JP5196298B2 - レーザ加工装置 - Google Patents

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Description

本発明はレーザ加工装置に関し、詳しくは液体を噴射孔から液柱にして被加工物に噴射させると共に、上記液柱にレーザ光を導光して被加工物の加工を行うレーザ加工装置に関する。
従来、噴射孔を有する加工ヘッドと、当該加工ヘッドに高圧の液体を供給する液体供給手段と、レーザ光を発振するレーザ発振器とを備え、上記液体供給手段から供給された液体を噴射孔から液柱にして被加工物に噴射させると共に、上記液柱にレーザ光を導光して、被加工物の加工を行うレーザ加工装置が知られている。
このようなレーザ加工装置では、被加工物で跳ね返った液体によって液柱の安定した形成が妨げられてしまうおそれがあることから、以下のような対策が採られている。
第1に、加工ヘッドの下方に仕切り部材を設けて、被加工物で跳ね返った液体によって液柱の周囲の気流が乱されるのを防止するものが知られている(特許文献1)。
第2に、噴射孔の周囲に下方に向けて拡径する傾斜部を形成して、この傾斜部に付着した液体が噴射孔より遠ざかるようにしたものが知られている(特許文献2)。
特開2007−29980号公報 特開2004−122173号公報
しかしながら、上記特許文献1の場合、噴射された液体は被加工物で液滴状となって跳ね返る以外に霧状となって浮遊し、この霧状の液体が加工ヘッドに付着して液滴に成長すると、この液滴が落下することにより液柱の形成が妨げられるおそれがあった。
また特許文献2の場合、液滴を液柱からより離隔させようとすると、上記傾斜部を形成する範囲が広くなって加工ヘッドが大型化してしまい、また傾斜部の途中で液滴が落下すると、その落下した液体によって液柱の形成が妨げられるおそれがあった。
このような問題に鑑み、加工ヘッドに付着した液体が落下することによって液柱の形成が阻害されるのを防止するレーザ加工装置を提供するものである。
すなわち、本発明に係るレーザ加工装置は、噴射孔を有する加工ヘッドと、当該加工ヘッドに高圧の液体を供給する液体供給手段と、レーザ光を発振するレーザ発振器とを備え、上記液体供給手段から供給された液体を噴射孔から液柱にして被加工物に噴射させると共に、上記液柱にレーザ光を導光して、被加工物の加工を行うレーザ加工装置において、
上記加工ヘッドの下部に、多孔質体からなる吸引部材を設け、また該吸引部材に付着した液体を多孔質部分から吸引する負圧発生手段を設け
上記加工ヘッドに、上記噴射孔から噴射される液柱を囲む内側筒状部と該内側筒状部を囲む外側筒状部とを設け、また両筒状部間に亘って上記吸引部材を設けてそれら内側筒状部、外側筒状部および吸引部材とで負圧室を区画形成し、この負圧室を上記負圧発生手段に連通させ、
さらに上記内側筒状部を多孔質体から構成したことを特徴としている。
上記発明によれば、被加工物で跳ね返った液滴状の液体や、霧状となって浮遊する液体が吸引部材に付着しても、これを上記負圧発生手段によって吸引部材の多孔質部分から吸引することができる。
このため、加工ヘッドに付着した液体が落下して液柱の形成を阻害するのを防止して、安定した液柱を形成し、ひいては安定してレーザ光による加工を行うことが可能となる。
以下図示実施例について説明すると、図1はレーザ加工装置1を示し、液体の噴射により形成した液柱Wにレーザ光Lを導光することで、被加工物2に所要の溝加工を行う装置となっている。
このレーザ加工装置1は、上記被加工物2を支持する加工テーブル3と、レーザ光Lを発振するレーザ発振器4と、高圧にした水等の液体を供給する液体供給手段5と、被加工物2に向けて液体を液柱Wとして噴射するとともに、レーザ光Lを上記液柱Wに導光する加工ヘッド6とを備え、これらは図示しない制御手段によって制御されるようになっている。
上記加工テーブル3は従来公知であるので詳細な説明をしないが、上記被加工物2を加工ヘッド6に対して水平方向に移動させるようになっており、また上記加工ヘッド6は図示しない昇降手段によって垂直方向に移動するようにされている。
