JP5197960B2 - 電子デバイスおよびその製造方法、ならびにそれを用いた電子機器 - Google Patents

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Description

本発明は、有機分子層を含む電子デバイスおよびその製造方法、ならびにそれを用いた機器に関する。
無機材料を用いた従来の電子デバイスは、結晶シリコンに代表されるようにバルクの物性を利用する。このため、微細化が極限まで進行するとバルクの特性が得られなくなり、所望の機能を得ることが困難となる。一方、有機材料は一つの分子に機能を持たせ、それらを素子サイズまで拡張して所望の機能を発揮させることが可能である。
有機材料には、炭素の骨格をベースとする様々な化合物が存在する。中でも導電性を有する有機分子は、その分子構造に由来する多様な電気特性を発現することが確認されており、薄膜トランジスタ、センサ、有機LED、コンデンサ、電池、生体機能デバイス、レーザなど、様々な有機電子デバイスへの応用が提案されている。
薄膜トランジスタ(以下、TFTという場合がある)は、現在、アクティブマトリクス型の液晶ディスプレイ等における駆動素子として期待されている。TFTは、通常、アモルファスシリコンや低温ポリシリコンといった無機半導体材料で形成されている。TFTの半導体層を有機分子で形成することによって、低コスト化や大面積化が可能となる。
しかしながら、現在報告されている有機半導体は、無機半導体に比べてキャリア移動度が低く、それを用いた素子は駆動電圧が高いなどの問題がある。そのため、有機半導体のキャリア移動度の向上や、有機半導体を用いた素子の駆動電圧の低減についての研究がされている。
導電性有機分子を用いた有機電子デバイスでは、ほとんどの場合、導電性有機分子の特性から期待されるデバイス特性が十分には得られない。その要因の一つとして、電極と導電性有機分子との接続性が十分ではないことが考えられる。両者の電気的接続性を向上させる方法の1つとして、電極と有機半導体層との間に有機物層(電子輸送層または正孔輸送層)を配置することによって、電極から有機半導体への電荷の受け渡しを容易にし、有機TFTの駆動電圧を低下させる方法が開示されている(特開平10−125924号公報)。また、導電性有機薄膜と電極との接続抵抗を小さくする目的で、金属膜、導電性ポリマー膜、電極と化学結合する単分子膜のいずれかによって、電極を被覆する方法が開示されている(特開2003−309307号公報)。
しかしながら、特開平10−125924号公報に記載の方法では、有機物層(電子輸送層または正孔輸送層)が、電極および半導体層から独立した中間層として配置されるため、有機物層を所定の位置に形成するためにはパターニングなどの工程が必要であった。また、従来の技術では、電極と有機分子層との間の電気的接続の向上が十分とはいえず、特性のばらつきが大きくなる場合もあった。
このような状況を考慮し、本発明は、有機分子層と電極との間の接続抵抗が低く、そのばらつきが小さい電子デバイスおよびその製造方法、ならびにそれを用いた各種の電子機器を提供することを目的の1つとする。
上記目的を達成するため、本発明の電子デバイスは、少なくとも1つの電極と、前記電極に隣接して形成され前記電極との間で電荷が移動する有機分子層とを備える電子デバイスであって、前記有機分子層は、π共役面(A)を構成する共役π電子を含有する複数の第1の有機分子を含み、前記電極と前記有機分子層との界面における前記電極の表面には複数の第2の有機分子が化学結合しており、前記第2の有機分子は、合環構造または大環状構造を有し、前記縮合環構造の部分または前記大環状構造の部分にはπ共役面(B)を構成する共役π電子が存在し、前記第2の有機分子は、前記電極の表面に化学結合したときに、前記π共役面(B)と前記電極の表面とが所定の範囲の角度をなす構造を有する分子であり、前記π共役面(A)と前記π共役面(B)とがなす角度が、0°〜30°の範囲にある。
ここで、所定の範囲の角度とは、特定の角度を中心とする±30°(好ましくは±15°で、より好ましくは±7.5°)を意味する。
第1および第2の有機分子は、2次元的に広がる共役π結合を含む。「π共役面」とは、共役π電子によって形成され2次元的に広がった共役結合を含む仮想の面を意味する。別の観点では、「π共役面」は、共役π結合を構成する複数の原子を含む仮想の面を意味する。なお、共役π結合を構成する複数の原子は、1つの平面内に存在せず1つの平面の近傍に存在する場合がある。そのような場合には、それらの複数の原子を含む仮想の直方体を、厚さ方向に圧縮して得られる仮想の面が「π共役面」である。
また、電子デバイスを製造するための本発明の方法は、複数の第1の有機分子を含む有機分子層を備える電子デバイスの製造方法であって、(i)表面に複数の第2の有機分子が化学結合した電極と、前記第2の有機分子を挟んで前記電極に隣接する前記有機分子層とを形成する工程を含み、前記第1の有機分子は、π共役面(A)を構成する共役π電子を含有し、前記第2の有機分子は、縮合環構造または大環状構造を有し、前記縮合環構造の部分または前記大環状構造の部分にはπ共役面(B)を構成する共役π電子が存在し、前記第2の有機分子は、前記電極の表面に化学結合したときに、前記π共役面(B)と前記電極の表面とが所定の範囲の角度をなす構造を有する分子であり、前記π共役面(A)と前記π共役面(B)とがなす角度が、0°〜30°の範囲にある。
本発明の電子デバイスでは、共役π電子によって形成されるπ共役面が揃うように第2の有機分子が電極表面に配置されるため、これに隣接する第1の有機分子のπ共役面との重なりを利用した電荷の授受が安定に実現される。その結果、電極と導電性有機分子層との間の接続抵抗およびそのばらつきを低減できる。また、第2の有機分子は電極と化学結合するため、界面における剥離などを抑制できる。このように、本発明によれば、電極と導電性有機分子層との間の接続抵抗が低く、その接続抵抗のばらつきが小さい電子デバイス(有機電子デバイス)が得られる。本発明の電子デバイスがTFTである場合、駆動電圧が低いTFTが得られる。本発明の電子デバイスは、電極上に形成される有機分子層をパターニングする必要がないため、容易に製造できる。また、本発明の電子機器は、本発明の電子デバイス(TFT)を用いているため、可撓性などの特性を備える。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
[電子デバイス]
本発明の電子デバイスは、少なくとも1つの電極と、その電極に隣接して形成され電極との間で電荷が移動する有機分子層とを備える。その有機分子層は、π共役面(A)を構成する共役π電子を含有する複数の第1の有機分子を含む。電極と有機分子層との界面における電極の表面には複数の第2の有機分子が化学結合している。第2の有機分子は、π共役面(B)を構成する共役π電子を含有する。第2の有機分子は、電極の表面に化学結合したときに、π共役面(B)と電極の表面とが所定の範囲の角度をなす構造を有する分子である。
上記有機分子層は、第1の有機分子によって構成されるが、本発明の効果が得られる限り、有機分子層は第1の有機分子以外の物質を含んでもよい。また、第1の有機分子は、複数種の有機分子を含んでもよいが典型的には1種類の有機分子である。第1の有機分子を含む有機分子層は、導電層または半導体層として機能する。第1の有機分子は、そのような層を形成できるものであればよく、特に限定されない。
第1の有機分子は、有機導電層や有機半導体層を構成する分子である。第1の有機分子の一例については、実施形態1で説明する。
第2の有機分子は、電極の表面に化学結合している。ここで、化学結合とは、共有結合、配位結合、イオン結合などの結合を含む。第2の有機分子は、電極の表面に化学結合すると、その表面とπ共役面(B)とが所定の範囲の角度をなす構造を有する。そのような構造としては、たとえば、π共役面(B)にメルカプト基が結合している構造が挙げられる。π共役面(B)と電極表面とがなす角度は、π共役面(B)と電極表面とを結合させるメルカプト基の、数および位置によって変化する。
第2の有機分子は、π共役面(B)を形成する共役π電子に加えて、他の共役π電子を含んでもよい。第2の有機分子は、電極表面を構成する原子と結合しやすい基を含むことが好ましい。第2の有機分子の一例については、実施形態1で説明する。なお、第2の有機分子は、複数種の有機分子を含んでもよいが典型的には1種類の有機分子である。
第2の有機分子が化学結合する電極の材料に特に限定はないが、少なくとも電極の表面は、第2の有機分子が化学結合可能な原子を含む。電極は、たとえば、金属や、導電性の金属酸化物で形成することができる。
本発明の電子デバイスでは、第1の有機分子のπ共役面(A)と第2の有機分子のπ共役面(B)とがなす角度が、0°〜30°の範囲(より好ましくは0°〜15°の範囲)にあることが好ましい。このように、第2の有機分子のπ共役面と第1の有機分子のπ共役面とが平行に近い場合、それら2つの面が対向しやすくなるため、電極と有機分子層との間の接続抵抗をより小さくすることができる。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子のπ共役面(B)と電極の表面とがなす角度が0°〜15°の範囲(好ましくは0°〜5°の範囲)、または、75°〜90°の範囲(好ましくは85°〜90°の範囲)にあってもよい。第2の有機分子のπ共役面(B)と電極の表面とを、ほぼ平行またはほぼ垂直にする場合、第2の有機分子の設計の自由度が増すと共に、第2の有機分子のπ共役面(B)と電極の表面とがなす角度を容易に揃えることができるため、安定した特性の電子デバイスが得られる。
第1の有機分子は、公知の方法によって、それが配置される表面に対して所定の方向に配向させることが可能である。たとえば、第1の有機分子のπ共役面(A)が、配置表面に対してほぼ垂直またはほぼ平行となるように、第1の有機分子を配向させることが可能である。そのため、上記所定の角度を上記範囲とすることによって、第1の有機分子のπ共役面(A)と第2の有機分子のπ共役面(B)との角度を0°〜30°の範囲とすることが容易となる。
第1の有機分子の配向の制御方法は公知であり、たとえば、「有機トランジスタの動作性向上技術」(出版:技術情報協会。2003年。p87−102)や、「有機半導体の応用展開」(出版:株式会社シーエムシー出版。2003年。p195−208)に記載されている方法を適用してもよい。
