JP2015184629A - 液晶装置、及び電子機器 - Google Patents

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【課題】コントラスト比の低下を抑制できる液晶装置、及びそのような液晶装置を用いた電子機器を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置の一つの態様は、互いに対向する第1基板及び第2基板と、第1基板と第2基板との間に挟持された液晶層と、第1基板の液晶層とは反対側に設けられた偏光板と、第1基板と偏光板との間に設けられた位相差板と、を備え、第1基板、第2基板、偏光板及び位相差板の少なくとも1つの面は、偏光板と液晶層との間に、透光性を有する材料からなる複数の凸部が配列された反射抑制構造が設けられ、反射抑制構造の複数の凸部は、隣り合う2つの凸部の間の間隔が可視光線の波長よりも短くなるように配列されていることを特徴とする。【選択図】図1

Description

本発明は、液晶装置、及び電子機器に関する。
基板と偏光板との間に位相差板を設けた液晶装置が提案されている(例えば、特許文献1)。特許文献1では、位相差板として1/4波長板が用いられている。
特開2010−256900号公報
上記のような液晶装置においては、位相差板によって偏光状態の変化した光が屈折率の異なる部材間の界面で反射され、射出側の偏光板に入射する光の偏光方向が意図しない偏光方向となる場合があった。これにより、例えば、液晶装置が黒表示の状態において、射出側の偏光板に入射する光の偏光方向が射出側の偏光板を透過する偏光方向となり、液晶装置のコントラスト比が低下するという問題があった。
本発明の一つの態様は、上記問題点に鑑みて成されたものであって、コントラスト比の低下を抑制できる液晶装置、及びそのような液晶装置を用いた電子機器を提供することを目的の一つとする。
本発明の液晶装置の一つの態様は、互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された液晶層と、前記第1基板の前記液晶層とは反対側に設けられた偏光板と、前記第1基板と前記偏光板との間に設けられた位相差板と、を備え、前記第1基板、前記第2基板、前記偏光板及び前記位相差板の少なくとも1つの面は、前記偏光板と前記液晶層との間に、透光性を有する材料からなる複数の凸部が配列された反射抑制構造が設けられ、前記反射抑制構造の前記複数の凸部は、隣り合う2つの凸部の間の間隔が可視光線の波長よりも短くなるように配列されていることを特徴とする。
本発明の液晶装置の一つの態様によれば、前記第1基板、前記第2基板、前記偏光板及び前記位相差板の少なくとも1つの面は、前記偏光板と前記液晶層との間に、可視光線の波長よりも短い間隔で配置された複数の凸部が配列された反射抑制構造が設けられている。そのため、液晶装置に入射した光が反射されることを抑制できる。したがって、本発明の液晶装置の一つの態様によれば、コントラスト比の低下を抑制できる液晶装置が得られる。
前記液晶層と前記第1基板との間に設けられた電極層をさらに備え、前記反射抑制構造の前記複数の凸部は、前記電極層に設けられている構成としてもよい。
この構成によれば、電極層における光の反射を抑制できる。
前記反射抑制構造の前記複数の凸部は、前記第1基板と前記偏光板との間に設けられる構成としてもよい。
この構成によれば、光の反射をより抑制できる。
前記第1基板と前記位相差板とは、離間して設けられ、前記位相差板と前記偏光板とは、離間して設けられる構成としてもよい。
この構成によれば、位相差板と偏光板との配置をそれぞれ独立して調整することが容易である。
前記第1基板は、前記位相差板と接するように設けられ、前記位相差板は、前記偏光板と接するように設けられる構成としてもよい。
この構成によれば、各部材間に空気が介在しないため、光の反射をより抑制できる。
前記位相差板は、1/4波長板である構成としてもよい。
この構成によれば、液晶層に入射する光を円偏光とでき、光の利用効率を向上できる。
本発明の電子機器の一つの態様は、上記の液晶装置を備えることを特徴とする。
本発明の電子機器の一つの態様によれば、上記の液晶装置を備えるため、コントラスト比の低下を抑制できる電子機器が得られる。
