JP5198122B2 - 産業用ワイパー - Google Patents
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Description
この産業用ワイパーにおいては、水分や油分の拭き取り性に加えて、紙粉(リント)の発生が少ないことが求められ、その拭き取り性能を高めるべく、複数枚を重ねるとともにこれらをエンボスによって一体化したプライ構造とすることが行われている。
従来の産業用ワイパーにおけるエンボスパターンは、図2に示されるピンエンボスパターンか、図3に示されるディンプル状エンボスパターンが主であった。これは、図2に示されるピンエンボスパターンは、そのエンボス凹部に塵や埃等の汚れがよく取り込まれるため、かかる粉塵物の拭き取り性に優れ、また、図3に示されるディンプル状エンボスパターンは、ディンプルの凹凸によってグリスなどの粘度の高い汚れの拭き取り性に優れるためである。
しかしながら、前者のピンエンボスパターンを有するものは、グリスなどの粘度の高い汚れの拭き取りには適さず、後者のディンプル状エンボスパターンを有するものは、水等の粘度の低い液体の拭き取りには適していなかった。
<請求項1記載の発明>
産業用製品及びこれに用いる部品に付着した塵・埃・水分・油分の拭き取りに用いられる産業用ワイパーであって、
複数枚の積層された基材紙がエンボスによってプライ構造にされ、
その基材紙が、LBKP10〜30重量%、NBKP70〜90重量%のパルプからなるクレープ紙であり、
前記エンボスが、凹エンボスラインが基材紙の縦方向に対して45±10度及び135±10度の交差角となるようにして格子状に配されたエンボスパターンを有し、
前記凹エンボスラインの幅が1〜3mmであり深さが1〜3mmであり、
かつ、単位面積あたりの凹エンボスラインの面積が2〜40%であり、
前記凹エンボスラインで囲まれる矩形部分の対角線距離で定義されるエンボスピッチが10〜30mmであることを特徴とする産業用ワイパー。
前記エンボスは、凹エンボスラインによって囲まれる矩形部分に、一つ以上の円形凹エンボスが配されているエンボスパターンを有する請求項1記載の産業用ワイパー。
前記円形凹エンボスは、半径が1〜5mm、深さが0.5〜3.0mm、隣接する円形エンボス間の距離が2〜10mmである請求項2記載の産業用ワイパー。
<第1の実施の形態>
図1は、本願発明にかかる紙製品である産業用ワイパー1の第1の実施形態を示すものである。
この産業用ワイパー1は、複数枚の積層された基材紙がエンボスによってプライ構造とされている。
本発明においては、その積層数(プライ数)は、特に限定されはしないが2〜5プライ、特には3又は4プライであるのがよい。5プライを超えると拭き取り操作時にプライ間でズレが生じて皺が発生し、拭き取り性が低下する。
なお、縦方向とは、基材紙の縦方向を意味し、抄造時における流れ方向に沿う方向である。この縦方向は、一般的にはMD方向とも言われる。また、この縦方向と直交する方向は横方向という。この横方向は一般的にはCD方向とも言われる。
図1に示す例では、交差角αは45度及び135度となるようにして格子状に配している。
以上のようにしてエンボスが付与された基材紙は、既知の方法に従って、インターフォルダ等により積層し折り畳んだり、巻き取ったりして製品とすることができる。
製造は、NBKP及びLBKPを含む抄造原料を既知のクレープ紙、薄葉紙の製造に基づいて抄造することができる。
次いで、本発明のより好ましい形態を図7を参照しながら説明する。本発明の形態は、図2からも明らかなように、上述の凹エンボスライン10によって形成される矩形部分内に、さらに円形の凹エンボス11,11が配されている形態である。凹エンボスラインの構成及び基材紙の構成など、円形凹エンボスに関する構成以外の構成については、第1の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
本願発明の各例にかかる試料はすべて、坪量19.2g/m2の基材紙を4枚重ねとしてエンボスを付与したものである。
実施例1は、第1の実施の形態にかかる上記説明の図1に示すエンボスパターンを採用したものである。
実施例2は、第2の実施の形態にかかる上記説明の図2に示すエンボスパターンを採用したものである。
なお、本例における隣接する円形エンボス間の距離は1.8mmであり、円形エンボスの半径は1.1mmである。
比較例2は、図4に示すディンプル状の単位エンボス凹部30を規則的に配置したディンプル状エンボスパターンを採用した産業用ワイパーX12ある。
比較例3は、図5に示す六角形の網の目状にエンボス凹部40を配したエンボスパターンを採用した産業用ワイパーX13である。
比較例4は、図6に示す紙の横方向に沿って破線状エンボス50を配置したパターンを採用した産業用ワイパーX14である。
比較例5は、図7に示すドーナツ状の単位凹エンボス60を規則的に配置したエンボスパターンを採用した産業用ワイパーX15である。
なお、各例における単位凹エンボス(エンボスを構成する一つの凹エンボス)間の縦横の間隔Ly,Ltは、試験の結果とともに表1中に示す。
表面平滑な水平台(一般に使われる実験台、天板材質:セグラン、セルロン)上に常温の水をマイクロピペットで250μ?滴下し、各例に係る試料(寸法:横315mm×縦405mm)を4つ折りにし、500gのおもりを載せた状態で水平台上を約1秒間でスライド移動させて、上記滴下した水を拭き取る操作を行う。評価は、水分の拭き取り良好であるか否かを目視にて確認し、4段階評価(◎よく拭き取れる、○普通に拭き取れる、△拭き残しが確認できる。×十分に拭き取りができたとは言い難い)で評価した。
試料となる15cm×15cmの大きさのシートの上に、ピペットで水300μlを滴下して、その水の浸透する具合を目視にて確認し、速度の印象を三段階で評価した。表中の○は極めて迅速に浸透すると感じたもの、△は、早くも遅くもないと感じたもの、×は遅いと感じたものである。
以上のことから、本発明の産業用ワイパーは、水の拭き取り性及び水の吸収拡散性に優れることが確認できた。
従って、本発明によれば、粉塵等やグリスなどの粘度の高い汚れの拭き取り性と水分の吸収性に優れる紙製品が提供される。
Claims (3)
- 産業用製品及びこれに用いる部品に付着した塵・埃・水分・油分の拭き取りに用いられる産業用ワイパーであって、
複数枚の積層された基材紙がエンボスによってプライ構造にされ、
その基材紙が、LBKP10〜30重量%、NBKP70〜90重量%のパルプからなるクレープ紙であり、
前記エンボスが、凹エンボスラインが基材紙の縦方向に対して45±10度及び135±10度の交差角となるようにして格子状に配されたエンボスパターンを有し、
前記凹エンボスラインの幅が1〜3mmであり深さが1〜3mmであり、
かつ、単位面積あたりの凹エンボスラインの面積が2〜40%であり、
前記凹エンボスラインで囲まれる矩形部分の対角線距離で定義されるエンボスピッチが10〜30mmであることを特徴とする産業用ワイパー。 - 前記エンボスは、凹エンボスラインによって囲まれる矩形部分に、一つ以上の円形凹エンボスが配されているエンボスパターンを有する請求項1記載の産業用ワイパー。
- 前記円形凹エンボスは、半径が1〜5mm、深さが0.5〜3.0mm、隣接する円形エンボス間の距離が2〜10mmである請求項2記載の産業用ワイパー。
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