本発明の電子デバイスでは、π共役面(B)を構成する共役π電子が、縮合環構造の部分または大環状構造の部分に存在してもよい。縮合環構造としては、たとえば、ナフタレン、アントラセン、ペリレン、ピレンなどの芳香族多環式縮合環を用いることができ、また、縮合環としてはキノリンやカルバゾールなどのように複素環式化合物であってもよい。大環状構造とは、複数の環を含む大きな環状構造であり、たとえばポルフィリンの環状構造が挙げられる。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子が単分子層を形成していることが好ましい。なお、単分子層は第2の有機分子以外の物質を含んでもよい。第2の有機分子が単分子層を形成する場合、第2の有機分子によって形成される電極修飾層が有機分子層の物性に影響を与えることを抑制できる。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子は、互いに所定の間隔をおいて電極表面に結合していてもよい。この構成によれば、第2の有機分子の効果が電極表面において均一に得られるため、電子デバイスの特性の安定性が向上する。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子は、電極の表面の複数の原子と結合していてもよい。この構成によれば、電極修飾膜(第2の有機分子の層)がより強固に電極と結合するため、特性の安定性が高い電子デバイスが得られる。また、第2の有機分子のπ共役面(B)から複数の結合部までの長さを異なる長さとすることによって、π共役面を任意の角度に揃えることができる。また、複数の箇所で化学結合させることによって、第2の有機分子の重なりを減らすことができ、電極表面における第2の有機分子の存在密度を制御しやすくなる。
また、π共役面(B)が存在する環状構造に3つ以上の置換基が結合している場合、その複数の置換基を介して第2の有機分子が電極表面に結合することによって、π共役面(B)と電極表面とをほぼ平行にすること、および、π共役面(B)と電極表面との距離を短くすることが可能である。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子は、環状分子によって包接されていてもよい。π共役面(B)と電極とを結ぶ分子鎖を環状分子で包接することによって、その部分の近傍の耐環境性が向上するため、電子デバイスの特性の安定性が向上する。さらに、環状分子によって第2の有機分子同士の接近が制限されるので、電極表面における第2の有機分子の存在密度を制御しやすくなる。また、環状分子による包接によって第2の有機分子の直線性が増すため、電極表面に対してπ共役面を垂直に揃えやすくなる。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子が、硫黄原子を介して電極の表面の原子と結合していてもよい。
本発明の電子デバイスでは、第2の有機分子がポルフィリンであってもよい。また、本発明の電子デバイスでは、有機分子層が有機半導体層であってもよいし、導電層であってもよい。
本発明の電子デバイスでは、有機分子層が半導体層であり、電子デバイスが、有機分子層に接触する複数の電極と、有機分子層に電界を印加するための電界印加電極とを備えてもよい。電界印加電極は、有機分子層の少なくとも一方の面に、絶縁層を介して形成される。すなわち、これらは、有機分子層/絶縁層/電界印加電極という順序で配置される。この構成によれば、有機分子層に接触する複数の電極間を流れる電流を、有機分子層に印加する電界によって制御できる。このため、有機分子層(半導体層)の電界効果を利用した電子デバイスの特性の安定性を向上できる。
本発明の電子デバイスは、有機分子層に電界を印加するゲート電極をさらに備え、電極が、ソース電極およびドレイン電極から選ばれる少なくとも1つの電極であり、有機分子層がチャネル領域を形成し、電界効果トランジスタとして機能するものであってもよい。この構成によれば、ソース電極および/またはドレイン電極と有機分子層との間の電荷の授受が容易になるため、キャリア移動度が高く駆動電圧が低い有機薄膜トランジスタ(有機TFT)が得られる。
なお、本発明の電界効果トランジスタでは、ソース電極およびドレイン電極の両方に第2の有機分子が結合していることが好ましいが、一方の電極のみに第2の有機分子が結合している場合であっても本発明の効果が得られる。また、第2の有機分子は、電極表面のうちチャネル領域と接触する部分と結合していれば本発明の効果が得られるが、第2の有機分子は電極表面の全体に結合していてもよい。
別の観点では、本発明の電子デバイスは、少なくとも1つの電極と、前記電極に隣接して形成され前記電極との間で電荷が移動する有機分子層とを備える電子デバイスであって、前記有機分子層は、共役π電子を含有する第1の有機分子を含み、前記電極と前記有機分子層との界面における前記電極の表面には第2の有機分子が化学結合しており、前記第2の有機分子は共役π電子を含有し、前記共役π電子によって形成されるπ共役面と前記電極の前記表面とが所定の角度となるように揃えられている。ここで、「所定の角度となるように揃えられている」とは、第2の有機分子のπ共役面と電極表面とがなす角が所定の角度となるように、第2の有機分子の分子構造や包接化合物の構造などが規定されていることを意味する。したがって、この電子デバイスは、製造上の制約でイレギュラーに角度が異なってしまっているπ共役面(例えば、第2の有機分子で電極を修飾する際に混入する不純物の影響や電極表面の不純物や構造欠陥の影響によって角度が異なってしまっているπ共役面)を一部に含んでもよい。なお、「所定の角度」は、一定の範囲の角度であってもよく、たとえば、特定の角度を中心とする±30°程度(好ましくは±15°程度)の範囲の角度であってもよい。
[電子機器]
本発明の電子機器は、電界効果トランジスタを備える。そして、その電界効果トランジスタが、上記本発明の電界効果トランジスタである。なお、本発明の電子機器は、本発明の電界効果トランジスタ以外の電界効果トランジスタを含んでもよい。以下、本発明の電子機器として、アクティブマトリクス型ディスプレイ、無線IDタグ、携帯用機器を例に挙げて説明する。
本発明のアクティブマトリクス型ディスプレイは、画素を駆動するための複数のスイッチング素子を備え、それらのスイッチング素子が上記本発明の電子デバイス(電界効果トランジスタ)である。スイッチング素子によって画素の駆動が行われる。この構成によれば、低コストで特性の良いシートライク、或いはペーパーライクなディスプレイを実現できる。
本発明の無線IDタグは、複数の半導体素子を含み、それらの複数の半導体素子の少なくとも一部が上記本発明の電子デバイス(電界効果トランジスタ)である。本発明の電界効果トランジスタは、たとえば、無線IDタグの集積回路を構成する半導体素子の一部として利用される。このような構成によれば、様々な形状の物体や素材に貼り付けることが可能な無線IDタグが得られる。また、この構成によれば、任意の形状に形成可能な無線IDタグを実現できる。
本発明の携帯用機器は、複数の半導体素子を含み、それらの複数の半導体素子の少なくとも一部が上記本発明の電子デバイス(電界効果トランジスタ)である。本発明の電界効果トランジスタは、たとえば、携帯用機器の集積回路を構成する半導体素子の一部として利用される。このような構成によれば、携帯テレビ、通信端末、PDA、携帯用医療機器などの携帯用機器に、低コスト、フレキシブル、耐衝撃性が高い、任意の形状に形成可能といった利点を付加することができる。
[電子デバイスの製造方法]
電子デバイスを製造するための本発明の方法は、複数の第1の有機分子を含む有機分子層を備える電子デバイスの製造方法である。この方法は、表面に複数の第2の有機分子が化学結合した電極と、第2の有機分子を挟んで電極に隣接する有機分子層とを形成する工程(i)を含む。この製造方法で用いられる第1および第2の有機分子、ならびに電極については、本発明の電子デバイスと同様である。すなわち、第1の有機分子は、π共役面(A)を構成する共役π電子を含有する。第2の有機分子は、π共役面(B)を構成する共役π電子を含有する。また、第2の有機分子は、電極の表面に化学結合したときに、π共役面(B)と電極の表面とが所定の範囲の角度をなす構造を有する分子である。本発明の製造方法によれば、本発明の電子デバイスを製造できる。
以下、工程(i)の3つの例を挙げる。第1の製造方法の工程(i)は、第2の有機分子を電極の表面に化学結合させる電極修飾工程と、第2の有機分子上に、第1の有機分子を含む有機分子層を形成する工程とを含む。
第2の製造方法の工程(i)は、第1の有機分子を含む有機分子層を形成する工程と有機分子層上に第2の有機分子を配置する工程と、第2の有機分子上に電極を形成することによって、第2の有機分子を電極の表面に化学結合させる電極修飾工程とを含む。
第3の製造方法の工程(i)は、基板上に電極を形成する工程と、第2の有機分子を電極の表面に化学結合させる電極修飾工程と、第2の有機分子で修飾された電極の表面側を有機分子層に密着させることによって、有機分子層上に電極を堆積させる工程とを含む。電極を有機分子層に密着させた後、電極から基板を剥離することによって、電極を有機分子層側に転写できる。
上記第1〜第3の製造方法において、第2の有機分子は、第2の有機分子のπ共役面(B)と電極の表面とが所定の角度となるように電極の表面と結合する。
本発明の製造方法では、電極の材料やそれに結合する第2の有機分子などを選択することによって、複数の第2の有機分子は、それぞれのπ共役面(B)が電極の表面に対して所定の角度となるように電極表面に結合する。このため、第1の有機分子のπ共役面と第2の有機分子のπ共役面との重なりを利用した電荷の授受が安定に実現され、その結果、特性ばらつきの小さい電子デバイスを製造できる。また、この方法によれば、パターニングなどの工程が不要となり、電極表面に容易に単分子層を形成することができる。したがって、界面における剥離などの問題もなく、第1の有機分子によって構成される有機分子層の本来の物性に影響を与えることのない電極修飾膜が容易に得られる。
本発明の製造方法では、第1の有機分子のπ共役面(A)と第2の有機分子のπ共役面(B)とがなす角度が、0°〜30°の範囲にあることが好ましい。この方法によれば、第2の有機分子のπ共役面と、有機分子層を構成する第1の有機分子のπ共役面とが対向しやすくなるので、電極−有機分子層間の接続抵抗がより小さい電子デバイスを製造できる。
本発明の製造方法では、第2の有機分子のπ共役面(B)と電極の表面とがなす角度が、0°〜15°の範囲または75°〜90°の範囲にあることが好ましい。
本発明の方法では、π共役面(B)を構成する共役π電子が、縮合環構造の部分または大環状構造の部分に存在してもよい。
本発明の製造方法では、第2の有機分子が自己組織化して電極の表面と化学結合してもよい。この方法によれば、複数の第2の有機分子同士を容易に配向させることができるので、より特性のばらつきの小さい電子デバイスを製造できる。
本発明の製造方法では、第2の有機分子は、電極の表面に存在する原子と結合する官能基を複数個含有し、第2の有機分子は、電極の表面の複数の原子と結合してもよい。この方法によれば、電極修飾膜(第2の有機分子の層)がより強固に電極と結合するため、特性の安定性が高い電子デバイスを製造できる。また、第2の有機分子の共役π電子によって形成されるπ共役面から複数の結合部までの長さを異なる長さとすることによって、π共役面を任意の角度に揃えることができる。また、複数の箇所で化学結合させることによって、第2の有機分子の重なりを減らすことができ、電極表面における第2の有機分子の存在密度を制御しやすくなる。
