JP5196679B2 - 高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法 - Google Patents

高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5196679B2
JP5196679B2 JP2010050138A JP2010050138A JP5196679B2 JP 5196679 B2 JP5196679 B2 JP 5196679B2 JP 2010050138 A JP2010050138 A JP 2010050138A JP 2010050138 A JP2010050138 A JP 2010050138A JP 5196679 B2 JP5196679 B2 JP 5196679B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exo
ene
bicyclo
hept
purity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010050138A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011184340A (ja
Inventor
好美 山田
晃 前原
亮磨 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taoka Chemical Co Ltd
Sumitomo Pharma Co Ltd
Original Assignee
Taoka Chemical Co Ltd
Sumitomo Dainippon Pharma Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taoka Chemical Co Ltd, Sumitomo Dainippon Pharma Co Ltd filed Critical Taoka Chemical Co Ltd
Priority to JP2010050138A priority Critical patent/JP5196679B2/ja
Publication of JP2011184340A publication Critical patent/JP2011184340A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5196679B2 publication Critical patent/JP5196679B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Furan Compounds (AREA)

Description

本発明は、医薬中間体の原料として有用な高純度のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法に関するものである。
エキソ体であるビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の製造方法としては、エンド体である無水ハイミック酸を大気下もしくは窒素気流下で熱異性化し、得られたビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物と無水ハイミック酸の混合物について、再結晶精製を繰り返して目的物を得る方法が公知である(特許文献1〜3)。
しかし、本発明者らが検討を行ったところ、特許文献1〜3記載の方法では、ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の5,6位が酸化された式(1)で示される化合物(以後、エポキシ体と称する)が不純物として副生して目的物であるビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の純度が低下するという問題があった。
Figure 0005196679
このエポキシ体は、分離が困難であり、最終製品である医薬品の品質に悪影響を及ぼすものであることから、このエポキシ体の含有量が0.1wt%以下に抑制可能なビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の精製方法が望まれていた。
特開昭50−159599号公報 特開昭61−115051号公報 特開昭60−87262号公報
本発明の目的は、最終製品である医薬品の品質に悪影響を及ぼすエポキシ体の副生が抑制された医薬中間体として有用な高純度のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決するために製造方法や精製方法に着目して、種々検討を行った。その結果、無水ハイミック酸を熱異性化し、得られたビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物を精製する方法において、有機溶媒の存在下、再結晶精製を不活性ガス雰囲気下で行うことにより、エポキシ体の副生が抑制され、医薬中間体の原料として有用なビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物を高純度で得られること、さらに酸化防止剤の存在下で再結晶精製を行うことにより、エポキシ体の副生を抑制する効果がより高くなることを初めて見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の精製法により、エポキシ体の副生が抑制された医薬中間体の原料として有用な高純度のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物を得ることができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明における再結晶精製ではビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物と有機溶媒を容器に仕込んだ後に、気相部を不活性ガスにて置換する。空気中の酸素との接触を断った状態で加熱し、ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物を完全に溶解させた後に、空気に触れないようにしながら冷却して目的物の結晶を析出させる。その後に濾過、乾燥を行なって目的物を得る。
再結晶精製の原料となる粗ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物は特許文献3に記載の方法で得られるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
本発明において用いられる不活性ガスは、ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物と反応しないものであればよく、具体的には、例えば水素ガス、炭酸ガス、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガス等を用いることができる。これらの内、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガスが好ましく、なかでも経済性および環境負荷の面から窒素ガスが特に好ましい。エポキシ体の生成抑制のためには、不活性ガスの純度は高い程良い結果を与えるが、99.9wt%以上であることが望ましい。
本発明において用いられる有機溶媒は、加熱時と冷却時とでビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物に対する溶解度に差があり、目的物と反応しないものであれば、特に限定されない。具体的には、例えばヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、モノクロルベンゼン、o−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類またはそれらの混合物が挙げられ、その使用量はビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物に対して、通常0.5〜20重量倍であり、好ましくは1〜5重量倍である。
本発明において必要に応じて用いられる酸化防止剤としては、本発明において用いられる有機溶媒に溶解するものであれば特に制限はなく、例えば、BHT(ジブチルヒドロキシトルエン)、BHA(ブチルヒドロキシアニソール)、アスコルビン酸、トコフェロール、カテキン等があげられる。添加する酸化防止剤の有機溶媒中濃度は通常0.001〜1wt%、好ましくは0.005〜0.10wt%である。
再結晶精製における加熱溶解温度は、有機溶媒の種類やその使用量により異なるが、通常50〜150℃であり、好ましくは80〜110℃である。150℃より高い場合には熱異性化によりエンド体が増加する傾向がある。冷却後の濾過温度は通常−20〜50℃であり、好ましくは0〜30℃である。
(実施例)
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。例中、収率、純度および不純物含有量は重量基準である。純度および不純物含有量は、ガスクロマトグラフを用いて以下の条件にて測定した。
装置 : 島津製作所製 GC−14A
カラム: 化学物質評価研究機構製 G−250 1.2mmφ×40m
条件 : 窒素流量 70mL/分、検出器 FID
空気・水素圧 各0.05MPa
注入口温度 250℃、カラム温度 160℃(一定)
100mLガラスフラスコに純度91.96wt%のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物30.0g(0.183mol)(エポキシ体;0.013wt%)、 トルエン 36.0g(1.2重量倍)を仕込み、 10kPa以下に減圧後、窒素にて常圧にもどす操作を2回実施した。オイルバスにて内温100℃まで昇温して、内温95−105℃で0.5hr保温した。その後、室温まで冷却し、濾過、洗浄した後、減圧乾燥し、純度98.19%のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物25.8g(0.157mol)を得た。収率:85.8%、エポキシ体0.026wt%
100mLガラスフラスコに純度91.96wt%のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物30.0g(0.183mol)(エポキシ体;0.013wt%)、 BHT406ppmを含むトルエン 36.0g(1.2重量倍)を仕込み、 10kPa以下に減圧後、窒素にて常圧にもどす操作を2回実施した。オイルバスにて内温100℃まで昇温して、内温95−105℃で0.5hr保温した。その後、室温まで冷却し、濾過、洗浄した後、減圧乾燥し、純度98.59wt%のビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物25.4g(0.155mol)を得た。収率:84.7%、エポキシ体0.015wt%
(比較例1)
100mLガラスフラスコに純度96.57wt%ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物10.0g(0.061mol)(エポキシ体;0.004wt%以下)、トルエン 12.0g(1.2重量倍)を仕込み、 不活性ガスによる置換をせずにオイルバスにて内温100℃まで昇温した。その後、内温95−105℃で5.0hr保温した。加熱を止めて放冷し、その後濾過・洗浄した後、減圧乾燥し、純度99.25wt%ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物8.8g(0.054mol)を得た。収率:88%、エポキシ体0.669wt%