本実施形態の液晶装置の構成を模式的に示す断面図である。 本実施形態の液晶装置の構成を模式的に示す部分拡大断面図である。 本実施形態の液晶装置の構成の他の一例を模式的に示す断面図である。 本実施形態の電子機器の一例であるプロジェクターを模式的に示す概略構成図である。 比較例の液晶装置の構成を模式的に示す断面図である。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る液晶装置及び電子機器について説明する。
なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
(液晶装置)
図1は、本実施形態の液晶装置10を模式的に示す断面図である。図2は、本実施形態の液晶装置10を模式的に示す部分拡大断面図である。液晶装置10は、本実施形態においては、例えば、VA(Vertical Alignment)方式の透過型の液晶装置である。
本実施形態の液晶装置10は、図1に示すように、対向基板(第1基板)11と、素子基板(第2基板)12と、液晶層80と、入射側偏光板(偏光板)21と、射出側偏光板22と、1/4波長板(位相差板)31と、1/4波長板32と、を備える。
対向基板11と素子基板12とは、液晶層80を挟んで対向するようにして設けられている。
対向基板11は、支持基板41と、レンズ層51と、絶縁層61と、共通電極(電極層)71と、を備える。
支持基板41は、例えば、ガラス基板である。支持基板41の液晶層80側には、レンズ層51が設けられている。支持基板41の液晶層80とは反対側の面には、複数の凸部が配列された反射抑制構造の1つであるモスアイ構造部41aが形成されている。モスアイ構造部41aの詳細については後述する。
レンズ層51は、複数のマイクロレンズ(図示せず)で構成される層である。各マイクロレンズは、液晶装置10の各画素に対応するように配置されている。
各マイクロレンズは、支持基板41側が凸状となっている凸レンズである。マイクロレンズは、支持基板41よりも屈折率が大きく、かつ、支持基板41よりも高い光透過率を有する材料によって形成されている。マイクロレンズの形成材料としては、例えば、酸窒化シリコン(SiON)を選択できる。レンズ層51の液晶層80側には、絶縁層61が設けられている。
絶縁層61は、レンズ層51を覆って形成されている。絶縁層61は、例えば、SiO等の無機材料で形成されている。絶縁層61には、図示しない遮光体が設けられている。遮光体は、遮光性を有する金属等から形成されている。遮光体は、例えば、格子状等にパターニングされ、各画素領域に対応して開口する領域が設けられている。上述したレンズ層51のマイクロレンズは、遮光体の開口領域に対応して設けられている。絶縁層61の液晶層80側の面には、複数の凸部が配列されたモスアイ構造部(反射抑制構造)61aが形成されている。モスアイ構造部61aの詳細については後述する。
絶縁層61の液晶層80側には、共通電極71が設けられている。
共通電極71は、例えば、インジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)等の光透過率の高い導電材料を用いて形成された透明電極である。共通電極71は、絶縁層61の液晶層80側の面の形状に沿って形成されている。そのため、絶縁層61のモスアイ構造部61aにおいて、共通電極71の形状は、モスアイ構造部61aの形状に沿った形状となり、複数の凸部が配列されたモスアイ構造部(反射抑制構造)71aが形成されている。モスアイ構造部71aの詳細については後述する。
共通電極71の液晶層80側の面には、図示しない配向膜が設けられている。
素子基板12は、支持基板42と、配線層52と、絶縁層62と、複数の画素電極72と、を備える。
支持基板42は、例えば、ガラス板である。支持基板42の液晶層80とは反対側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)42aが形成されている。モスアイ構造部42aの詳細については後述する。
支持基板42の液晶層80側には、配線層52が設けられている。
配線層52には、複数のスイッチング素子が設けられている。複数のスイッチング素子は、例えば、薄膜のトランジスターにより構成され、個々の画素電極72に対応して設けられている。配線層52の液晶層80側には、絶縁層62が設けられている。
絶縁層62は、配線層52を覆って形成されている。絶縁層62は、例えば、SiO等の無機材料で形成されている。絶縁層62の液晶層80側の面には、複数の凸部が配列されたモスアイ構造部(反射抑制構造)62aが形成されている。モスアイ構造部62aの詳細については後述する。