本発明の製造方法では、工程(i)の前に、第2の有機分子と環状分子とを溶媒中で混合することによって、第2の有機分子を環状分子によって包接させる工程を含み、環状分子で包接された第2の有機分子と電極とを化学結合させてもよい。この構成によれば、第2の有機分子のうち環状分子によって包接される部分の近傍の耐環境性が向上するため、電子デバイスの特性の安定性が向上する。さらに、環状分子によって第2の有機分子同士の接近が制限されるので、電極表面における第2の有機分子の存在密度を制御しやすくなる。また、環状分子による包接によって第2の有機分子の直線性が増すため、電極表面に対してπ共役面を垂直に揃えやすくなる。
また、本発明の製造方法では、第2の有機分子が、硫黄原子を介して電極の表面の原子と結合していてもよい。
以下、本発明の実施形態の例について説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されない。なお、以下の実施形態で説明する化合物の一部の製造方法については後述する。また、以下の図では、ハッチングを省略する場合がある。
[実施形態1]
実施形態1では、TFTの半導体層を構成する第1の有機分子として、オリゴチオフェン誘導体を用いる場合について説明する。
図1A〜Dは、本発明のTFTの代表的な例を模式的に示す断面図である。図1A〜図1Dに示すように、本発明のTFTには様々な構成が存在する。いずれのTFTも、基板11、ゲート電極12、ゲート絶縁層13、半導体層(有機分子層)14、ソース電極15、ドレイン電極16、および電極修飾層(図示せず)を備えている。ゲート電極12はゲート絶縁層13を挟んで半導体層14と対向している。ゲート電極12により半導体層14に印加される電界によって、ON/OFF状態が制御される。電極修飾層は上述した第2の有機分子によって構成され、半導体層14は上述した第1の有機分子によって構成される。
一般に、図1AのTFT100aおよび図1CのTFT100cは、トップコンタクト方式のTFTと呼ばれている。また、図1BのTFT100bと図1DのTFT100dはボトムコンタクト方式のTFTと呼ばれている。TFT100bおよびTFT100dは、電極修飾層の形成が容易であるため、本発明の適用が容易である。
本発明のTFTは、図2Aおよび図2Bのような構造であってもよい。図2Aおよび図2BのTFT100eおよび100fでは、ソース電極15とドレイン電極16とが半導体層14を挟んで対向している。
なお、図1および図2に示したTFTは一例であり、本発明はこれに限定されない。また、以下では、半導体層14とソース電極15との界面、および半導体層14とドレイン電極16との界面に電極修飾層が形成されている場合を主に説明するが、本発明のTFTはこれに限定されず、いずれかの一方の電極と半導体層14との間にのみ電極修飾層が形成されてもよい。
以下、図1BのTFT100bを例に挙げて説明する。図1Bに示すように、基板11の一主面上にはゲート電極12が形成され、ゲート電極12を覆うようにゲート絶縁層13が形成されている。ソース電極15およびドレイン電極16は、ゲート絶縁層13の上に、距離をおいて形成されている。ソース電極15およびドレイン電極16の表面には、電極修飾層(図示せず)が形成されている。電極修飾層を構成する有機分子は電極表面の原子と化学結合している。そして、その有機分子のπ共役面は、それと電極の表面とが所定の角度になるように概ね揃えられている。そして、2つの電極およびゲート絶縁層13を覆うように、π電子共役系分子(第1の有機分子)を主成分とする半導体層14が形成されている。このように、TFT100bでは、基板11上に、ゲート電極12、ゲート絶縁層13、2つの電極、および半導体層14が積層されている。
TFT100bでは、ソース電極15の表面のうち半導体層14に隣接する表面、および、ドレイン電極16の表面のうち半導体層14に隣接する表面に電極修飾層が形成されている。この電極修飾層によって、ソース電極15およびドレイン電極16と半導体層14との間の接続抵抗が低減される。
次に、図1Dに示すTFT100dを例に挙げて説明する。TFT100dでは、ソース電極15およびドレイン電極16が、基板11の一主面上に、一定の距離をおいて形成されている。ソース電極15およびドレイン電極16の表面には、電極修飾層(図示せず)が形成されている。電極修飾層を構成する有機分子は電極表面の原子と化学結合している。そして、その有機分子のπ共役面は、それと電極の表面とが所定の角度になるように揃えられている。半導体層14は、2つの電極と基板11とを覆うように形成される。ゲート絶縁層13は、半導体層14上に形成される。ゲート電極12は、ゲート絶縁層13上であって、少なくともソース電極15とドレイン電極16との間の領域に対応する位置に形成される。このように、TFT100dでは、基板11上に、2つの電極、半導体層14、ゲート絶縁層13、およびゲート電極12が積層されている。
以下に、本発明のTFTについて、3つの例を具体的に説明する。
[第1の例]
第1の例では、図1Bに示したTFT100bを製造した一例について説明する。この例では、基板11として、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」という場合がある)のフィルムを用いた。ゲート電極12はニッケル(Ni)で形成し、ソース電極15およびドレイン電極16は金(Au)を主成分とする材料で形成した。電極修飾層を構成する有機分子については、後述する。ゲート絶縁層13は、ポリビニルアルコールで形成した。半導体層14は、π電子共役系分子の一種であるオリゴチオフェン誘導体で形成した。
半導体層14を構成するオリゴチオフェン誘導体の分子構造を、図3Aに示す。また、オリゴチオフェン誘導体におけるσ結合およびπ電子雲の様子を、図3Bに模式的に示す。また、図3Cは、図3Bに示される方向にπ電子雲が形成されたオリゴチオフェン誘導体のπ共役面を模式的に示す斜視図である。なお、図3Aにおいて、オリゴチオフェン誘導体の主鎖の末端の記載は省略している。また、図3Bにおいて、オリゴチオフェン誘導体の主鎖の末端の記載および側鎖の化学構造の記載は省略している。
図3Aに示すように、オリゴチオフェン誘導体の主鎖においては、硫黄原子(S)を含み二重結合を有する五員環がσ結合によって繰り返し結合しており、π共役系が発達している。
オリゴチオフェン誘導体では、各五員環同士は同一平面内に存在するのではなく、各五員環同士がσ結合によって多少ねじれて結合している。このため、各五員環のπ共役面は、平行に配列されているわけではない。しかしながら、すべての五員環によって形成されるπ共役面は、図3Cに模式的に示されるような平面で近似することが可能である。以下の図面では、π共役面を図3Cに示すような平面で表す場合がある。
第1の例では、オリゴチオフェン分子に側鎖を導入したオリゴチオフェン誘導体を用いた。具体的には、図3Aに示すように硫黄原子を含む五員環の特定の位置にアルキル基(この例では、−C613)が結合したレギオレギュラー型(Regioregular型。以下、「RR−」と記載する場合がある)のポリ(3−ヘキシルチオフェン)を用いている。
TFTの半導体層として用いられる際、図3で説明したオリゴチオフェン誘導体は、図4に示すようにπ共役面が平行にスタックするように形成されることが好ましい。図4では、オリゴチオフェン誘導体の1分子を図3Cに示すように短冊状の四角形で表している。図4において、XY軸によって形成される平面は半導体層の主面と平行な平面を表しており、Z軸方向は半導体層の厚み方向を示している。このように形成された半導体層は、導電率の異方性を有し、X軸方向の導電率が大きくなるため、ソース電極とドレイン電極はX軸方向に沿って対向するように形成されることが好ましい。
次に、ソース電極15およびドレイン電極16の表面を修飾するπ電子共役系分子(第2の有機分子)について説明する。背景技術で述べたように、電極と有機半導体との接続抵抗を下げるために、電極に有機分子となじみのよい単分子膜をコーティングすることが提案されている。従来提案されているコーティング膜は、(1)有機半導体のイオン化ポテンシャルと電極材料の仕事関数とのギャップを調整する、(2)親油性や親水性を制御する、などの観点から材料が選択されていた。これに対して、本発明の材料設計は異なる観点から行われている。すなわち、図3および図4で説明したようなπ電子共役系分子を主成分とする有機半導体を用いる場合、半導体層と電極との間の電荷の授受をスムーズにするためには、π共役面を含む有機分子で電極を修飾することが好ましい、という観点から材料設計を行っている。
第1の例において用いた第2の有機分子を図5A〜図5Dに示す。第1の例では、ソース電極およびドレイン電極を構成する材料としてAuを用いているため、Auとの強い結合が期待できるメルカプト基(−SH)を結合基として用いた。図5Aの分子では、ナフタレン部分がπ共役面を構成する。図5BおよびCの分子では、ポルフィリン環の部分がπ共役面を構成する。図5Dの分子では、ベンゼン環の部分がπ共役面を構成する。これらの有機分子とAu表面とを反応させると、これらのメルカプト基部分の硫黄原子とAu原子とが化学結合する。
以下に、第1の例におけるTFT100bの製造方法について説明する。まず、PET基板(厚み100μm)上に、ゲート電極12として、所定の形状のNi電極(厚み100nm)を、マスクを用いた蒸着によって形成した。次に、ポリビニルアルコールの水溶液をスピンコート法によって塗布した後、乾燥させ、ゲート絶縁層13(厚み500nm)を形成した。続いて、所定の形状のソース電極15およびドレイン電極16を、マスクを用いた蒸着によってゲート絶縁層上に形成した。具体的には、チャネル長が50μmでチャネル幅が500μmとなるようにAu電極(厚み100nm)を形成した。
次に、基板を、図5に示した第2の有機分子のクロロホルム溶液中に1時間浸漬した。浸漬後に基板を取り出し、基板を純粋なクロロホルムで洗浄して不要な有機分子(Au原子と結合していない有機分子)を取り除いたのち、乾燥させ、電極修飾層を形成した。この工程によって、第2の有機分子が電極表面に化学結合する。さらに、RR−ポリ(3−ヘキシルチオフェン)のクロロホルム溶液をスピンコート法によって塗布した後、乾燥させ、半導体層14(厚み500nm)を形成した。この方法で形成された半導体層14では、RR−ポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面が、基板11の表面に対してほぼ垂直になるように配置される。また、ソース電極15とドレイン電極16との間のゲート絶縁層13の表面(半導体層が形成される表面)に対して、ラビング処理などの配向処理を施しておくことによって、ソース電極15およびドレイン電極16の側壁に対してほぼ平行になるように配置される。
このようにして、TFT100bを作製した。また、比較例として、電極修飾層を形成しないことを除いて同様の方法でTFTを作製した。
以上のようにして作製された各TFTについて、電極修飾層と半導体層14のチャネル領域とが接する部分の分子の状態を、図6に模式的に示す。ボトムゲート方式のTFT100bでは、図6に示すように、ソース電極およびドレイン電極の側面がチャネル領域に隣接する。電極の側面には、電極修飾層68が形成されている。図5Aの有機分子で電極を修飾した場合には、図6Aに示すように、ナフタレン部分の分子軸は必ずしも同一方向に揃わないが、矩形で示したπ共役面67a(断面を示し紙面の手前と奥行き方向に面を形成)は、Au電極65の表面に対してほぼ一定の角度(約10°)に揃えられる。従って、π共役面67aと、矩形で示したポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面64(断面を示し紙面の手前と奥行き方向に面を形成)とがなす角度は、一定の範囲の角度(約10°)となる。
