JP5737854B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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この発明では、高屈折率層も斜方蒸着によって形成することで、高屈折率層の屈折率の選択幅が広がり、反射効果を最適化するための設計自由度がさらに向上する。
この発明では、斜方蒸着によって形成される低屈折率層が基板面の法線方向に対して傾斜した二軸性の光学異方性を有する位相差補償層として機能するため、VA(Vertical Alignment)モードで駆動する液晶表示装置のコントラストを向上させることができる。
また、本発明における液晶表示装置は、アルミニウムまたは銀あるいはこれらを含む金属で形成されていることとしてもよい。
この発明では、反射機能を有する材料を用いて電極を形成することにより、反射層を別途形成する必要がなくなる。
また、本発明における液晶表示装置は、前記高屈折率層が、窒化珪素によって形成されていることとしてもよい。
この発明では、低屈折率層を屈折率の低い酸化珪素で形成し、高屈折率層を酸化珪素よりも屈折率が高い窒化珪素で形成する。
この発明では、保護層を形成することによって表面を平坦化できる。
この発明では、上述のように、低屈折率層の屈折率の選択幅が広がり、より大きな反射効果を得ることが可能となり、さらに反射効果を最適化するための設計自由度が向上する。
以下、本発明における液晶表示装置の第1の実施形態を、図面を用いて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。
本実施形態における液晶表示装置1は、例えば後述するプロジェクタ(投射型表示装置)100において光変調手段として用いられる液晶表示装置であって、図1に示すように、素子基板(第1基板)11及び対向基板(第2基板)12と、素子基板11及び対向基板12の間に挟持された液晶層13と、を備えている。また、液晶表示装置1は、素子基板11及び対向基板12が対向する対向領域の外周部に設けられた枠状のシール材14によって素子基板11と対向基板12とを貼り合わせている。そして、液晶表示装置1におけるシール材の内側に、画像表示領域が形成されている。
データ線23は、図示しないデータ線駆動回路から画像信号S1〜Snが画素領域それぞれに供給される構成となっている。また、走査線24は、図示しない走査線駆動回路から走査信号G1〜Gmがサブ画素領域それぞれに供給される構成となっている。なお、画素電極21に書き込まれた画像信号S1〜Snのリークを防止するため、画素電極21と並列に保持容量25が設けられている。また、液晶表示装置1には、データ線駆動回路及び走査線駆動回路と液晶表示装置1の外部とを接続するための端子(図示略)が形成されている。
素子基板11は、図3に示すように、基板本体31と、基板本体31の内側(液晶層13側)の表面に形成された素子形成層32と、素子形成層32上に形成された画素電極21と、画素電極21上に形成された増反射層33と、増反射層33の液晶層13側に形成された配向膜34と、を備えている。
素子形成層32は、絶縁膜や半導体膜、導体膜を適宜積層した構成となっており、データ線23及び走査線24やTFT素子22を構成し、複数の画素領域それぞれに形成された画素電極21を個別に駆動可能となっている。
画素電極21は、例えばAlまたは銀あるいはこれらのいずれかを含む合金など、反射膜としても機能する導電材料で形成されている。
低屈折率層35は、例えば酸化珪素(SiOx)で形成されており、斜方蒸着によって画素電極21を覆うように形成されている。また、低屈折率層35を構成する酸化珪素のカラムは、素子基板11の基板面の法線方向に対して例えば45度傾けられている。低屈折率層35の屈折率は、酸化珪素のカラム間に空気が入り込んで密度が低くなることにより、例えばプラズマCVD法によって低屈折率層35を密に形成する場合と比較して低くなる。なお、カラムの傾斜角度は、45度に限られない。そして、低屈折率層35の屈折率の調整は、カラムの傾斜角度や低屈折率層35の蒸着速度、蒸着圧力などによって行われる。一般的に、傾斜角度を大きくすること、蒸着速度を遅くすること、及び蒸着圧力を高くすること、によって低屈折率層35の密度を低くすることができる。
高屈折率層36は、例えば窒化珪素(SiNx)で形成されており、例えばプラズマCVD法によって低屈折率層35上に形成されている。ここで、高屈折率層36は、斜方蒸着によって形成された低屈折率層35のカラムの隙間に入り込んで形成されており、屈折率が例えば1.98であり、膜厚が例えば30nmから100nmである。また、高屈折率層36が低屈折率層35の表面を覆って形成されることによって、低屈折率層35の斜方蒸着膜への水分の吸着が抑えられる。
配向膜34は、例えばSiO2で形成されており、斜方蒸着によって高屈折率層36上に形成されている。
遮光膜42は、例えば黒色樹脂で構成され、基板本体41の表面において平面視で画素領域の縁部と重なる領域に形成されており、画素領域を縁取っている。
誘電体層44は、例えば酸化珪素や窒化珪素で形成されており、共通電極43及び遮光膜42を覆っている。
配向膜45は、配向膜34と同様に、例えばSiO2で形成されており、斜方蒸着によって共通電極43上に形成されている。
図4からも分かるように、低屈折率層35の屈折率を小さくするにしたがって、赤、緑及び青それぞれの波長における反射強度が増大する。
そして、上述した液晶表示装置1は、例えば図5に示すようなプロジェクタ100の光変調手段として用いられる。このプロジェクタ100は、図5に示すように、光源101と、ダイクロイックミラー102、103と、本発明の液晶表示装置1からなる赤色光用光変調手段104、緑色光用光変調手段105及び青色光用光変調手段106と、導光手段107と、反射ミラー110〜112と、クロスダイクロイックプリズム113と、投射レンズ114とを備えている。そして、プロジェクタ100から出射したカラー画像光は、スクリーン115上に投影される。