絶縁層62の液晶層80側には、モスアイ構造部62aの形状に沿って、画素電極72が設けられている。
画素電極72は、絶縁層62の液晶層80側の面に、画素ごとに設けられている。画素電極72は、共通電極71と同様にして、例えば、ITO等で形成された透明電極である。画素電極72は、モスアイ構造部62aの形状に沿って形成されていることにより、複数の凸部が配列されたモスアイ構造部(反射抑制構造)72aが形成されている。モスアイ構造部72aの詳細については後述する。
画素電極72の液晶層80側の面には、図示しない配向膜が設けられている。
液晶層80は、本実施形態においては、例えば、負の誘電率異方性を有する垂直配向型の液晶で構成されている。液晶は、例えば、1種または数種類のネガ型ネマティック液晶を混合した液晶である。液晶は、液晶層80に電圧が印加されていない場合においては、図示しない配向膜によって、所定の方向に配向された状態となっている。
入射側偏光板21は、対向基板11の液晶層80とは反対側に設けられている。入射側偏光板21の液晶層80側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)21aが形成されている。
1/4波長板31は、入射側偏光板21と対向基板11との間に設けられている。1/4波長板31は、入射した光に1/4波長分の位相差を付与する。1/4波長板31は、入射した直線偏光を円偏光に変換する。
1/4波長板31の入射側偏光板21側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)31aが形成されている。1/4波長板31の対向基板11側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)31bが形成されている。
本実施形態においては、対向基板11と、1/4波長板31と、入射側偏光板21と、はそれぞれ離間して設けられている。すなわち、入射側偏光板21と1/4波長板31との間、及び1/4波長板31と対向基板11との間には、それぞれ空気が介在している。
モスアイ構造部21a,31a,31bの詳細については後述する。
射出側偏光板22は、素子基板12の液晶層80とは反対側に設けられている。射出側偏光板22の液晶層80側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)22aが形成されている。
1/4波長板32は、射出側偏光板22と素子基板12との間に設けられている。1/4波長板32は、1/4波長板31と同様の機能を有する。1/4波長板32の射出側偏光板22側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)32aが形成されている。1/4波長板32の素子基板12側の面には、モスアイ構造部(反射抑制構造)32bが形成されている。
本実施形態においては、素子基板12と、1/4波長板32と、射出側偏光板22と、はそれぞれ離間して設けられている。すなわち、射出側偏光板22と1/4波長板32との間、及び1/4波長板32と素子基板12との間には、それぞれ空気が介在している。
モスアイ構造部22a,32a,32bの詳細については後述する。
次に、モスアイ構造部61aについて詳細に説明する。
モスアイ構造部61aは、図2に示すように、絶縁層61の液晶層80側の面から突出する複数の凸部63を備える。複数の凸部63は、絶縁層61の液晶層80側の面に平面的に配置されている。本実施形態において複数の凸部63は、図1に示すように、画素ごとに形成されている。より詳細には、複数の凸部63は、液晶装置10内において光が透過する部分に設けられている。
凸部63の形状は、特に限定されず、例えば、多角錐形状であっても、円錐形状であっても、錐台形状であっても、その他の形状、例えば、先端が丸まった円柱状等、であってもよい。本実施形態においては、図2に示すように、凸部63は、例えば、四角錐形状である。複数の凸部63の突出高さWは、例えば、200nm程度である。また、複数の凸部63が設けられるピッチ(間隔)P、すなわち、隣り合う2つの凸部63の間の間隔は、可視光線の波長よりも短く設定されている。
ここで、本明細書において「可視光線」とは、JIS(日本工業規格,Japanese Industrial Standards)Z8120の規定に基づき、360nm以上、830nm以下の電磁波を意味するものとする。すなわち、複数の凸部63のピッチPは、360nmよりも小さく設定される。