また、図5Bの有機分子で電極を修飾した場合は、ポルフィリン環部分がスタックしやすい性質を有するため、図6Bに示すように分子軸がある程度揃った状態で化学結合するとともに、π共役面67bは、Au電極65の表面に対してほぼ一定の角度(約10°)に揃えられる。従って、π共役面67bとポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面64とは、どの部分もほぼ同じ角度(約10°)で接している。
また、図5Cの有機分子で電極を修飾した場合、その有機分子は、4つのメルカプト基によってAu電極表面と化学結合する。そのため、図6Cに示すように、図5Cの有機分子のπ共役面67cは、Au電極65の表面に対して平行に、且つそれぞれの修飾基が重なることなく一定の密度で化学結合する。従って、π共役面67cとポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面64とはほぼ平行であり、ほとんどの部分で、面同士が対向するように接している。従って、π共役面67cとポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面64とは、どの部分もほぼ同じ角度(約0°)で接している。
図6Cに示すように、電極表面と化学結合する官能基がπ共役面に3つ以上存在する場合、π共役面を電極表面とほぼ平行に配置できる。また、この場合、電極表面とπ共役面との距離が近いため、両者の間の抵抗を低減できる。
また、図5Dの有機分子で電極を修飾した場合、その有機分子は、2つのメルカプト基によってAu電極表面と化学結合する。そのため、図6Dに示すように、図5Dの有機分子のπ共役面67dは、Au電極の表面に対してほぼ一定の角度(約0°)に揃えられる。従って、π共役面67dとポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面64とは、どの部分もほぼ同じ角度(約0°)で接している。
以上のように作製した本発明のTFTと比較例のTFTとについて、駆動電圧とそのばらつき、およびキャリア移動度について評価を行った。駆動電圧は、オン状態で一定のソース−ドレイン間電流Idsが得られるソース−ドレイン間電圧Vdsで評価した。具体的には、ゲート電圧(ゲート−ソース間電圧)Vgs=−40Vをオン状態と定義し、その際のIdsとして10μAが得られるVdsの電圧値を駆動電圧とした。実際には、それぞれのTFTについて64個のサンプルを測定し、平均値と標準偏差とを算出した。また、キャリア移動度については、サンプルの中から1つのサンプルを代表サンプルとし、駆動電圧の平均値をVdsとして固定し、Vgsを+50V〜−80Vまで掃印した場合のIdsを測定し、得られたIdsから算出した。表1に、駆動電圧とキャリア移動度の評価結果を示す。
Figure 0005197960
表1に示すように、ソース電極およびドレイン電極の表面を第2の有機分子で修飾することによって、駆動電圧およびそのばらつき、並びにキャリア移動度のいずれもが、電極が修飾されていない比較例よりも向上した。また図6Bに示すように、π共役面と電極表面とがなす角だけでなく、有機分子の分子軸も揃った素子の方が、図6Aの素子に比べて修飾分子が規則正しく並ぶため、効果がより大きかった。また、電極修飾層を形成する有機分子には、図5BおよびCに示されるポルフィリン環のように、π共役系が2次元的にある程度発達している有機分子を用いる方が、よい結果が得られた。
また、図6Cに示すように、電極修飾層を構成する修飾分子のπ共役面と、半導体層14を構成する分子のπ共役面とがほぼ平行となる場合には、より高い効果が得られた。また、図6Cに示す構成では、電極修飾層を構成する修飾分子と電極とが複数の化学結合を形成することによって、ポルフィリン環部分のπ共役面が電極表面と平行となり、修飾分子同士の重なりがほぼ排除されるので、電極表面上の修飾分子の密度が均一化され、ばらつきの低減に大きな効果を発揮していると考えられる。
[第2の例]
以下に、図1DのTFT100dを製造した一例について説明する。この例では、電極修飾層以外の他の構成部分は、第1の例と同じ材料で形成した。
この例では、図7Aまたは図7Bに示す有機分子によって電極修飾層を形成した。この例でも、ソース電極およびドレイン電極がAuで形成されているため、Au電極表面で強い結合が期待できる有機分子として、ジスルフィド(図7A)、およびメルカプト基を有する化合物(図7B)を用いた。図7Aの分子ではナフタレン部分が主たるπ共役面であり、図7Bの分子ではポルフィリン環部分が主たるπ共役面である。図7Aの分子ではS−S結合が切れて硫黄原子とAu原子とが化学結合する。図7Bの分子では、メルカプト基部分の硫黄原子とAu原子とが化学結合する。
以下に、第2の例におけるTFT100dの製造方法について説明する。まず、PET基板(厚み100μm)上に、所定の形状のソース電極15およびドレイン電極16を、マスクを用いた蒸着によって形成した。具体的には、チャネル長50μm、チャネル幅500μmとなるように、マスクを用いた蒸着によってAu電極(厚み100nm)を形成した。その後、基板を、図7に示した有機分子のクロロホルム溶液に1時間浸漬した。浸漬後に基板を取り出し、純粋なクロロホルムで洗浄して不要な有機分子(Au原子と結合していない有機分子)を取り除いて乾燥させた。このようにして電極修飾層を形成した。
次に、RR−ポリ(3−ヘキシルチオフェン)のクロロホルム溶液をスピンコート法によって塗布した後、乾燥させ、半導体層14(厚み250nm)を形成した。続いて、ポリビニルアルコールの水溶液をスピンコート法によって塗布した後、乾燥させて、ゲート絶縁層13(厚み500nm)を形成した。次に、ゲート電極12としてNi電極(厚み100nm)を、マスクを用いた蒸着によって形成した。このようにしてTFT100dを作製した。また、比較例として、電極修飾層を形成しないことを除いて同様の方法でTFTを作製した。
以上のようにして作製された各TFTについて、電極修飾層と半導体層14のチャネル領域とが接する部分の分子の状態を、図8に模式的に示す。トップゲート方式の図1DのTFT100dでは、図8に示すように、電極のうち主に上面がチャネル領域と接する。
図7Aの有機分子で電極を修飾した場合は、図8Aに示すように、ナフタレン部分の分子軸は必ずしも同一方向に揃わないが、π共役面87a(断面を示し紙面の手前と奥行き方向に面を形成)は、Au電極85の表面に対してほぼ一定の角度(約10°)に揃えられる。従って、π共役面87aとポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面84(断面を示し紙面の手前と奥行き方向に面を形成)とは、どの部分もほぼ同じ角度(約80°)で接している。
また、図7Bの有機分子は、3つの結合基によって電極表面と結合し、ポルフィリン環部分(π共役面87b)が電極表面に対してほぼ垂直となる。また、ポルフィリン環同士の立体障害による自己組織化によって、図7Bの有機分子は、図8Bに示すように、分子軸が揃った状態で電極表面と結合する。従って、π共役面87bとポリ(3−ヘキシルチオフェン)のπ共役面84とが、ほとんどの部分でほぼ平行となる。
以上のように作製した本発明および比較例のTFTについて、駆動電圧とそのばらつき、およびキャリア移動度について第1の例と同様に評価を行った。駆動電圧とキャリア移動度の評価結果を表2に示す。
Figure 0005197960
表2に示すように、ソース電極およびドレイン電極の表面を第2の有機分子で修飾することによって、駆動電圧、そのばらつき、およびキャリア移動度のいずれもが、電極が修飾されていない比較例よりも向上した。
また、図8Bの素子は、図8Aの素子に比べて、第2の有機分子の分子軸が揃っており、第2の有機分子が規則正しく並ぶため、より高い効果が得られた。また、図7Bに示されるポルフィリン環のように、π共役系が2次元的にある程度発達している第2の有機分子を用いる方が、よい結果が得られた。さらに、図7Bの素子では、ポルフィリン環部分のπ共役面が電極表面に対して垂直に配置され、π共役面84と修飾分子のπ共役面87bとがほぼ平行な状態で対向するため、より高い効果が得られた。
[第3の例]
この例では、電極表面に結合するπ電子共役系分子が環状分子によって包接されているTFTについて説明する。
この例では、半導体層14および電極修飾層を構成する有機分子が異なることを除き、第2の例と同様にTFT100dを作製した。半導体層14はペンタセンで形成した。電極修飾層を構成する有機分子については後述する。
以下に、半導体層14を構成するペンタセンについて説明する。ペンタセンの構造式を図9Aに示す。図9Bは、ペンタセンのσ結合およびπ電子雲の様子を示す斜視図である。図9Cは、図9Bの方向に配置されたペンタセンのπ共役面を模式的に示す斜視図である。
図9Aに示すように、ペンタセンでは、複数の二重結合を有する六員環が繰り返し結合して構成されるπ共役系が発達している。なお、図9Aでは、水素原子は示していない。図9Bに示すように、ペンタセンでは、炭素原子91で構成される各六員環の面に対して垂直方向にπ電子雲93が存在している。なお、ペンタセンでは、各六員環同士は同一平面内に存在するので、π電子雲93の存在方向を示すベクトルは、図9Cに示す四角形に垂直な方向に統一されている。
TFTの半導体層を構成する場合、図10に示すように、π共役面が平行にスタックするようにペンタセンが配置されることが好ましい。図10では、図9Cと同様に、ペンタセン1分子を短冊状の四角形で表している。図10において、XY軸によって形成される平面は半導体層の主面と平行な平面を表しており、Z軸方向は半導体層の厚み方向を示している。図10に示すように形成された半導体層は、導電率の異方性を有し、X軸方向の導電率が大きくなる。このため、ソース電極およびドレイン電極は、X軸方向に沿って対向するように配置されることが好ましい。
次に、電極修飾層を構成する有機分子について説明する。電極修飾層は、π共役面を形成する共役π電子を有するπ電子共役系分子と、π電子共役系分子を包接する環状分子とによって形成した。用いた環状分子の構造を図11Aに示す。図11Aの一般式で示したシクロデキストリンは、グルコースの環状オリゴマーであり、グルコースの数によって環状構造の大きさが変化する。シクロデキストリンの中でも、n=4のα−シクロデキストリン、n=5のβ−シクロデキストリン、およびn=6のγ−シクロデキストリンが一般的であり、包接する対象となる分子の大きさに合わせて好適なものを選択することができる。以下の図では、シクロデキストリンを図11Bのように模式的に示す場合がある。
ソース電極15およびドレイン電極16の表面に結合する有機分子を、図12Aに示す。第3の例でも、ソース電極およびドレイン電極をAuで形成しているため、Au電極との強い結合が期待できるメルカプト基を結合基として用いた。
