぞれ103.5°、97.2°、95.6°および95.5°であった。
図8は液晶装置の等コントラスト比曲線であり、図8(a)は各光学補償板の法線方向の位相差が20nmの場合であり、図8(b)は各光学補償板の法線方向の位相差が40nmの場合である。なお、各図の横軸および縦軸は液晶パネルの法線方向を中心とした極角であり、コントラスト比は常用対数で表されている。各光学補償板の法線方向の位相差が20nmの場合と40nmの場合とを比較すれば、40nmの場合の方が広視角(例えば、コントラスト比が102を越える領域が広い)であるが、極角12°の範囲では20nmの場合の方が高コントラスト比になっていることがわかる。なお前述したように、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度は最大でも極角12°程度であり、その入射光によって投影画像が構成される。したがって、各光学補償板の法線方向の位相差が20nmの液晶パネルを用いて構成した投射型表示装置の投影コントラスト比(1560)は、位相差が40nmの液晶パネルを用いて構成した投射型表示装置の投影コントラスト比(930)より、高くなるのである。
本実施形態では、各光学補償板の法線方向の位相差を、10nm以上30nm以下とする構成とした。この構成によれば、液晶パネルの法線方向および極角が小さい範囲での位相差を、各光学補償板によって補償することができる。これにより、黒表示における光漏れを防止することが可能になり、液晶パネルの法線方向および極角が小さい範囲におけるコントラスト比を向上させることができる。なお、投射型表示装置の光変調手段に対する光源光の入射角度は最大でも極角12°程度であり、その入射光によって投影画像が構成されることになる。したがって、本実施形態の液晶装置を用いて投射型表示装置を構成することにより、投影画像のコントラスト比を向上させることができる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係る液晶装置につき、図9ないし図11を用いて説明する。図4に示す第1実施形態に係る液晶装置では、液晶パネル60の両側に第1光学補償板70および第2光学補償板80を配置した。これに対して、図9に示す第2実施形態では、液晶パネル60の光出射側のみに第1光学補償板70および第2光学補償板80を配置している点で異なっている。なお、第1実施形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
図9は、第2実施形態の液晶装置の分解斜視図である。本実施形態では、液晶パネル60における光出射側の基板の外側に第2光学補償板80が配置され、その第2光学補償板80の外側に第1光学補償板70が配置されている。第2光学補償板80における配向膜の配向規制方向81は、液晶パネル60の光出射側の基板における配向膜の配向規制方向68と略一致するように配置されている。これに対して、第1光学補償板70における配向規制方向71は、投射型表示装置による投影画像のコントラスト比が最大となる角度に最適化されている。具体的には、光入射側偏光板62の吸収軸角度を0°とした場合に、液晶パネル60における光入射側基板の配向規制方向67を0°、光出射側基板の配向規制方向68を90°、第2光学補償板80の進相軸方向(配向規制方向)71を90°、光出射側偏光板64の吸収軸角度を90°に設定するとともに、第1光学補償板70の進相軸方向(配向規制方向)71を−20°〜−1°の範囲内で変化させた。そして、投射型表示装置による投影画像のコントラスト比が最大となる角度に、第1光学補償板70の進相軸方向71を配置した。
図10は、積層配置した光学補償板の側面断面図である。本実施形態では、支持基板78の表面に第1光学補償板70が装着され、さらに第1光学補償板70の表面に第2光学補償板80が配置されている。このように、第1光学補償板70および第2光学補償板80は、1個の支持基板78に装着された状態で液晶装置に配設されている。
図11は、光学補償の説明図である。第2光学補償板80は、液晶分子85の光軸86と第2光学補償板80の法線とのなす角度が大きい方の面80aを、液晶パネル60に対向させて配置されている。また、第1光学補償板70は、液晶分子75の光軸76と第1光学補償板70の法線とのなす角度が小さい方の面70bを、第2光学補償板80に対向させて配置されている。
以上により、図4に示す第1実施形態では液晶パネル60の光入射側に配置されていた第1光学補償板70が、図11に示す第2実施形態では第2光学補償板80の光出射側に平行移動した状態となっている。したがって、図11に矢印で示すように、液晶パネル60を構成する屈折率楕円体の光軸に対して、第1光学補償板70および第2光学補償板80を構成する屈折率楕円体の光軸が平行に配置される。