凸部63の形成材料は、透光性を有する材料である範囲において特に限定されず、例えば、SiO等の無機材料である。
モスアイ構造部61aの形成方法としては、特に限定されず、例えば、絶縁層61の面上に無機層を形成し、ナノインプリントによって複数の凸部63をパターニングにより形成する方法を選択できる。
本実施形態において、モスアイ構造部21a,22a,31a,31b,32a,32b,41a,42a,62aは、モスアイ構造部61aと同様の構成である。
モスアイ構造部71aは、モスアイ構造部61aの形状に沿って形成された部分である。モスアイ構造部71aの形状は、複数の凸部63の形状を反映した形状である。すなわち、モスアイ構造部71aは、複数の凸部73を備える。モスアイ構造部71aは、モスアイ構造部61a上に、例えば、スパッタ法を用いて共通電極71の形成材料を付着させることにより形成される。
本実施形態においてモスアイ構造部72aは、モスアイ構造部71aと同様の構成である。
本実施形態によれば、各モスアイ構造部によって液晶装置10に入射した光の反射が抑制されるため、コントラスト比の低下を抑制できる液晶装置が得られる。以下、詳細に説明する。
図5は、比較例の液晶装置210を模式的に示す断面図である。
液晶装置210は、本実施形態の液晶装置10に対して、モスアイ構造部を備えていない点において異なる。
なお、以下の説明においては、上記説明した実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付す等により説明を省略する場合がある。
液晶装置210は、図5に示すように、対向基板211と、素子基板212と、液晶層80と、入射側偏光板221と、射出側偏光板222と、1/4波長板231と、1/4波長板232と、を備える。
対向基板211は、支持基板241と、レンズ層51と、絶縁層261と、共通電極271と、を備える。
素子基板212は、支持基板242と、配線層52と、絶縁層262と、複数の画素電極272と、を備える。
支持基板241,242、絶縁層261,262、共通電極271、及び画素電極272は、支持基板41,42、絶縁層61,62、共通電極71、及び画素電極72に対して、それぞれモスアイ構造部が形成されていない点を除いて、同様の構成である。
図5に示す、光L1は、液晶装置210内を反射することなく進む光を示している。光L2は、液晶装置210内において反射される光を示している。光L1,L2に示された矢印は、光L1,L2が直線偏光である場合には、振動する方向(偏光方向)を示しており、光L1,L2が円偏光である場合には、回転方向を示している。
入射側偏光板221に示す矢印は、偏光軸C1の方向を示している。射出側偏光板222に示す矢印は、偏光軸C2の方向を示している。光L1,L2は、液晶装置210に入射される前においては、入射側偏光板221の偏光軸C1と同じ方向に振動する直線偏光である。
液晶装置210が黒表示の状態で、液晶装置210に光L1が入射されると、入射側偏光板221を透過した光L1は、1/4波長板231を透過して、円偏光となる。ここで、円偏光の回転方向は、例えば、光L1の進行方向に向かって視たときに反時計回りとなる方向である。
なお、以下の説明においては、光の進行方向に向かって視たときに反時計回りとなる方向に回転する円偏光を反時計回りの円偏光と称し、光の進行方向に向かって視たときに時計回りとなる方向に回転する円偏光を時計回りの円偏光と称する。
円偏光となった光L1は、対向基板211、液晶層80、及び素子基板212を介して1/4波長板232に入射される。1/4波長板232に入射された光L1は、直線偏光となって射出され、射出側偏光板222に入射される。射出側偏光板222は、偏光軸C2が入射側偏光板221の偏光軸C1と直交するクロスニコル配置となるように設けられている。そのため、入射側偏光板221を透過した際と同様の偏光方向を有する光L1は、射出側偏光板222によって遮光される。
一方、液晶装置210が黒表示の状態で、液晶装置210に光L2が入射されると、光L1と同様に、入射側偏光板221を透過した光L1は、1/4波長板231を透過して、反時計回りの円偏光となる。円偏光となった光L2は、対向基板211に入射され、図5の例においては、共通電極271で反射される。反射された光L2は、再び1/4波長板231に入射され直線偏光となる。このとき、光L2の進行方向は逆転しているため、1/4波長板231から視ると、最初に1/4波長板231から射出された直後の光L2の回転方向に対して、光L2の回転方向が逆転している。これにより、変換される直線偏光の偏光方向は、光L2が初めに1/4波長板231に入射した際の偏光方向(以下、初めの偏光方向)と直交する方向となる。