本実施例では、上記被加工物2としての半導体ウエハの表面に溝を形成したり、チップ状に切断加工を行うようになっている。なおこの他にもエポキシ樹脂板や樹脂と金属からなる複合材料も加工することができる。
上記レーザ発振器4はYAGレーザ発振器であり、加工に応じてCW発振又はパルス発振が可能であり、またその出力やパルスの発振周期等の加工条件を適宜調整できるようになっている。
レーザ発振器4と加工ヘッド6との間には、レーザ光Lを加工ヘッド6に向けて反射させる反射ミラー7と、レーザ光Lを集光する集光レンズ8とが設けられている。
なお、レーザ発振器4としてこの他にも半導体レーザやCOレーザ発振器等を用いることも可能であるが、COレーザ発振器の場合レーザ光は水に吸収されやすい波長であるため、加工ヘッド6より噴射される液体をレーザ光が吸収にくい液体にすることになる。
上記加工ヘッド6は、上下方向に中空部が貫通して形成された筒状のハウジング11と、該ハウジング11における中空部の下部に設けられた噴射ノズル12と、ハウジング11の中空部の上部に設けられた透明な透過部材13とを備えている。
上記ハウジング11の中空部は上記集光レンズ8によって集光されたレーザ光Lの光路上に形成されており、上記噴射ノズル12および透過部材13はこの光路上に設けられている。
上記噴射ノズル12はハウジング11の下端部に形成された凹部内にシールリングを介して嵌合し、かつハウジング11の下方から固定部材14によって押圧保持されている。
上記透過部材13はレーザ光Lを透過させる透明なガラス製で、上記噴射ノズル12と集光レンズ8との間に位置し、上記ハウジング11との間にシールリングを介在させて、上方からナット15によって押圧保持されている。
これら上記噴射ノズル12と透過部材13との間に形成された空間には上記液体供給手段5が接続された液体通路16が形成され、液体供給手段5から高圧の液体が供給されるようになっている。
そして、噴射ノズル12の中央には液体を噴射する噴射孔12aが形成され、上記固定部材14の中央には噴射ノズル12の噴射孔12aよりも大径の貫通孔14aが形成されている。
このため、上記液体供給手段5から加工ヘッド6に高圧の液体が供給されると、該液体は液体通路16を通過してから上記噴射ノズル12の噴射孔12aから液柱Wとなって噴射され、この液柱Wは上記貫通孔14aを通過して被加工物2に衝突するようになっている。
また、レーザ発振器4からのレーザ光Lは上記集光レンズ8により上記噴射孔12aより噴射される液柱Wの内部に集光されるようになっており、これによりレーザ光Lは上記液柱Wを導光路として案内されて被加工物2に照射されるようになっている。
そして上記加工ヘッド6の下部には、多孔質体からなる吸引部材17と、この吸引部材17を加工ヘッド6に取り付ける保持部材18とが設けられている。
上記吸引部材17はアルミニウム製で略円盤状に製造されるとともに、全体が多孔質であることからその内部に気体等を流通させることが可能となっている。
また吸引部材17の中央には下方に向けて拡径する貫通孔17aが形成され、該貫通孔17aの上端の径は上記固定部材14に形成された貫通孔14aと同径となっている。
上記保持部材18は上記固定部材14の外周に螺合することで加工ヘッド6の下部に固定され、また下面には上記吸引部材17を収容可能な凹部が形成され、吸引部材17の外周面は該凹部にコーキング剤などによって接着固定されている。
また上記保持部材18は、上記固定部材14の貫通孔17aと同径の内周面を有する内側筒状部18aと、該内側筒状部18aを囲む外側筒状部18bとを備え、内側筒状部18aの上端および下端はそれぞれ上記固定部材14および吸引部材17に密着している。
これら内側筒状部18aの外周面と外側筒状部18bの内周面との間には、上下が上記固定部材14の下面と吸引部材17の上面とで閉鎖された負圧室19が形成されており、この負圧室19には負圧を発生させる負圧発生手段20が接続されている。