そして、各光学補償板70,80の厚みを変化させることにより、各光学補償板70,80の法線方向の位相差(リタデーション)を5〜80nmまで変化させた。その結果、各光学補償板70,80の法線方向の位相差と投影コントラスト比との関係は、図7に示す第1実施形態と同様の傾向を示した。すなわち、光学補償板がない場合の投影コントラスト比は480、各光学補償板の法線方向の位相差が40nmの場合の投影コントラスト比は1010であった。これに対して、各光学補償板の法線方向の位相差を10〜30nmとした場合には投影コントラスト比が1200を越え、特に各光学補償板の法線方向の位相差を20nmとした場合には投影コントラスト比が1600に達していた。なお、各光学補償板の法線方向の位相差が10nm、20nm、30nmおよび40nmの場合において、投影コントラスト比を最適化しうる第1光学補償板70の進相軸方向の角度は、それぞれ−23°、−10.4°、−8°および−7°であった。
このように、第2実施形態でも第1実施形態と同様に、液晶パネルの法線方向および極角が小さい範囲での位相差を、各光学補償板によって補償することができる。これにより、黒表示における光漏れを防止することが可能になり、液晶パネルの法線方向および極角が小さい範囲におけるコントラスト比を向上させることができる。そして、本実施形態の液晶装置を用いて投射型表示装置を構成することにより、投影画像のコントラスト比を向上させることができる。
そして第2実施形態では、図10に示すように、第1光学補償板70および第2光学補償板80を1個の支持基板78に装着した状態で液晶装置に配設するので、支持基板78の使用個数を削減することができる。支持基板78は、サファイヤや無アルカリガラス等の熱伝導率の大きい透光性材料で構成されているが、サファイヤは位相差が大きく、また無アルカリガラスも熱により位相差を生じる。しかしながら、第2実施形態では、支持基板78の使用個数を削減することができるので、支持基板78の位相差による影響を低減することが可能になる。上述した投影コントラスト比が全体的に第1実施形態より高くなっているのは、支持基板78の位相差による影響が低減された効果が寄与しているものと考えられる。これにより、黒表示における光漏れが減少して、液晶装置のコントラスト比を向上させることができる。また、支持基板78による光の減衰を低減することも可能になり、出射光の明るさを確保することができる。さらに、省スペース化が可能になり、液晶装置の製造コストを低減することも可能になる。
また第2実施形態では、図9に示すように、第1光学補償板70および第2光学補償板80を液晶パネル60の光出射側のみに配置するので、第1光学補償板70および第2光学補償板80が光源(不図示)から離間配置されるとともに、液晶パネルによって光量が減衰するために熱影響を受け難くなる。したがって、第1実施形態に比べて、第1光学補償板70および第2光学補償板80の熱劣化を抑制することができる。
[投射型表示装置]
次に、本発明の電子機器の具体例である投射型表示装置につき、図12を用いて説明する。図12は、投射型表示装置の要部を示す概略構成図である。この投射型表示装置は、上述した各実施形態に係る液晶装置を、光変調手段として備えたものである。
図12において、810は光源、813、814はダイクロイックミラー、815、816、817は反射ミラー、818は入射レンズ、819はリレーレンズ、820は出射レンズ、822、823、824は本発明の液晶装置からなる光変調手段、825はクロスダイクロイックプリズム、826は投射レンズである。光源810は、メタルハライド等のランプ811とランプの光を反射するリフレクタ812とからなる。
ダイクロイックミラー813は、光源810からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー817で反射されて、赤色光用光変調手段822に入射される。また、ダイクロイックミラー813で反射された緑色光は、ダイクロイックミラー814によって反射され、緑色光用光変調手段823に入射される。さらに、ダイクロイックミラー813で反射された青色光は、ダイクロイックミラー814を透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ818、リレーレンズ819および出射レンズ820を含むリレーレンズ系からなる導光手段821が設けられている。この導光手段821を介して、青色光が青色光用光変調手段824に入射される。
各光変調手段により変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム825に入射する。このクロスダイクロイックプリズム825は4つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがX字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ826によってスクリーン827上に投影され、画像が拡大されて表示される。