直線偏光となった光L2は、図5に示す例では、1/4波長板231の入射側偏光板221側の空気との界面で再び反射され、1/4波長板231を再度透過する。これにより、光L2は再び円偏光となる。ここで、直線偏光である光L2の偏光方向は初めの偏光方向と直交する方向となっているため、変換される円偏光の回転方向も、初めに1/4波長板231を透過した直後の光L2の回転方向に対して、逆転する。すなわち、光L2は、時計回りの円偏光となって1/4波長板231から再度射出される。
1/4波長板231から再度射出された光L2は、対向基板211、液晶層80、及び素子基板212を介して1/4波長板232に入射される。1/4波長板232に入射された光L2は、入射側偏光板221に入射した際の偏光方向と直交する方向に振動する直線偏光となって射出され、射出側偏光板222に入射される。入射された光L2の偏光方向は、射出側偏光板222の偏光軸C2の方向と同じ方向となるため、光L2は、射出側偏光板222で遮光されず、液晶装置210から射出される。
以上のようにして、比較例の液晶装置210では、光が液晶装置210内で反射することにより、黒表示の状態においても液晶装置210から射出される光が生じる場合がある。したがって、液晶装置210のコントラスト比が低下してしまう場合があった。
これに対して、本実施形態によれば、共通電極71に、可視光線の波長よりも短いピッチPで配置された複数の凸部73を備えるモスアイ構造部71aが形成されているため、共通電極71に入射された光が反射されることを抑制できる。これにより、本実施形態によれば、液晶装置10のコントラスト比が低下することを抑制できる。
また、図5では光が共通電極で反射される例を示したが、液晶装置210内においては屈折率の異なる部材間の界面では、いずれの界面においても光が反射される場合がある。
これに対して、本実施形態によれば、入射側偏光板21、射出側偏光板22、1/4波長板31,32、支持基板41,42、絶縁層61,62、及び画素電極72にも、それぞれモスアイ構造部が形成されている。そのため、本実施形態によれば、液晶装置10内において、光が反射することをより抑制でき、その結果、液晶装置10のコントラスト比の低下をより抑制できる。
また、共通電極71と絶縁層61との屈折率差は、他の部材間の屈折率差に比べて大きく、液晶装置10に入射した光は、他の部材に比べて、共通電極71、より詳細には、共通電極71と絶縁層61との界面で反射されやすい。したがって、共通電極71にモスアイ構造部71aを設けることにより、コントラスト比の低下を抑制する効果を特に大きく得られる。
また、本実施形態によれば、入射側偏光板21、射出側偏光板22、及び1/4波長板31,32は、液晶層80と液晶層80を挟持する対向基板11及び素子基板12とに対して、それぞれ独立して配置されている。そのため、本実施形態によれば、入射側偏光板21、射出側偏光板22、及び1/4波長板31,32の配置や角度をそれぞれ独立して調整することができる。
また、本実施形態によれば、入射側偏光板21、射出側偏光板22、及び1/4波長板31,32をそれぞれ他の部材と貼り合わせる必要がないため、各部材間の界面に接着層を設ける必要がない。これにより、本実施形態によれば、液晶装置10の表示品質を向上できる。
従来、上記のような入射側偏光板21、射出側偏光板22、及び1/4波長板31,32が独立して配置される構成は、入射側偏光板21と1/4波長板31との間、1/4波長板31と対向基板11との間、射出側偏光板22と1/4波長板32との間、1/4波長板32と素子基板12との間に、それぞれ空気が介在するため、各部材と空気との屈折率差が大きく、各部材と空気との界面で光が反射しやすかった。これにより、液晶装置のコントラスト比が低下するため、このような構成を採用することが困難であった。
これに対して、本実施形態によれば、各部材にそれぞれモスアイ構造部が形成されているため、空気との界面においても光が反射することが抑制される。これにより、上記のような構成を採用しても、コントラスト比が低下することを抑制しつつ、上述した効果を得ることができる。
また、本実施形態によれば、各部材間の界面における光の反射を抑制できるため、反射された光が入射される光と打ち消し合うことを抑制できる。これにより、本実施形態によれば、液晶装置から射出される光の強度の低下を抑制できる。また、これにより、本実施形態によれば、光の利用効率の低下を抑制できる。
