JP5194626B2 - フラーレン誘導体並びにその溶液、製造方法及び膜 - Google Patents
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Description
なお、以下の記載では、上記式(I)で表わされる部分構造のC1〜C10で表わされる炭素原子を、単に「C1」〜「C10」で表わす場合がある。
また、非特許文献1には、多重付加フラーレン誘導体の溶解性を向上させる目的で、C1上にアルキル基を導入した多重付加フラーレン誘導体が開示されている。
に、下記式(III)で表わされる構造の有機基と結合していることを特徴とする、フラー
レン誘導体に関する。
ここで、前記エステル溶媒がプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテートであることが好ましい(請求項9)。
ここで、前記フラーレン及び/又は前記フラーレン中間体にグリニャール試薬を作用させることにより、式(I)の部分構造のC 6 〜C 8 に式(III)の有機基を付加する反応を行うことが好ましい(請求項11)。
また、本発明の別の要旨は、上述のフラーレン誘導体を含むことを特徴とする、フォトレジスト用膜、半導体製造用ナノインプリント膜、低誘電率絶縁膜、太陽電池用膜、又は半導体膜に存する(請求項15)。
本発明のフラーレン誘導体は、特定の部分構造を有するフラーレン誘導体である。
ここで、「フラーレン」とは、閉殻構造を有する炭素クラスターである。フラーレンの炭素数は、通常60〜130の偶数である。
なお、本明細書では、炭素数i(ここでiは任意の自然数を表わす。)のフラーレン骨格を適宜、一般式「Ci」で表わす。
中でも、R1〜R4としては、水素原子又は直鎖状のアルキル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
即ち、合成上の容易さから、R4のうち少なくとも一方、好ましくは両方が水素原子であることが望ましく、R4に加えてR3も水素原子であることがより望ましい。また、R1及びR2のうち少なくとも一方、好ましくは両方が水素原子であることが望ましい。特に、コスト低減化の観点からは、R1〜R4の全てが水素原子であることがとりわけ望ましい。この場合、上記式(II)のアルケニル基は、アリル基となる。
また、R1とR3とが結合してベンゼン環を形成し、R2及びR4が全て水素原子であることも好ましい。この場合、上記式(II)のアルケニル基は、ベンジル基となる。
ことが最も好ましい。
・フラーレン骨格上に本発明の3重付加部分構造を1つ有する、一般式Ci(R20)3(R10)で表わされる3重付加フラーレン誘導体。
・フラーレン骨格上に本発明の5重付加部分構造を1つ有する、一般式Ci(R20)5(R10)で表わされる5重付加フラーレン誘導体。
・フラーレン骨格上に本発明の3重付加部分構造を2つ有する、一般式Ci(R20)6(R10)2で表わされる6重付加フラーレン誘導体。
・フラーレン骨格上に本発明の3重付加部分構造を1つ、本発明の5重付加部分構造を1つ有する、一般式Ci(R20)8(R10)2で表わされる8重付加フラーレン誘導体。
・フラーレン骨格上に本発明の5重付加部分構造を2つ有する、一般式Ci(R20)10(R10)2で表わされる10重付加フラーレン誘導体。
なお、本明細書において、フラーレン誘導体が「エステル溶媒に可溶」であるとは、フラーレン誘導体をエステル溶媒に混合し、超音波照射を10分かけた後、目視で沈殿物や不溶分が検出されないことを意味する。具体的には、25℃、常圧下において、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート(PGMEA)又は乳酸エチルの何れかのエステル溶媒に対して、エステル溶媒の単位体積(1mL)あたり、フラーレン誘導体が10mg以上溶解する場合には、そのフラーレン誘導体はエステル溶媒に対して可溶、即ち、エステル溶媒に対する溶解性が高いと判断する。
なお、本明細書において、フラーレン誘導体が「アルカリ溶媒に可溶」であるとは、フラーレン誘導体をアルカリ溶媒に混合し、超音波照射を10分かけた後、目視で沈殿物や不溶分が検出されないことを意味する。具体的には、25℃、常圧下において、水酸化ナトリウム水溶液に対して、水酸化ナトリウム水溶液の単位体積(1mL)あたり、フラーレン誘導体が50mg以上溶解する場合には、そのフラーレン誘導体はアルカリ溶媒に対して可溶、即ち、アルカリ溶媒に対する溶解性が高いと判断する。
なお、これらのアルカリ溶媒は、何れか1種を単独で用いても、2種類以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても構わない。
本発明のフラーレン誘導体を製造する方法には制限は無く、任意の方法により製造することができる。以下に本発明のフラーレン誘導体の製造方法の例を示すが、本発明のフラーレン誘導体を製造する方法は、以下の例に限定されるものではない。
本発明の製造方法の原料としては、フラーレン、遷移金属、グリニャール(Grignard)試薬、及び式(II)の有機基(R10)を導入し得る原料(アルケニル化剤)を用いる。
脱離基Xとしては、求核置換反応の脱離基となり得る基であればその種類に制限はないが、例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;アセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等のアシロキシ基;メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基等のスルホニルオキシ基;等が挙げられる。中でも、反応性や原料調達の観点から、脱離基Xとしてはハロゲン原子が好ましく、特に臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