そして上記負圧発生手段20によって負圧室19に負圧が導入されると、上記吸引部材17の内部を介して、吸引部材17の下面側の表面にも負圧が発生するようになっている。
このような構成を有するレーザ加工装置1の動作について説明する。
最初に、レーザ加工装置1を始動させると、制御手段は液体供給手段5から液体通路16に液体を供給し、上記噴射ノズル12の噴射孔12aから液体が液柱Wとなって被加工物2に噴射される。
噴射孔12aより噴射される液柱Wが安定した状態となると、レーザ発振器4よりレーザ光Lを発振し、レーザ光Lは反射ミラー12に反射した後、集光レンズ8によって集光される。
集光されたレーザ光Lは透過部材13および液体通路16内の液体を通過して、噴射孔12aより噴射される液柱W内に導光され、その後液柱Wにより被加工物2まで案内されて被加工物2に照射されて溝加工を行うようになっている。
このようにして噴射孔12aより噴射された液柱Wは被加工物2に到達するが、このとき、特に被加工物2に溝加工を行う場合、液柱Wが被加工物2に衝突すると、液柱Wを構成する液体の大部分は被加工物2の表面を放射状に広がるように流れるが、一部は上方に跳ね返ることとなる。なお、被加工物2を切断加工する場合には、液柱Wが被加工物2を貫通するため、跳ね返る液体の量は少なくなる。
そして被加工物2で跳ね返った液体の一部は、大粒の液滴となって吸引部材17の下面に付着する。また液体の量にすると少ないが、液体の一部は霧状となって吸引部材17と被加工物2との間の空間を浮遊する。この霧状となった液体の一部は吸引部材17の下面で凝集して液滴に成長する。
これら吸引部材17の下面に付着した液滴は、その後落下すると液柱Wの周囲の気流を乱して液柱Wの形成を乱し、液滴が直接液柱Wに衝突して液柱Wの形成を乱してしまう場合がある。
そして液柱Wの形成が乱れると、液柱Wの内部でレーザ光Lを導光することができなくなり、適切な加工が行えなくなってしまう。
そこで、本実施例では上記噴射ノズル12より液柱Wを噴射するのと同時に上記負圧発生手段20を作動させて、上記吸引部材17の下面に付着した液体を吸引するようになっている。
具体的には、上記負圧発生手段20によって上記負圧室19に負圧が導入されると、吸引部材17が多孔質体であることから、該吸引部材17の内部を介して吸引部材17の下面に負圧が発生する。
すると吸引部材17の下面に付着した液体は上記負圧によって吸引部材17に吸引されることとなり、この液体は上記負圧室19から上記負圧発生手段20により外部に排出される。
このようにして吸引部材17の下面に付着した液体を吸引することで、液滴の落下による液柱Wの周囲の気流の乱れを防止でき、また液滴が直接液柱Wに衝突することもなくなるので、安定して液柱Wを形成することができ、ひいてはこの液柱W内でレーザ光Lを導光して安定した加工を行うことができる。
図2は第2の実施例にかかるレーザ加工装置1を示している。なお、以下に説明する部分以外の構成については上記第1の実施例と同じであるため、詳細な説明は省略する。
本実施例の保持部材18は、上記内側筒状部18aが上記吸引部材17と同様の多孔質体によって製造されており、該内側筒状部18aの内周面と外周面とは、それぞれ液柱Wの通過する空間と上記負圧室19とのそれぞれに面するようになっている。
さらに、この内側筒状部18aの多孔質部分は上記吸引部材17の多孔質部分に比べて疎になっており、このため上記負圧発生手段20によって負圧室19に負圧を導入すると、内側筒状部18aの内周面における負圧のほうが、吸引部材17の下面における負圧よりも低くなる。
このような構成とすることで、噴射ノズル12から液柱Wを噴射した状態で、上記負圧発生手段20が負圧室19に負圧を導入すると、上記吸引部材17の下面および内側筒状部18aの内周面に負圧が発生する。
これにより、上記実施例と同様、吸引部材17の下面に付着した液体を吸引することができ、落下する液滴による液柱Wの乱れを防止することができる。
また本実施例では上記内側筒状部18aによって、噴射孔12aの近傍にまで入り込んだ霧状の液体も吸引することができるので、これらの液体が噴射孔12aの周囲で凝集して液滴となるのを可及的に防止することができる。