また、屈折率が異なる部材間の界面においては、光の波長ごとに反射率が異なり、色むらが発生する場合があった。
これに対して、本実施形態によれば、屈折率が異なる部材間の界面における光の反射を抑制できるため、液晶装置10の色むらを抑制できる。
また、本実施形態によれば、位相差板として1/4波長板が用いられているため、液晶装置10における光の透過率が低下することを抑制できる。
なお、本実施形態においては、以下の構成を採用することもできる。
上記説明においては、対向基板11を特許請求の範囲における第1基板、素子基板12を特許請求の範囲における第2基板として、第1基板及び第2基板の両方において、偏光板と液晶層との間の少なくとも一部にモスアイ構造部(反射抑制構造)が設けられる構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、入射側偏光板21と液晶層80との間の少なくとも一部にのみモスアイ構造部が設けられる構成としてもよいし、素子基板12を特許請求の範囲における第1基板として、射出側偏光板22と液晶層80との間の少なくとも一部にのみモスアイ構造部が設けられる構成としてもよい。素子基板12を特許請求の範囲における第1基板とする場合においては、射出側偏光板22が特許請求の範囲における偏光板に相当し、1/4波長板32が特許請求の範囲の位相差板に相当し、画素電極72が特許請求の範囲の電極層に相当する。
また、上記説明においては、入射側偏光板21、射出側偏光板22、1/4波長板31,32、支持基板41,42、絶縁層61,62、共通電極71、及び画素電極72のそれぞれに、モスアイ構造部が形成された構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、入射側偏光板21と液晶層80との間、及び射出側偏光板22と液晶層80との間で、対向基板11、素子基板12、入射側偏光板21、射出側偏光板22、1/4波長板31,32の少なくとも1つの主面にモスアイ構造部(反射抑制構造)が形成されている範囲内において、モスアイ構造部が設けられる数、及び位置は、特に限定されない。
なお、本明細書において、対向基板11及び素子基板12における主面とは、対向基板11及び素子基板12を構成する各層、具体的には、支持基板41,42、レンズ層51、配線層52、絶縁層61,62、共通電極71、及び画素電極72の主面を含むものとする。
また、上記説明においては、各モスアイ構造部が各部材の面における光が透過する部分に対応して形成されている構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、各部材の面全体にモスアイ構造部が形成されていてもよい。
また、本実施形態においては、1/4波長板31,32の代わりに、例えば、1/2波長板等の他の位相差板が設けられていてもよい。
また、本実施形態においては、図3に示すように各部材が貼り合わされた構成としてもよい。
なお、以下の説明においては、上記説明した実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付す等により説明を省略する場合がある。
図3は、本実施形態の液晶装置の他の一例を模式的に示す断面図である。
図3に示す液晶装置110は、対向基板(第1基板)111と、素子基板(第2基板)112と、液晶層80と、入射側偏光板(偏光板)121と、射出側偏光板122と、1/4波長板(位相差板)131と、1/4波長板132と、を備える。
対向基板111と素子基板112とは、液晶層80を挟んで対向するようにして設けられている。
対向基板111は、支持基板141と、レンズ層51と、絶縁層61と、共通電極71と、を備える。
素子基板112は、支持基板142と、配線層52と、絶縁層62と、複数の画素電極72と、を備える。
支持基板141,142は、支持基板41,42に対して、モスアイ構造部が形成されていない点を除いて、同様の構成である。
1/4波長板131は、支持基板141と貼り合わされている。言い換えると、支持基板141(対向基板111)は、1/4波長板131と接するように設けられている。1/4波長板131は、1/4波長板31に対して、モスアイ構造部が形成されていない点を除いて、同様である。