遷移金属の種類は制限されないが、長周期型周期表の第10族及び第11族に属する金属から選択される遷移金属であることが好ましく、中でも反応性の観点から、第11族金属である銅金属が特に好ましい。
なお、反応系に存在させる遷移金属としては、何れか一種のみを単独で使用してもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
遷移金属の化合物又は錯体の例としては、臭化銅ジメチルスルフィド錯体、臭化銅ジブチルスルフィド錯体、ヨウ化銅ジメチルスルフィド錯体、ヨウ化銅ジブチルスルフィド錯体、塩化銅ジメチルスルフィド錯体、塩化銅ジブチルスルフィド錯体、シアン化銅、フッ化銅、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、有機銅−ホスフィン錯体、フッ化銀、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、フッ化金、塩化金、ヨウ化金、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、塩化白金、臭化白金、ヨウ化白金、ニッケルシクロオクタジエン錯体、パラジウムシクロオクタジエン錯体、白金シクロオクタジエン錯体、ニッケル−ホスフィン錯体、パラジウム−ホスフィン錯体、白金−ホスフィン錯体等が挙げられるが、反応性の観点から、第11族金属で且つ1価の金属錯体である臭化銅、臭化銅ジメチルスルフィド錯体が好ましい。
遷移金属の単体、化合物及び錯体は、何れか一種のみを単独で使用してもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
なお、上述の反応溶媒は、何れか一種のみを単独で使用してもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
ここで、R20については上述の通りであり、目的とする本発明のフラーレン誘導体の構造に応じて選択すればよい。
Mは、金属元素を表わす。例としてはMg、Zn、Hg、Li等が挙げられるが、Mg(マグネシウム)が好ましい。
また、X’は、ハロゲン原子を表わす。例としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられるが、臭素原子、ヨウ素原子が好まく、臭素原子が特に好ましい。
R20が有する水酸基に導入される保護基の例としては、メチル基、テトラヒドロピラニル基、シリル基等が挙げられる。
保護基の導入方法としては、保護基によって異なるが、例えばテトラヒドロピラニル基の場合は、弱酸存在下でジヒドロピランを作用させる等の手法が挙げられる。
なお、グリニャール試薬は、何れか一種のみを単独で使用してもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。二種以上のグリニャール試薬を併用する場合には、それらの合計量が上記範囲を満たすようにすることが望ましい。
なお、C60誘導体及び/又はC70誘導体と銅金属とで形成される中間体に関しては、「季刊・化学総説43 炭素第三の同素体 フラーレンの化学」169〜170ページに、その推定構造が記載されている。
反応時間も制限されないが、一般的には、反応系にアルケニル化剤を加えた後、通常30分以上、好ましくは2時間以上、また、通常数十時間以下、好ましくは10時間以下に亘って反応させることが望ましい。
これらの脱保護剤の使用量は、対応する保護基(メチル基)に対する割合で、通常1倍モル以上、好ましくは1.2倍モル以上、より好ましくは1.4倍モル以上、また、通常10倍モル以下、好ましくは5倍モル以下、より好ましくは3倍モル以下とすることが望ましい。脱保護剤の使用量が多過ぎると、製造コストの点で不利となる場合があり、脱保護剤の使用量が少な過ぎると、反応が完結しない場合がある。
これらの脱保護剤は、対応する保護基(テトラヒドロピラニル基)に対する割合で、通常0.01倍モル以上、好ましくは0.03倍モル以上、また、通常2倍モル以下、好ましくは1倍モル以下とすることが望ましい。脱保護剤の使用量が多過ぎると、製造コストの点で不利となったり、化合物へのコンタミ影響が大きくなったりする場合があり、脱保護剤の使用量が少な過ぎると、反応時間が長くなる場合がある。
但し、その温度条件は、脱保護反応の種類によって大きく異なるが、通常0℃以上、好ましくは15℃以上、また、通常180℃以下、好ましくは120℃以下とすることが望ましい。
また、反応時間は、通常30分以上、好ましくは2時間以上、また、通常数十時間以下、好ましくは10時間以下とすることが望ましい。
本発明のフラーレン誘導体は、適切な溶媒に溶解させて溶液とすることにより、上記記載の様々な用途に用いることができる。本発明のフラーレン誘導体を溶媒に溶解させた溶液を、適宜「本発明のフラーレン誘導体溶液」或いは単に「本発明の溶液」という。
有機溶媒としては、これまで公知になっている任意の溶媒を用いることができるが、本発明のフラーレン誘導体は水酸基を有することから、極性有機溶媒に対して高い溶解性を示すことが特徴である。