ダイクロイックミラー102は、光源101からの白色光に含まれる赤色光を透過させると共に、緑色光と青色光とを反射する構成となっている。また、ダイクロイックミラー103は、ダイクロイックミラー102で反射された緑色光及び青色光のうち青色光を透過させると共に緑色光を反射する構成となっている。
反射ミラー110は、ダイクロイックミラー102を透過した赤色光を赤色光用光変調手段104に向けて反射する構成となっている。また、反射ミラー111は、ダイクロイックミラー103及び入射レンズ107aを透過した青色光をリレーレンズ107bに向けて反射する構成となっている。また、反射ミラー112は、リレーレンズ107bを出射した青色光を出射レンズ107cに向けて反射する構成となっている。
投射レンズ114は、クロスダイクロイックプリズム113によって合成されたカラー画像を拡大してスクリーン115上に投影する構成となっている。
また、液晶層13がVAモードで駆動する液晶分子によって構成され、低屈折率層35が傾斜した二軸性光学異方性を有する位相差補償層として機能しており、低屈折率層35が液晶層13による位相差を補償するため、液晶表示装置1のコントラストを向上させることができる。
以下、本発明における液晶表示装置の第2の実施形態を、図面を用いて説明する。なお、本実施形態では、第1の実施形態と素子基板の構成が異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
高屈折率層203を構成する窒化珪素のカラムは、素子基板201の基板面の法線方向に対して例えば45度傾けられている。そのため、高屈折率層203の屈折率は、第1の実施形態における高屈折率層36のように例えばプラズマCVD法によって形成する場合と比較して低くなる。また、高屈折率層203は、素子基板201の基板面の法線方向に対して傾斜した二軸性光学異方性を有する。なお、面内において、高屈折率層203の光学軸(遅相軸)と低屈折率層35の光学軸(遅相軸)とは、同方向であってもよく、面内で直交する方向であってもよい。また、低屈折率層35及び高屈折率層203のそれぞれに遅相軸を有する場合は、液晶層13における液晶分子の位相差(プレチルトに起因した位相差)を少なからず補償することができように、それぞれの遅相軸が配置設定されている。
ここで、高屈折率層203は、屈折率が例えば1.6から2.1であり、膜厚が例えば30nmから100nmである。また、高屈折率層203の複屈折と高屈折率層203の層厚との積であるリタデーション量Δndは、例えば0.01nmから8nmとなっている。
また、高屈折率層203も位相差補償層として機能しており、増反射層202全体として液晶層13による位相差を補償するため、液晶表示装置1のコントラストをさらに向上させることができる。
以下、本発明における液晶表示装置の第3の実施形態を、図面を用いて説明する。なお、本実施形態では、第2の実施形態と素子基板の構成が異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
保護層252は、例えば酸化珪素や窒化珪素で形成されており、増反射層202を覆っている。
以上のような構成の液晶表示装置250においても、上述と同様の作用、効果を奏するが、斜方蒸着によって形成された高屈折率層203上に保護層252を形成することで、表面を平坦化することができる。
例えば、低屈折率層は、酸化珪素以外の他の材料で形成されてもよい。同様に、高屈折率層は、窒化珪素以外の他の材料で形成されてもよい。
増反射層は、所望の反射効果に応じて、2層以上積層してもよい。
液晶層は、VA方式で駆動する液晶分子によって構成されているが、例えばNT(Twisted Nematic)方式で駆動する液晶分子など、他の方式で駆動する液晶分子によって構成されてもよい。
液晶表示装置は、反射型の液晶表示装置に限らず、半透過反射型の液晶表示装置であってもよい。
画素電極は、例えば反射機能を有する導電材料で形成されていれば、アルミニウムまたは銀あるいはこれらを含む金属以外の他の材料で形成されてもよく、反射層を別途設けておけば、透光性を有する導電材料などで形成されてもよい。
Claims (6)
- 第1基板と、
第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、
前記第1基板と前記液晶層との間に設けられた反射層と、
前記反射層と前記液晶層との間に設けられ、前記基板の一方の面に対して傾斜した複数のカラムから成ることで遅相軸を備えた酸化珪素からなる低屈折率層と、
前記低屈折率層と前記液晶層との間に設けられ、前記低屈折率層よりも高い屈折率を有する窒化珪素からなる高屈折率層と、
前記高屈折率層と前記液晶層との間に設けられた第1配向膜と、
前記第2基板と前記液晶層との間に設けられた透光性の電極と、
前記透光性の電極と前記液晶層との間に設けられた誘電体層と、
前記誘電体層と前記液晶層との間に設けられた第2配向膜と、を有し、
前記低屈折率層の屈折率は、1.2から1.4であり、
前記反射層は、前記液晶層を構成する液晶分子を駆動する反射電極であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記高屈折率層は、複数のカラムから成ることで遅相軸を備えることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1または2に記載の液晶表示装置において、
前記液晶層は、負の誘電率異方性を呈する液晶分子によって構成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1乃至3の何れかに記載の液晶表示装置において、
前記反射層は、アルミニウムまたは銀あるいはこれらを含む金属で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1乃至4の何れかに記載の液晶表示装置において、
前記高屈折率層と前記液晶層との間に保護層が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1乃至5の何れかに記載の液晶表示装置において、
前記誘電体層は、酸化珪素または窒化珪素を含むことを特徴とする液晶表示装置。
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