なお、光源810におけるランプ811からの光は、リフレクタ812により略平行光に変換されるので、光変調手段822,823,824に対する光源光の入射角度は、最大でも12°程度である。そして、その入射光により投影画像が構成されることになる。ここで、光変調手段822,823,824として、上述した各実施形態に係る液晶装置を使用すれば、法線方向および極角の小さい範囲においてコントラスト比を向上させることができる。したがって、スクリーン827上に投影された画像のコントラスト比を向上させることができる。
また、本発明の電子機器の他の具体例として、携帯電話を挙げることができる。この携帯電話は、上述した各実施形態またはその変形例に係る液晶装置を表示部に備えたものである。また、その他の電子機器としては、たとえばICカード、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、さらに表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ等が挙げられる。
なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。たとえば、実施形態ではスイッチング素子としてTFTを備えた液晶装置を例にして説明したが、スイッチング素子として薄膜ダイオード(Thin Film Diode)等の二端子型素子を採用してもよい。また、実施形態では透過型液晶装置を例にして説明したが、本発明の液晶装置を反射型や半透過型の液晶装置に適用することも可能である。さらに、電子機器として3板式の投射型表示装置を例にして説明したが、本発明の液晶装置を単板式の投射型表示装置や直視型表示装置に適用することも可能である。
液晶パネルの等価回路図である。 液晶パネルの平面構造の説明図である。 液晶パネルの断面構造の説明図である。 第1実施形態の液晶装置の分解斜視図である。 光学補償板の側面断面図である。 光学補償の説明図である。 光学補償板の位相差と投影コントラスト比との関係を表すグラフである。 液晶装置の等コントラスト比曲線である。 第2実施形態の液晶装置の分解斜視図である。 積層配置した光学補償板の側面断面図である。 光学補償の説明図である。 投射型表示装置の要部を示す構成図である。 光学補償板の位相差の視角依存性を示すグラフである。
符号の説明
60…液晶パネル、70…第1光学補償板、71…配向規制方向(進相軸方向)、80…第2光学補償板、81…配向規制方向(進相軸方向)、100…液晶装置。

Claims (5)

  1. 一対の基板により液晶層が挟持されたツイステッドネマチックモードの液晶パネルと、前記液晶パネルに光を照射する光源と、前記光源からの光が入射される側の前記液晶パネルの前記基板の外側に配置された負の屈折率異方性を示す液晶分子をハイブリッド配向させてなる第1の光学補償板と、前記液晶パネルの前記光源からの光が出射される側の前記基板の外側に配置された負の屈折率異方性を示す液晶分子をハイブリッド配向させてなる第2の光学補償板と、を備える液晶装置であって、
    前記第1の光学補償板の進相軸と前記第2の光学補償板の進相軸は、それぞれ法線方向から見た場合の進相軸が、直角でない角度で交差するように配置されており、
    前記第1の光学補償板の前記進相軸の方向は、該第1の光学補償板に対応する前記液晶パネルの前記基板の配向規制方向と略一致するように配置され、
    前記第2の光学補償板の前記進相軸の方向は、該第2の光学補償板に対応する前記液晶パネルの前記基板の配向規制方向と異なるように配置されていることを特徴とする液晶装置。
  2. 前記第1の光学補償板の前記進相軸と前記第2の光学補償板の前記進相軸との交差角度は、91°以上110°以下の範囲内に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
  3. 前記第1の光学補償板は、前記液晶分子の光軸と当該第1の光学補償板の法線とのなす角度が小さい方の面が前記光源からの光が入射される側に配置され、前記第2の光学補償板は、前記液晶分子の光軸と当該第2の光学補償板の法線とのなす角度が大きい方の面が前記光源からの光が入射される側に配置されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液晶装置。
  4. 前記第1の光学補償板および前記第2の光学補償板は、前記第1の光学補償板および前記第2の光学補償板の法線方向から見た位相差が、いずれも10nm以上30nm以下に設定されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の液晶装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の液晶装置を、光変調手段として備えたことを特徴とする投射型表示装置。
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