1/4波長板132は、支持基板142と貼り合わされている。言い換えると、支持基板142(素子基板112)は、1/4波長板132と接するように設けられている。1/4波長板132は、1/4波長板32に対して、モスアイ構造部が形成されていない点を除いて、同様である。
入射側偏光板121は、1/4波長板131と貼り合わされている。言い換えると、1/4波長板131は、入射側偏光板121と接するように設けられている。入射側偏光板121は、入射側偏光板21に対して、モスアイ構造部が形成されていない点を除いて、同様である。
射出側偏光板122は、1/4波長板132と貼り合わされている。言い換えると、1/4波長板132は、射出側偏光板122と接するように設けられている。射出側偏光板122は、射出側偏光板22に対して、モスアイ構造部が形成されていない点を除いて、同様である。
この構成によれば、入射側偏光板121と1/4波長板131との間、1/4波長板131と対向基板111との間、射出側偏光板122と1/4波長板132との間、1/4波長板132と素子基板112との間に、空気が介在しないため、各部材間の界面で光が反射しにくく、液晶装置のコントラスト比が低下することを抑制できる。
なお、この構成においても、入射側偏光板121と1/4波長板131との間、1/4波長板131と対向基板111との間、射出側偏光板122と1/4波長板132との間、1/4波長板132と素子基板112との間に、それぞれモスアイ構造部が形成されていてもよい。
また、上記説明した本実施形態の液晶装置10,110は、いずれも透過型の液晶装置としたが、本発明は、反射型の液晶装置に適用することもできる。
(電子機器)
以下、上述した液晶装置10を備えた電子機器の一例として、プロジェクターを例示して説明する。
図4は、本実施形態に係るプロジェクター1000の概略構成の一例を示す模式図である。
図4に示すプロジェクター1000は、光変調手段(ライトバルブ)として上記実施形態の液晶装置10を3つ用いた、いわゆる3板式の液晶プロジェクターである。
プロジェクター1000は、光源1100と、ダイクロイックミラー1107,1108と、反射ミラー1106と、導光手段1121と、上記液晶装置10を用いた液晶ライトバルブ100R,100G,100Bと、クロスダイクロイックプリズム1112と、投射レンズ系1114と、を備える。
光源1100は、メタルハライド等のランプ1102と、ランプ1102の光を反射するリフレクター1101と、を備える。
ダイクロイックミラー1107は、光源1100からの白色光のうちの赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー1106で反射され、赤色光用の液晶ライトバルブ100Rに入射される。一方、ダイクロイックミラー1107で反射された青色光及び緑色光は、ダイクロイックミラー1108に入射される。
ダイクロイックミラー1108は、青色光を透過させるとともに、緑色光を反射する。ダイクロイックミラー1108によって反射された緑色光は、緑色用の液晶ライトバルブ100Gに入射される。一方、ダイクロイックミラー1108を透過した青色光は、導光手段1121に入射される。
導光手段1121は、入射レンズ1122と、リレーレンズ1123と、射出レンズ1124と、2つの反射ミラー1106と、を備える。入射レンズ1122とリレーレンズ1123と射出レンズ1124とを含むリレーレンズ系は、青色光の光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するために設けられている。
青色光は、導光手段1121を介して、青色光用の液晶ライトバルブ100Bに入射される。
各液晶ライトバルブ100R,100G,100Bに入射された各色光は、変調され、それぞれクロスダイクロイックプリズム1112に入射される。クロスダイクロイックプリズム1112は、4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されたものである。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ系1114によってスクリーン1120上に投射され、画像が拡大されて表示される。
本実施形態のプロジェクター1000によれば、上述した本実施形態の液晶装置10を用いた液晶ライトバルブ100R,100G,100Bを備えているため、コントラスト比が低下することを抑制できるプロジェクターが得られる。