図11Aのシクロデキストリンの環状構造の内側は疎水性である。そのため、図12Aに示す第2の有機分子とシクロデキストリン(この例ではβ−シクロデキストリンを用いた)を水性溶媒中で混合すると、図12Bに示すように、第2の有機分子の分子鎖がシクロデキストリンに包接される。図12Bの有機分子では、ポルフィリン環部分が主たるπ共役面を構成する。図12Bの有機分子とAu電極の表面とを反応させると、メルカプト基の硫黄原子とAu原子とが化学結合する。
以下に、TFT100dの製造方法について説明する。まず、PET基板(厚み100μm)上に、所定の形状のソース電極15およびドレイン電極16を、マスクを用いた蒸着によって形成した。具体的には、チャネル長50μm、チャネル幅500μmとなるように、マスク蒸着によってAu電極(厚み100nm)を形成した。その後、基板を、図12Bに示す有機分子の水溶液に1時間浸漬した。浸漬後に基板を取り出し、純水で洗浄して不要な有機分子(Au原子と結合していない有機分子)を取り除いて乾燥させた。このようにして第2の有機分子で電極表面を修飾した。
次に、マスクを用いた蒸着によって、ペンタセンからなる半導体層14(厚み50nm)を形成した。蒸着は、基板温度90℃、蒸着速度0.1nm/秒の条件で行った。この方法によって、ペンタセンは、そのπ共役面が基板の表面に対してほぼ垂直となるように配向した。
次に、ポリビニルアルコールの水溶液をスピンコート法によって塗布した後、乾燥させ、ゲート絶縁層13(厚み500nm)を形成した。次に、ゲート電極12として、マスクを用いた蒸着によってNi電極(厚み100nm)を形成した。このようにして、TFT100dを作製した。また、比較例として、環状分子で包接されていない有機分子(図12Aの有機分子)のみで電極修飾層を形成したことを除き、同様の方法でTFTを作製した。
以上のようにして準備された各TFTについて、電極修飾層と半導体層14のチャネル領域とが接する部分の分子の状態を、図13に模式的に示す。図1DのTFT100dでは、図13に示すように、電極のうち主に上面がチャネル領域と接する。
図12Aの有機分子で電極を修飾した場合、有機分子のπ共役面と電極との間に存在する主鎖が長いため、有機分子の自立性が低く、有機分子は途中で折れ曲がっていると考えられる。そのため、π共役面137a(断面を示し紙面の手前と奥行き方向に面を形成)は、Au電極135の表面に対してランダムになっていると考えられる。これに対して、図12Bの有機分子で電極を修飾した場合、シクロデキストリンで包接されたことによって分子鎖の直線性が向上するため、ポルフィリン環部分(π共役面137a)が電極表面に対して直立する。その結果、図13Bに示すように、有機分子は、その分子軸が揃った状態で電極と化学結合する。従って、π共役面137aとペンタセンのπ共役面134とは、ほとんどの部分でほぼ平行に配列されて接している。すなわち、図13Bの場合には、π共役面137aとπ共役面134とがなす角度は、30°以下である。また、シクロデキストリンによって、ポルフィリン同士の接近や重なりが制限されるため、電極に結合する有機分子の密度を均一にすることができる。
以上のように形成したTFTについて、第1の例と同様に、駆動電圧とそのばらつき、およびキャリア移動度を評価した。表3に、駆動電圧とキャリア移動度の評価結果を示す。
Figure 0005197960
表3に示すように、本発明のTFTは、比較例のTFTに比べて、駆動電圧、そのばらつき、キャリア移動度のいずれもが優れていた。これは、第3の例のTFTでは、図13Bに示すように、ポルフィリン環部分のπ共役面が電極表面に対して垂直に配置され、半導体層のπ電子共役系分子のπ共役面と修飾分子のπ共役面とが平行に対向しており、且つ電極表面上の修飾分子の密度が均一化されているためである。
なお、上記の例では、半導体層を構成するπ電子共役系分子として、RR−ポリ(3−ヘキシルチオフェン)またはペンタセンを用いたが、本発明はこれに限定されない。つまり、本発明の効果は、電極表面に結合したπ電子共役系分子のπ共役面が電極表面に対して所定の角度に概ね揃えられていることによって発現するものであるのであって、他のπ電子共役系分子で半導体層を構成しても、同様の効果が得られる。
例えば、上記のポリチオフェン誘導体とは異なる側鎖が導入されたポリチオフェンや、末端に修飾基が導入されたポリチオフェンといったチオフェン系分子の誘導体を用いてもよい。また、ポリアセチレンやポリフェニルアセチレンといったアセチレン系分子の誘導体を用いてもよい。また、縮合環芳香族炭化水素およびその誘導体、たとえば、テトラセンやヘキサセンといったアセン系列の分子の誘導体や、フェナントレンやクリセンといったフェン系列の分子の誘導体を用いてもよい。また、ポリピロールやポリアルキルピロールといったピロール系分子の誘導体や、オリゴフェニレンやポリフェニレンといったフェニレン系分子の誘導体を用いてもよい。また、これらの分子同士や、ビニル基やエチニル基などを組み合わせたコポリマーの誘導体を用いてもよい。これらの中でも、成膜された状態で各分子のπ共役面がほぼ平行になるように積層される有機分子が好ましい。また、チャネル領域において電極表面と接する部分のπ共役面が揃いやすい有機分子が好ましい。そのような有機分子としては、2次元方向に拡がったπ共役面を備える有機分子が好ましく、たとえば、縮合環を有する有機分子や、ポルフィリンが好ましい。縮合環を有する有機分子は、2つ以上の環(たとえば、五員環や六員環)が縮合した環を有する有機分子であり、上述したアセン系列の分子の誘導体や、フェン系列の分子の誘導体が該当する。
また、上述の例ではソース電極およびドレイン電極としてAu電極を用いたため、修飾用有機分子の結合基にはメルカプト基を用いた。けれども、電極材料と電極と結合する結合基との組み合わせは上記の例の組み合わせに限定されない。強固な結合を実現するためには、Peason等によって示されているHSAB(Hard and Soft Acids and Bases)理論による分類に基づいて、電極材料と結合基との組み合わせを選択することが好ましい。具体的には、硬い酸(例えば、Ca2+、Mg2+、Al3+等)と硬い塩基(ROH、R2O、RNH2等)との組み合わせ、もしくは、柔らかい酸(例えば、Cu+、Ag+、Au+、Pt+等)と柔らかい塩基(例えば、R2S、RSH、R3P等)との組み合わせが好ましい。これらの組み合わせを用いる場合、電極表面は硬い酸もしくは柔らかい酸の金属元素を含み、第2の有機分子は硬い塩基もしくは柔らかい塩基の置換基を備える。代表的な組み合わせとしては、たとえば、Auとメルカプト基との組み合わせ(Au/−SH)、Ptとメルカプト基との組み合わせ(Pt/−SH)、カルシウムと水酸化物基との組み合わせ(Ca/−OH)が挙げられる。また、上記で選択される元素において、周期律表の同属に分類されるものは近い性質を示すことから、例えば硫黄原子をSeやTeと置き換えることも可能である。なお、多層構造の電極の場合には、電極の最表面が上記元素で形成されていればよい。
また、上記の例では、電極修飾層を構成する有機分子(第2の有機分子)として図5A〜図5D、図7A、図7Bおよび図12Bに示した有機分子を用いたが、本発明はこれに限定されない。例えば、上記のポリチオフェン誘導体とは異なる側鎖が導入されたポリチオフェンや、末端に修飾基が導入されたポリチオフェンといったチオフェン系分子誘導体を用いてもよい。また、ポリアセチレンやポリフェニルアセチレンといったアセチレン系分子の誘導体を用いてもよい。また、縮合環芳香族炭化水素およびその誘導体、たとえば、テトラセン、ヘキサセンといったアセン系列の分子の誘導体やフェナントレン、クリセンといったフェン系列の分子の誘導体を用いてもよい。また、ポリピロールやポリアルキルピロールといったピロール系分子の誘導体や、オリゴフェニレンやポリフェニレンといったフェニレン系分子の誘導体を用いてもよい。また、これらの分子同士や、ビニル基やエチニル基などを組み合わせたコポリマーの誘導体を用いてもよい。
電極修飾層を構成する有機分子は、その主要なπ共役系が2次元的に拡がっていることが好ましい。そのような分子のπ共役面は、半導体層14を構成する有機分子のπ共役面と対向しやすいため、電極修飾層と半導体層14との間の接続抵抗やそのばらつきを低減できる。主要なπ共役系の部分以外の分子構造についても、上記の例の構造に限定されないが、主要なπ共役面と結合基との間はπ共役系で結ばれていることが好ましい。なお、ポルフィリンやフタロシアニン誘導体は、図14に示すように、中央部に金属を取り込んで錯体を形成していてもよい。
上記3つの例では、ボトムコンタクト方式のTFTを本発明の第1の製造方法を用いて製造する方法について説明した。トップコンタクト方式のTFT(たとえば図1AおよびCのTFT)も、本発明の第2の製造方法によって同様に製造できる。この場合、半導体層14を形成したのちに、その表面に電極修飾層を形成する。その後、電極修飾層上にソース電極15およびドレイン電極16を形成する。電極が形成される際に、電極修飾層の有機分子と電極を構成する原子とが反応し、有機分子と電極とが化学結合する。その他の各層は公知の方法で形成できる。
また、トップコンタクト方式のTFTは、本発明の第3の製造方法で形成することもできる。この場合、まず、転写用基板上に、ソース電極15およびドレイン電極16を形成する。次に、ソース電極15およびドレイン電極16の表面を第2の有機分子で修飾する。電極を修飾する方法は、第1の製造方法と同様である。次に、第2の有機分子で修飾されたソース電極15およびドレイン電極16を半導体層14に密着させたのち、転写用基板を剥離する。このようにして、ソース電極15およびドレイン電極16を、半導体層14上に転写する。このようにして、ソース電極15およびドレイン電極16が、その表面に形成された電極修飾層を介して半導体層14に隣接する。その他の各層は公知の方法で形成できる。
第3の製造方法で用いられる転写用基板は、樹脂などからなるフレキシブルな基板であることが好ましい。また、転写を容易にするため、転写用基板の表面には離型剤などを塗布して基板と電極とが分離しやすいようにしてもよい。
また、図2Aおよび図2BのTFTも、上述した方法によって作製できる。たとえば、図2BのTFTは、半導体層14を半分程度の厚さまで形成したのち、ゲート絶縁層13、ゲート電極12、ゲート絶縁層13の順で形成し、残りの半導体層14およびドレイン電極16を形成すればよい。
[実施形態2]
実施形態2では、実施形態1で説明した本発明のTFTを備える機器の例として、アクティブマトリクス型ディスプレイ、無線IDタグ、および携帯用機器について説明する。
アクティブマトリクス型ディスプレイの一例として、表示部に有機ELを用いたディスプレイについて説明する。ディスプレイの構成を模式的に示す一部分解斜視図を、図15に示す。
図15に示すディスプレイは、プラスティック基板151上にアレイ状に配置された駆動回路150を備える。駆動回路150は本発明のTFTを含み、画素電極に接続されている。駆動回路150の上には、有機EL層152、透明電極153および保護フィルム154が配置されている。有機EL層152は、電子輸送層、発光層および正孔輸送層といった複数の層が積層された構造を有する。各TFTの電極に接続されたソース電極線155とゲート電極線156とは、それぞれ、制御回路(図示せず)へ接続される。