Claims (4)

  1. 無水ハイミック酸を熱異性化し、得られたビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物を精製する方法において、有機溶媒の存在下、再結晶精製を不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の精製方法。
  2. 不活性ガスが窒素であることを特徴とする請求項1記載の高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の精製方法。
  3. 酸化防止剤の存在下に再結晶精製を行うことを特徴とする請求項1または2記載の高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物の精製方法。
  4. ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物度98.0wt%以上含有し、かつ、式(1)で示される化合物0.1wt%以下含有することを特徴とする組成物。
    Figure 0005196679
JP2010050138A 2010-03-08 2010-03-08 高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法 Active JP5196679B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010050138A JP5196679B2 (ja) 2010-03-08 2010-03-08 高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010050138A JP5196679B2 (ja) 2010-03-08 2010-03-08 高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011184340A JP2011184340A (ja) 2011-09-22
JP5196679B2 true JP5196679B2 (ja) 2013-05-15

Family

ID=44791053

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010050138A Active JP5196679B2 (ja) 2010-03-08 2010-03-08 高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5196679B2 (ja)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1054295A (en) * 1974-05-16 1979-05-08 Norman G. Gaylord Polymers of cis-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride
JPS5422499A (en) * 1977-07-22 1979-02-20 Dainippon Ink & Chem Inc Novel thermosetting composition composed of epoxy resin and polycarboxylic acid anhydride
JP2009132668A (ja) * 2007-11-08 2009-06-18 Dainippon Jochugiku Co Ltd 蚊又はハエ取り線香用効力増強剤及びその製造方法
JP2010013360A (ja) * 2008-07-01 2010-01-21 Dainippon Jochugiku Co Ltd 蚊又はハエ取り線香用薬剤
JP2011020932A (ja) * 2009-07-14 2011-02-03 Hitachi Chem Co Ltd ノルボルネン又はノルボルナン構造を有するカルボン酸無水物の分離方法、エポキシ樹脂組成物および光学部材

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011184340A (ja) 2011-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2021050228A (ja) 2−アセチル−4H,9H−ナフト[2,3−b]フラン−4,9−ジオンの製造方法
JP5196679B2 (ja) 高純度ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,3−ジ−エキソ−カルボン酸無水物およびその精製方法
JP2018100254A (ja) ウラシル化合物結晶の製造方法
WO2011037929A2 (en) Pd(ii)-catalyzed hydroxylation of arenes with o2 or air
JP2013060425A (ja) ジヒドロキシ化合物の製造方法
JP2015131786A (ja) 9,9’−スピロビフルオレン類の製造方法
JP2013006782A (ja) ピラゾール化合物の製造方法
JP4079880B2 (ja) シクロドデカノンの製造方法
JP2018197218A (ja) 不均一系パラジウム触媒を用いたシクロアルカジエンまたはシクロアルケン構造を有する化合物の脱水素反応による芳香族化合物の製造方法
JP2010229042A (ja) ラウロラクタムの製造方法
CN104356156B (zh) 一种四元环紫杉烷侧链化合物的制备方法
JP2013006781A (ja) ピラゾール化合物の製造方法
JP2023050882A (ja) ビスヒドロキシ安息香酸エステル化合物の製造方法
JP2004115471A (ja) 高純度シクロドデカノンの製造方法
JP2015063488A (ja) 4−ヒドロキシ−2−メチル安息香酸誘導体の製法
JP5468868B2 (ja) ラクトン化合物の製造方法
JP2021127332A (ja) 5−ブロモ−2−アルキル安息香酸の製造方法
JP2015174853A (ja) 2−(4−メチル−2−フェニルピペラジン−1−イル)ピリジン−3−メタノールの製造方法
JP5882162B2 (ja) 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン類の製造方法
JP6263814B2 (ja) 細胞死抑制剤及び新規化合物
JP2004189629A (ja) レジスト用モノマーの精製方法
JPWO2014148344A1 (ja) 光学活性トランス1,2−ジアミノシクロヘキサンの製造方法
JP5615132B2 (ja) 高純度シクロプロパンスルホンアミドの製造方法
JP2010222302A (ja) 7,8−ジフルオロ−2−ナフトールの製造方法
JP3938049B2 (ja) 2−ハロゲノシクロアルカノンオキシムの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111003

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130204

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160215

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5196679

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250