なお、本実施形態の液晶装置10は、他の電子機器として、例えば、携帯電話、電子ブック、パーソナルコンピューター、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダー型あるいはモニター直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネル等に用いることができる。
また、電子機器に用いる液晶装置として、液晶装置10の代わりに、図3に示した液晶装置110を用いてもよいことはいうまでもない。
実施例1,2を製造し、比較例と対比した。
実施例1は、図1に示す液晶装置10の構成を有する液晶装置とした。実施例2は、図3に示す液晶装置110の構成を有する液晶装置とした。
比較例は、図5に示す液晶装置210の構成を有する液晶装置とした。
実施例1,2及び比較例において、対向基板及び素子基板の支持基板はガラス板とし、共通電極及び画素電極は、それぞれITO電極とした。
実施例1,2において、モスアイ構造部の凸部のピッチPは、300nmとし、突出高さWは、350nmとした。凸部の形状は、四角錐形状とした。
実施例1,2及び比較例のそれぞれに、黒表示状態において、対向基板側から光を入射させ、素子基板から射出される光、すなわち、液晶装置から漏れる光の強度を測定した。白表示状態において素子基板から射出される光の強度を100として、測定した光の強度比を算出し、実施例1,2と比較例とを対比した。
その結果、比較例では、光の強度比が0.4であったのに対して、実施例1では、光の強度比が0.02であり、実施例2では、光の強度比が0.01であった。これにより、本実施例によれば、黒表示状態において液晶装置から漏れる光の強度比を低下させることができ、液晶装置のコントラスト比の低下を抑制できることが確かめられた。
10,110…液晶装置、11,111…対向基板(第1基板)、12,112…素子基板(第2基板)、21,121…入射側偏光板(偏光板)、21a,22a,31a,31b,32a,32b,41a,42a,61a,62a,71a,72a…モスアイ構造部(反射抑制構造)、22,122…射出側偏光板(偏光板)、31,32,131,132…波長板(位相差板)、63,73…凸部、71…共通電極(電極層)、72…画素電極(電極層)、80…液晶層、P…ピッチ(間隔)

Claims (7)

  1. 互いに対向する第1基板及び第2基板と、
    前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された液晶層と、
    前記第1基板の前記液晶層とは反対側に設けられた偏光板と、
    前記第1基板と前記偏光板との間に設けられた位相差板と、
    を備え、
    前記第1基板、前記第2基板、前記偏光板及び前記位相差板の少なくとも1つの面は、前記偏光板と前記液晶層との間に、透光性を有する材料からなる複数の凸部が配列された反射抑制構造が設けられ、
    前記反射抑制構造の前記複数の凸部は、隣り合う2つの凸部の間の間隔が可視光線の波長よりも短くなるように配列されていることを特徴とする液晶装置。
  2. 前記液晶層と前記第1基板との間に設けられた電極層をさらに備え、
    前記反射抑制構造の前記複数の凸部は、前記電極層に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
  3. 前記反射抑制構造の前記複数の凸部は、前記第1基板と前記偏光板との間に設けられることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。
  4. 前記第1基板と前記位相差板とは、離間して設けられ、
    前記位相差板と前記偏光板とは、離間して設けられることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の液晶装置。
  5. 前記第1基板は、前記位相差板と接するように設けられ、
    前記位相差板は、前記偏光板と接するように設けられることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の液晶装置。
  6. 前記位相差板は、1/4波長板であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の液晶装置。
  7. 請求項1から6のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
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