駆動回路150およびその周辺の一例の拡大図を、図16に示す。図16に示すTFTの構造は、基本的に図1Cに示す構造と同様である。つまり、図16に示すTFTでは、半導体層164と、ソース電極165およびドレイン電極166と、ゲート絶縁層163と、ゲート電極162とが基板上に積層されている。そして、図16に示すように、ドレイン電極166は有機ELの画素電極167に電気的に接続されている。また、ゲート電極162が接続されたゲート電極線156と、ソース電極165が接続されたソース電極線155とが交差する部分には、絶縁層168が形成されている。また、図示されていないが、ソース電極165と半導体層164との間、およびドレイン電極166と半導体層164との間では、実施形態1で説明したようなπ電子共役系分子が電極に化学結合している。
このように、実施形態1で説明したようなTFTを用いてアクティブマトリクス型のディスプレイを構成することによって、キャリア移動度および駆動電圧が改善されたTFTを安定して実現できる。これにより、安価なディスプレイが得られる。また、有機TFTを使用することによって、柔軟性および耐衝撃性を備えたシートライクなディスプレイを実現することができる。また、キャリア移動度の向上によって、表示速度(反応速度)の速いアクティブマトリクス型のディスプレイを得ることが可能となる。
なお、この実施形態では、表示部に有機ELを用いた場合について説明したが、本発明はこれに限定されない。本発明は、TFTを含む回路を備える他のアクティブマトリクス型のディスプレイに適用でき、それによって同様の効果が得られる。
また、画素を駆動する駆動回路部の構成は、この実施形態で示した構成には限定されない。たとえば、1つの画素を駆動するために電流駆動用のTFTとそれを制御するためのスイッチング用TFTとを組み合わせた構成としてもよい。また、さらに複数個のTFTを組み合わせた構成としてもよい。また、TFTは、この実施形態で示したTFTに限定されず、本発明の他のTFTを用いることによって同様の効果が得られる。
次に、本発明のTFTを無線IDタグに応用した場合について説明する。本発明のTFTを用いた無線IDタグの一例の斜視図を、図17に模式的に示す。
図17に示すように、無線IDタグ170は、フィルム状のプラスティック基板171を基板として使用している。この基板171上には、アンテナ部172とメモリーIC部173とが設けられている。ここで、メモリーIC部173は、実施形態1において説明したような本発明のTFTを利用して構成される。無線IDタグ170は、基板の裏面に粘着効果を持たせることによって、菓子袋やドリンク缶のような平坦でないものに貼り付けることが可能である。なお、無線IDタグ170の表面には、必要に応じて保護膜が設けられる。
このように、本発明のTFTを用いることによって、様々な素材の物品へ貼り付けることが可能で様々な形状の無線IDタグが得られる。また、キャリア移動度が高い本発明のTFTを用いることによって、反応速度(処理速度)が速く、通信周波数の高い無線IDタグが得られる。
なお、本発明の無線IDタグは、図17に示した無線IDタグに限定されない。従って、アンテナ部およびメモリーIC部の配置や構成に限定はない。たとえば、倫理回路を無線IDタグに組み込んでもよい。
また、この実施形態では、アンテナ部172とメモリーIC部173とをプラスティック基板171上に形成する場合について説明したが、本発明はこの形態に限定されない。たとえば、インクジェット印刷のような方法を用いて、対象物に直接、アンテナ部172とメモリーIC部173とを形成してもよい。その場合も、本発明のTFTを形成することによって、キャリア移動度および駆動電圧が改善されたTFTを備える無線IDタグを低コストで製造できる。
次に、本発明のTFTを含む集積回路を備える携帯用機器について説明する。携帯用機器の集積回路には、演算素子や記憶素子やスイッチング素子など、半導体の特性を利用した様々な素子が用いられる。これらの素子の少なくも一部に本発明のTFTを用いることによって、機械的柔軟性、耐衝撃性、捨てる際の対環境性、軽量、安価といった特性に優れるという有機材料の利点を備える携帯用機器を製造できる。
本発明の電子機器の例として、3つの携帯用機器を図18〜図20に示す。
図18に示す携帯テレビ180は、表示装置181、受信装置182、側面スイッチ183、前面スイッチ184、音声出力部185、入出力装置186、記録メディア挿入部187を備える。本発明のTFTを含む集積回路は、携帯テレビ180を構成する演算素子や記憶素子やスイッチング素子などの素子を含む回路として使用される。
図19に示す通信端末190は、表示装置191、送受信装置192、音声出力部193、カメラ部194、折りたたみ用可動部195、操作スイッチ196、音声入力部197を備える。本発明のTFTを含む集積回路は、通信端末190を構成する演算素子や記憶素子やスイッチング素子などの素子を含む回路として使用される。
図20に示す携帯用医療機器200は、表示装置201、操作スイッチ202、医療的処置部203、経皮コンタクト部204を備える。携帯用医療機器200は、例えば腕205などに巻き付けられて携行される。医療的処置部203は、経皮コンタクト部204から得られる生態情報を処理し、それに応じて経皮コンタクト部204を通じて薬物投与などの医療的処置を行う部分である。本発明のTFTを含む集積回路は、携帯用医療機器200を構成する演算素子や記憶素子やスイッチング素子などの素子を含む回路として使用される。
なお、本発明のTFTを応用した携帯用機器の構成について、いくつか例を挙げて説明したが、本発明はこれらの構成に限定されない。また、本発明のTFTを適用できる携帯用機器は、例示した機器に限定されない。本発明のTFTは、PDA端末や、ウエアラブルなAV機器、ポータブルなコンピュータ、腕時計タイプの通信機器など、機械的柔軟性、耐衝撃性、捨てる際の対環境性、軽量性、安価といった特性が要求される機器に好適に応用できる。
[実施形態3]
実施形態1および2では、本発明のTFTおよびそれを用いた機器について説明した。実施形態3では、本発明の他の電子デバイスについて説明する。
本発明の電子デバイスの一例として、ガス・イオンセンサの断面図を図21に模式的に示す。図21のセンサ素子210では、有機導電体層の導電率の変化がゲート電圧の変化としてSi−FETで高感度に検出される。
図21に示すように、Si基板211の表面にはソース電極215およびドレイン電極216が形成されており、これらを覆うように絶縁層213が形成されている。絶縁層213上には有機導電体層214が形成されており、有機導電体層214上にはゲート電極212が形成されている。検知部217にガスやイオンが化学吸着すると、有機導電体層214の導電率が変化し、有機導電体層214と絶縁層213を介してSi基板211に印加されるゲート電圧が変化するので、ソース電極215とドレイン電極216との間を流れる電流量が変化する。この電流量の変化をモニタすることによって、ガスやイオンを検出できる。
有機導電体層214は、実施形態1で説明した第1の有機分子、たとえばポリチオフェンなどのπ電子共役系分子で形成される。また、ゲート電極212と有機導電体層214との界面において、実施形態1で説明した第2の有機分子が、その主たるπ共役面がゲート電極212の表面に対して所定の角度となるようにπ共役面を揃えてゲート電極212と化学結合している。このような構成によって、ゲート電極212からの電荷の注入が容易になる。そのため、センサの駆動電圧を下げることができ、また、センサを長寿命化できる。また、アレイセンサなどのように複数個のセンサを同一面に形成するような場合においても、素子ばらつきの少ないアレイセンサを安定して実現できる。
なお、本発明のセンサ素子の一例としてガス・イオンセンサについて説明したが、有機導電体層を備えるセンサとしてはこの他にも、湿度センサ、温度センサ、光センサ、圧力センサなど種々のセンサがある。いずれのセンサも、センシングの対象となるものの変化に応じて有機導電体層の物性値が変化することを利用し、物性値の変化を電流値などの電気的値に変換することによってセンシングが可能である。したがって、これらのセンサに対して本発明を適用することによって、電極と有機導電体層との間の電荷の授受を容易にでき、優れた特性のセンサを安定して実現できる。
本発明の電子デバイスの他の例として、コンデンサの一例の断面図を図22に模式的に示す。図22に示すコンデンサ220は、Al23を誘電体として用いたアルミ電界コンデンサである。陽極222はAlであり、陽極222の表面を電気化学的に酸化することによってAl23からなる誘電体層223が形成されている。高容量化のため、陽極222の表面にはエッチング処理によって図22に示すように細孔が多数形成されており、誘電体層223の表面に陰極221を直接形成することが困難である。そのため、中間層として有機導電体層224を形成した後、陰極221が形成される。
このようなコンデンサ素子において、陰極221と誘電体層223との間の抵抗が大きいと素子のインピーダンスの周波数特性が低下するという問題がある。このような問題を解決するため、本発明が適用される。具体的には、陰極221と有機導電体層224との界面において、実施形態1で説明した第2の有機分子が、その主たるπ共役面が陰極221の表面に対して所定の角度となるようにπ共役面を揃えて陰極221に化学結合している。また、実施形態1で説明した第1の有機分子、たとえばポリピロールなどのπ電子共役系分子で有機導電体層224を形成する。このような構成によれば、陰極221からの電荷の注入が容易になるため、陰極221と誘電体層223との間の抵抗を低減でき、周波数特性の優れたコンデンサ素子を容易に実現できる。
なお、本発明のコンデンサの一例としてアルミ電界コンデンサについて説明したが、タンタル電界コンデンサなどのその他のコンデンサや2次電池等に対しても本発明を適用できる。これらの電子デバイスに本発明を適用することによって、電極と有機導電体層(中間電極層)との間の電荷の授受を容易にすることができ、優れた特性のコンデンサや2次電池を安定して実現できる。
本発明の電子デバイスの他の一例として、有機半導体レーザの一例の断面図を図23に模式的に示す。図23の半導体レーザ230は、厚膜クラッド型と呼ばれるレーザで、その構造は基本的に有機LEDと同じである。すなわち、ガラス基板231上に、透明電極232、正孔輸送層233、発光層234、電子輸送層235、および金属電極236が順次積層されている。発生する光子を閉じ込めるため、発光層234の上下の電荷輸送層をクラッド層として用いる。そのため、有機LEDと比べて電荷輸送層が厚い。