さらに、内側筒状部18aの内周面における負圧を相対的に低くすることで、内側筒状部18aに吸引される気体によって液柱Wの周囲の気流が乱れないようにし、液柱Wの形成を乱さないようにしている。
第1の実施例にかかるレーザ加工装置の断面図。 第2の実施例にかかるレーザ加工装置の断面図。
符号の説明
1 レーザ加工装置 2 被加工物
4 レーザ発振器 5 液体供給手段
6 加工ヘッド 12 噴射ノズル
12a 噴射孔 17 吸引部材
18 保持部材 18a 内側筒状部
18b 外側筒状部 19 負圧室
20 負圧発生手段

Claims (2)

  1. 噴射孔を有する加工ヘッドと、当該加工ヘッドに高圧の液体を供給する液体供給手段と、レーザ光を発振するレーザ発振器とを備え、上記液体供給手段から供給された液体を噴射孔から液柱にして被加工物に噴射させると共に、上記液柱にレーザ光を導光して、被加工物の加工を行うレーザ加工装置において、
    上記加工ヘッドの下部に、多孔質体からなる吸引部材を設け、また該吸引部材に付着した液体を多孔質部分から吸引する負圧発生手段を設け
    上記加工ヘッドに、上記噴射孔から噴射される液柱を囲む内側筒状部と該内側筒状部を囲む外側筒状部とを設け、また両筒状部間に亘って上記吸引部材を設けてそれら内側筒状部、外側筒状部および吸引部材とで負圧室を区画形成し、この負圧室を上記負圧発生手段に連通させ、
    さらに上記内側筒状部を多孔質体から構成したことを特徴とするとするレーザ加工装置。
  2. 上記内側筒状部は上記吸引部材とは異なる多孔質体からなり、該内側筒状部の内周面で発生する負圧を吸引部材の外表面で発生する負圧よりも低く設定したことを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5431831B2 (ja) * 2009-08-21 2014-03-05 株式会社ディスコ レーザー加工装置
JP2011092966A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
EP3466597A1 (en) 2017-10-05 2019-04-10 Synova S.A. Apparatus for machining a workpiece with a laser beam
EP3470165B1 (en) * 2017-10-13 2023-08-16 Synova S.A. Apparatus for machining a workpiece with a liquid jet guided laser beam and the assembly thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6377700A (ja) * 1986-09-20 1988-04-07 三菱電機株式会社 高圧流体噴射装置
JPS6464799A (en) * 1987-09-02 1989-03-10 Fujitsu Ltd Nozzle for water jet cutter
JP2003151924A (ja) * 2001-08-28 2003-05-23 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング方法およびダイシング装置
JP2004122173A (ja) * 2002-10-02 2004-04-22 Nippon Sharyo Seizo Kaisha Ltd レーザマイクロジェット加工装置
JP5326183B2 (ja) * 2005-10-14 2013-10-30 澁谷工業株式会社 レーザアニール方法
TW200726566A (en) * 2006-01-10 2007-07-16 Li Bing Huan Laser processing machine

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