このようなレーザ素子では、電荷輸送層が厚いため、駆動電圧の上昇とそれに伴う電流密度の低下が生じるという問題がある。このような問題を解決するため、本発明が適用される。具体的には、透明電極232と正孔輸送層233との界面および金属電極236と電子輸送層235との界面において、実施形態1で説明した第2の有機分子が、その主たるπ共役面が電極表面に対して所定の角度となるようにπ共役面を揃えて電極に化学結合している。また、実施形態1で説明した第1の有機分子、たとえばポリチオフェン誘導体やポリフェニレンビニレン誘導体などのπ電子共役系分子を用いて正孔輸送層233および電子輸送層235を形成する。このような構成によれば、各電極からの電荷の注入が容易になるため、駆動電圧を低減でき、優れた特性を持つレーザ素子を容易に実現できる。
なお、本発明のレーザ素子の一例として厚膜クラッド型の有機半導体レーザについて説明したが、本発明はこれに限定されない。その他の有機半導体レーザにおいても、基本的には電極から有機半導体層への電荷注入のしやすさが駆動電圧に影響を与える。このため、本発明を適用して電極と有機半導体層との間の電荷の授受を容易にすることによって、優れた特性の有機半導体レーザを安定して実現できる。
実施形態3の電子デバイスの有機導電体層、電極および電極修飾層は、実施形態1で説明した方法で形成できる。
以上のように、実施形態3では、本発明の有機電子デバイスについて具体例を挙げて説明したが、本発明はこれらに限定されない。本発明は、電極と有機分子層との間で電荷の授受が行われるデバイスに適用できる。それらのデバイスに本発明を適用することによって、その電荷の授受を容易することができる。また、本発明を適用することによって、電荷の授受に関する特性のばらつきが少ないデバイスを製造できる。
[第2の有機分子の製造方法]
以下に、図5B、図5C、図7B、図12Aおよび図14に示した化合物の製造方法の一例について説明する。なお、以下に示す反応(ニトロ化反応やスルホン化反応など)は、一般的な条件で行うことができる。
[図5Bの化合物]
図5Bの化合物の製造方法を図24に示す。まず、式(1)で表される化合物(テトラフェニルポルフィリン:アルドリッチ社)とHNO3とを反応させて式(2)で表される化合物を得る。次に、式(2)で表される化合物をSnの存在下でHClと反応させ、式(3)で表される化合物を得る。次に、式(3)で表される化合物をNaNO2の存在下でNaIと反応させ、式(4)で表される化合物を得る。次に、式(4)で表される化合物をn−ブチルリチウムの存在下で硫黄と反応させ、式(5)で表される化合物を得る。次に、式(5)で表される化合物をH2SO4と反応させ、式(6)で表される化合物を得る。最後にスルホン酸基をナトリウムの塩とすることによって、図5Bの化合物が得られる。
[図5Cの化合物]
図5Cの化合物の製造方法を図25に示す。まず、式(1)で表される化合物とHSO3Clとを反応させ、式(7)で表される化合物を得る。次に、式(7)で表される化合物をSnCl2の存在下でHClと反応させ、式(8)で表される図5Cの化合物が得られる。
[図7Bの化合物]
図7Bの化合物の製造方法を図26および図27に示す。まず、4−(メチルチオ)ベンゾイックアシッド(アルドリッチ社)を出発材料として、図26に示す反応によって、式(9)で表される化合物を得る。
次に、図27に示すように、式(9)で表される化合物とマグネシウムとを室温(r.t.)で反応させて、式(10)で表される化合物を得る。次に、式(10)で表される化合物と式(11)で表される化合物とをニッケルの存在下で反応させて、式(12)で表される化合物を得る。式(11)で表される化合物は、式(4)で表される化合物をスルホン化したのちスルホン酸基をナトリウム塩とすることによって得られる。次に、式(12)で表される化合物を(CH33CSNaと反応させ、式(13)で表される図7Bの化合物を得る。
[図12Aの化合物]
図12Aの化合物の製造方法を図28〜31に示す。まず、トリメチルシリルアセチレン(アルドリッチ社)および4−ヨードフェニルボロニックアシッド(アルドリッチ社)を出発材料として、図28に示す反応によって、式(14)で表される化合物を得る。
次に、図29に示すように、式(14)で表される化合物と式(11)で表される化合物とを、ジアセトキシパラジウム、K2CO3および水の存在下で反応させ、式(15)で表される化合物を得る。次に、式(15)で表される化合物にK2CO3を作用させて、式(16)で表される化合物を得る。次に、図30に示すように、式(17)で表される化合物と式(16)で表される化合物とを、Pd、ヨウ化第1銅およびトリエチルアミンの存在下で反応させ、式(18)で表される図12Aの化合物を得る。式(17)の化合物は、4,4’−ジヨードベンゼン(アルドリッチ社)と4−メルカプトフェニルボロニックアシッド(アルドリッチ社)とを出発材料として、図31の反応によって合成する。
なお、図12Aの化合物とシクロデキストリンとを水系溶媒中で混合することによって、式(19)に示すような包接化合物が得られる。
[図14の化合物]
図14の化合物の製造方法を図32に示す。式(20)で表される図14の化合物は、式(6)で表される化合物とジアセトキシ亜鉛とを反応させることによって得られる。
本発明は、その意図および本質的な特徴から逸脱しない限り、他の実施形態に適用しうる。この明細書に開示されている実施形態は、あらゆる点で説明的なものであってこれに限定されない。本発明の範囲は、上記説明ではなく添付したクレームによって示されており、クレームと均等な意味および範囲にあるすべての変更はそれに含まれる。
本発明は、電極と有機分子層との間で電荷の授受が行われる有機電子デバイス、およびその製造方法に適用できる。また、本発明は、そのような有機電子デバイスを備える各種の機器に適用できる。
図1A〜図1Dは、本発明のTFTの例を模式的に示す断面図である。 図2Aおよび図2Bは、本発明のTFTの他の例を模式的に示す断面図である。 半導体層に用いられるオリゴチオフェン誘導体について、図3Aは化学式を示す図、図3Bはσ結合およびπ電子雲を示す図、図3Cはπ共役面を模式的に示す斜視図である。 図4は、半導体層におけるオリゴチオフェン誘導体の配向状態を模式的に示す斜視図である。 図5A〜図5Dは、ソース電極およびドレイン電極を修飾する有機分子の例を示す化学式である。 図6Aは、チャネル領域および電極の近傍における、第1の有機分子および第2の有機分子の配向の一例を模式的に示す断面図である。 図6Bは、チャネル領域および電極の近傍における、第1の有機分子および第2の有機分子の配向の他の一例を模式的に示す断面図である。 図6Cは、チャネル領域および電極の近傍における、第1の有機分子および第2の有機分子の配向のその他の一例を模式的に示す断面図である。 図6Dは、チャネル領域および電極の近傍における、第1の有機分子および第2の有機分子の配向のその他の一例を模式的に示す断面図である。 図7Aおよび図7Bは、ソース電極およびドレイン電極を修飾する有機分子の他の例を示す化学式である。 図8Aおよび図8Bは、電極近傍における有機分子の配向の状態を模式的に示す断面図である。 半導体層に用いられるペンタセンについて、図9Aは化学式を示す図、図9Bはσ結合およびπ電子雲を示す図、図9Cはπ共役面を模式的に示す斜視図である。 図10は、半導体層におけるペンタセンの配向状態を模式的に示す斜視図である。 図11Aはシクロデキストリンの化学式を示す図であり、図11Bはその形状を模式的に示す斜視図である。 図12Aは、比較例について、ソース電極およびドレイン電極を修飾する有機分子を示す化学式である。図12Bは、実施例について、ソース電極およびドレイン電極を修飾する有機分子を示す化学式である。 図13Aは、比較例について、電極近傍における有機分子の配向の状態を模式的に示す断面図である。図13Bは、実施例について、電極近傍における有機分子の配向の状態を模式的に示す断面図である。 図14は、ソース電極およびドレイン電極を修飾する有機分子の他の例を示す化学式である。 図15は、本発明のアクティブマトリクス型ディスプレイの一例を模式的に示す一部分解斜視図である。 図16は、図15に示したディスプレイの、駆動回路およびその周辺の構成を示す模式的に示す斜視図である。 図17は、無線IDタグの一例の構成を模式的に示す斜視図である。 図18は、携帯テレビの一例の構成を模式的に示す斜視図である。 図19は、通信端末の一例の構成を模式的に示す斜視図である。 図20は、携帯用医療機器の一例を模式的に示す斜視図である。 図21は、センサ素子の一例の構成を模式的に示す断面図である。 図22は、コンデンサの一例の構成を模式的に示す断面図である。 図23は、レーザの一例の構成を模式的に示す断面図である。 図24は、本発明で用いられる第2の有機分子の合成方法の一例を示す図である。 図25は、本発明で用いられる第2の有機分子の合成方法の他の一例を示す図である。 図26は、本発明で用いられる第2の有機分子の合成方法の他の一例を示す図である。 図27は、図26に示した合成方法の続きを示す図である。 図28は、本発明で用いられる第2の有機分子の合成方法の他の一例を示す図である。 図29は、図28に示した合成方法の続きを示す図である。 図30は、図29に示した合成方法の続きを示す図である。 図31は、図30に示した合成方法で用いられる化合物の合成方法を示す図である。 図32は、本発明で用いられる第2の有機分子の合成方法の他の一例を示す図である。

Claims (16)

  1. 少なくとも1つの電極と、前記電極に隣接して形成され前記電極との間で電荷が移動する有機分子層とを備える電子デバイスであって、
    前記有機分子層は、π共役面(A)を構成する共役π電子を含有する複数の第1の有機分子を含み、
    前記電極と前記有機分子層との界面における前記電極の表面には複数の第2の有機分子が化学結合しており、
    前記第2の有機分子は、縮合環構造または大環状構造を有し、前記縮合環構造の部分または前記大環状構造の部分にはπ共役面(B)を構成する共役π電子が存在し、
    前記第2の有機分子は、前記電極の表面に化学結合したときに、前記π共役面(B)と前記電極の表面とが所定の範囲の角度をなす構造を有する分子であり、
    前記π共役面(A)と前記π共役面(B)とがなす角度が、0°〜30°の範囲にある電子デバイス。
  2. 前記π共役面(B)と前記電極の表面とがなす角度が、0°〜15°の範囲または75°〜90°の範囲にある請求項1に記載の電子デバイス。
  3. 前記第2の有機分子が単分子層を形成している請求項2に記載の電子デバイス。
  4. 前記第2の有機分子が、前記電極の表面の複数の原子と結合している請求項2に記載の電子デバイス。
  5. 前記第2の有機分子が、環状分子によって包接されている請求項2に記載の電子デバイス。
  6. 前記第2の有機分子が、硫黄原子を介して前記電極の表面の原子と結合している請求項2に記載の電子デバイス。
  7. 前記第2の有機分子がポルフィリンである請求項2に記載の電子デバイス。
  8. 前記有機分子層が有機半導体層である請求項2に記載の電子デバイス。
  9. 前記有機分子層に電界を印加するゲート電極をさらに備え、
    前記電極が、ソース電極およびドレイン電極から選ばれる少なくとも1つの電極であり、
    前記有機分子層がチャネル領域を形成し、
    電界効果トランジスタとして機能する請求項2に記載の電子デバイス。
  10. 電界効果トランジスタを備える電子機器であって、
    前記電界効果トランジスタが請求項9に記載の電子デバイスである電子機器。
  11. 複数の第1の有機分子を含む有機分子層を備える電子デバイスの製造方法であって、
    (i)表面に複数の第2の有機分子が化学結合した電極と、前記第2の有機分子を挟んで前記電極に隣接する前記有機分子層とを形成する工程を含み、
    前記第1の有機分子は、π共役面(A)を構成する共役π電子を含有し、
    前記第2の有機分子は、合環構造または大環状構造を有し、前記縮合環構造の部分または前記大環状構造の部分にはπ共役面(B)を構成する共役π電子が存在し、
    前記第2の有機分子は、前記電極の表面に化学結合したときに、前記π共役面(B)と前記電極の表面とが所定の範囲の角度をなす構造を有する分子であり、
    前記π共役面(A)と前記π共役面(B)とがなす角度が、0°〜30°の範囲にある電子デバイスの製造方法。
  12. 前記π共役面(B)と前記電極の表面とがなす角度が、0°〜15°の範囲または75°〜90°の範囲にある請求項11に記載の、電子デバイスの製造方法。
  13. 前記第2の有機分子が自己組織化して前記電極の前記表面と化学結合する請求項12に記載の、電子デバイスの製造方法。
  14. 前記第2の有機分子は、前記電極の前記表面に存在する原子と化学結合する官能基を複数個含有し、
    前記第2の有機分子は、前記電極の表面の複数の原子と化学結合する請求項12に記載の、電子デバイスの製造方法。
  15. 前記(i)の工程の前に、
    前記第2の有機分子と環状分子とを溶媒中で混合することによって、前記第2の有機分子を前記環状分子によって包接させる工程を含み、
    前記(i)の工程において、前記環状分子で包接された前記第2の有機分子と前記電極とを化学結合させる請求項12に記載の、電子デバイスの製造方法。
  16. 前記第2の有機分子が、硫黄原子を介して前記電極の表面の原子と化学結合している請求項12に記載の、電子デバイスの製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2889052A1 (en) 2013-12-27 2015-07-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Posture correction apparatus and posture correction method
EP2889053A1 (en) 2013-12-27 2015-07-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Percutaneous penetration enhancing apparatus

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008140883A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Asahi Kasei Corp 有機薄膜トランジスタ
JP5218185B2 (ja) * 2009-03-18 2013-06-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを用いた表示装置及び照明装置
WO2011074232A1 (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 出光興産株式会社 多環縮環化合物、及び、それを用いた有機薄膜トランジスタ
EP2797133B1 (en) * 2013-04-23 2017-01-11 Novaled GmbH A method for producing an organic field effect transistor and an organic field effect transistor
JP6116018B2 (ja) 2015-01-29 2017-04-19 国立大学法人 東京大学 有機半導体素子
JP6635466B2 (ja) * 2017-03-16 2020-01-22 国立大学法人 東京大学 有機半導体素子
JP2022099153A (ja) * 2020-12-22 2022-07-04 東京エレクトロン株式会社 成膜方法、成膜装置、及び自己組織化単分子膜の原料

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0722669A (ja) * 1993-07-01 1995-01-24 Mitsubishi Electric Corp 可塑性機能素子
JP2001167888A (ja) * 1999-09-09 2001-06-22 Canon Inc 導電性有機化合物素子、導電性液晶素子、及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2002512451A (ja) * 1998-04-16 2002-04-23 ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド ポリマー製素子
JP2003031816A (ja) * 2001-05-17 2003-01-31 Lucent Technol Inc 装置、有機トランジスタ及び能動有機デバイス
JP2003234476A (ja) * 2002-02-08 2003-08-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 3端子有機電子デバイス
JP2003264326A (ja) * 2002-03-08 2003-09-19 Japan Science & Technology Corp 分子集積回路素子及びその製造方法
JP2003298067A (ja) * 2001-12-25 2003-10-17 Sharp Corp トランジスタおよびそれを用いた表示装置
JP2004015008A (ja) * 2002-06-11 2004-01-15 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 縦型有機トランジスタ及びその製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02123768A (ja) * 1988-11-02 1990-05-11 Mitsubishi Electric Corp 有機半導体薄膜の製造方法および該薄膜を含む半導体デバイス
JP2813428B2 (ja) * 1989-08-17 1998-10-22 三菱電機株式会社 電界効果トランジスタ及び該電界効果トランジスタを用いた液晶表示装置
US6326640B1 (en) * 1996-01-29 2001-12-04 Motorola, Inc. Organic thin film transistor with enhanced carrier mobility
JP4085438B2 (ja) 1996-10-17 2008-05-14 松下電器産業株式会社 有機薄膜トランジスタ及び液晶素子と有機発光素子
JP3125777B2 (ja) * 1999-01-28 2001-01-22 日本電気株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及びパネル
JP2003309307A (ja) 2002-02-08 2003-10-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機電子デバイスおよびその製造方法
EP1536484A4 (en) * 2002-07-15 2009-01-07 Pioneer Corp ORGANIC SEMICONDUCTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
JP2005079204A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Canon Inc 電界効果型トランジスタおよびその製造方法
WO2007026778A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Sumitomo Chemical Company, Limited トランジスタ、有機半導体素子及びこれらの製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0722669A (ja) * 1993-07-01 1995-01-24 Mitsubishi Electric Corp 可塑性機能素子
JP2002512451A (ja) * 1998-04-16 2002-04-23 ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド ポリマー製素子
JP2001167888A (ja) * 1999-09-09 2001-06-22 Canon Inc 導電性有機化合物素子、導電性液晶素子、及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2003031816A (ja) * 2001-05-17 2003-01-31 Lucent Technol Inc 装置、有機トランジスタ及び能動有機デバイス
JP2003298067A (ja) * 2001-12-25 2003-10-17 Sharp Corp トランジスタおよびそれを用いた表示装置
JP2003234476A (ja) * 2002-02-08 2003-08-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 3端子有機電子デバイス
JP2003264326A (ja) * 2002-03-08 2003-09-19 Japan Science & Technology Corp 分子集積回路素子及びその製造方法
JP2004015008A (ja) * 2002-06-11 2004-01-15 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 縦型有機トランジスタ及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2889052A1 (en) 2013-12-27 2015-07-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Posture correction apparatus and posture correction method
EP2889053A1 (en) 2013-12-27 2015-07-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Percutaneous penetration enhancing apparatus

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