アルカリ溶媒の種類は、本発明のフラーレン誘導体が溶解するものであれば制限されないが、例としては、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、メチルジエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ−(5,4,0)−7−ウンデセン、ジメチルエタノールアミン等のアルカリ有機溶媒や、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸リチウム水溶液、炭酸カルシウム水溶液、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等のアルカリ水溶液等が挙げられる。アルカリ水溶液の場合、その溶質の濃度は任意である。これらのアルカリ溶媒は、何れか1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
また、本発明のフラーレン誘導体が析出する可能性があるが、25℃以下の低温下で調製、保管することもできる。
本発明のフラーレン誘導体は、上述した溶媒、特にエステル溶媒、ケトン溶媒、エーテル溶媒等の有機溶媒に高溶解性を示すため、上記フラーレン誘導体溶液を塗布し、乾燥することでフラーレン誘導体を含む膜(以下適宜、「フラーレン誘導体膜」という)を製造することができる。この際用いるフラーレン誘導体溶液には、フラーレン誘導体及び溶媒のほか、本発明のフラーレン誘導体が有する優れた物性を大幅に損ねるものでなければ、他の任意の化合物が含有されていてもかまわない。
また、塗布する対象に制限は無いが、通常は基板に塗布される。その基板にも制限はなく、例えば、有機被膜、シリコン基板、ポリシリコン膜、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜などのシリコン被膜、金属配線などの無機被膜などが挙げられる。
本発明のフラーレン誘導体、本発明の溶液及び本発明のフラーレン誘導体膜は、前述した用途に用いることができる。以下に、いくつかの用途の例に関して具体的に説明するが、本発明のフラーレン誘導体の機能が発揮できる用途に関しては、以下の記載に限定されるものではない。
従来、フォトレジストは、被膜形成成分として(メタ)アクリル系、ポリヒドロキシスチレン系またはノボラック系の樹脂等の樹脂成分と、露光により酸を発生する酸発生剤や感光剤とを組み合わせた組成物が広く用いられている。本発明のフラーレン誘導体は、通常、フォトレジストに使用される有機溶媒への溶解度が高いことにより、特殊な溶媒を用いることなく、より高濃度でフォトレジストに複合化が可能である。また、フラーレン誘導体単独でもレジスト膜を形成することが可能である。
半導体製造等の分野では、例えば500μm以下の微細パターンを生産効率良く形成する方法としてナノインプリント法が検討されている。ナノインプリント法とは、微細パターンを有するモールドのパターンを転写層に転写する微細パターンの形成方法である。
近年、コンピュータの中央処理装置(CPU)用回路基盤には、樹脂薄膜を層間絶縁膜とする高密度かつ微細な多層配線に適した樹脂薄膜配線が適用されるようになってきた。将来のより高速な処理能力を有するコンピュータを実現するには、高密度かつ繊細な多層配線を活かし、かつ信号の高速伝播に適した低誘電率絶縁材料の開発が求められている。本発明のフラーレン誘導体は、通常、上記用途に使用される有機溶媒への溶解度が高いことより、特殊な溶媒を用いることなく、より高濃度で他の材料と複合化することが可能である。また、フラーレン誘導体単独で成膜することも可能である。この際、本発明のフラーレン誘導体は、フラーレン構造が本質的に有する高抵抗、低誘電率の性質を保持しており、複合化して用いる際にはフィラーとしての機械的強度の向上効果を有することができ、これにより、従来にない優れた性能の低誘電率の層間絶縁膜の実現が可能となる。
有機太陽電池への応用も可能である。この分野においては、シリコン系の無機太陽電池と比較して、優位な点が多数あるもののエネルギー変換効率が低く、実用レベルに十分には達していない。この点を克服するためのものとして、最近、電子供与体である導電性高分子と、電子受容体であるフラーレン並びにフラーレン誘導体とを混合した活性層を有するバルクヘテロ接合型有機太陽電池が提案されている。このバルクヘテロ接合型有機太陽電池では、導電性高分子とフラーレン誘導体それぞれとが分子レベルで混じり合い、その結果非常に大きな界面を作り出すことに成功し、変換効率の大幅な向上が実現されている。
さらにこの高溶解性を利用し、本発明のフラーレン誘導体は、導電性高分子等を含有した電子供与体層との層分離制御や、誘導体分子の整列配向性・細密充填性などのモルフォロジー制御などを可能にし、これにより特性の向上が実現できる上、デバイス設計において高い柔軟性を与える。また、本発明のフラーレン誘導体を用いれば、製造上も通常の印刷法やインクジェットによる印刷、更にはスプレー法等により、低コストで容易に大面積化を実現する事が可能である。
光センサー、整流素子等への応用が期待できる電界効果トランジスタの有機材料として、フラーレン及びフラーレン誘導体を使用することが研究されている。一般的にフラーレン及びフラーレン誘導体を半導体に用いて電界効果トランジスタを作製した場合、当該電界効果トランジスタはn型のトランジスタとして機能することが知られている。本発明のフラーレン誘導体は、上記用途で使用される有機溶媒への溶解度が高いことにより、塗布による成膜が容易であり、また、n型半導体としてのフラーレンの本質的な性質は保持している。これにより、本発明のフラーレン誘導体は、低コスト、高性能な有機半導体として期待できる。
本発明のフラーレン誘導体を出発原料として、その水酸基に特定の有機基(保護基)を導入する工程を経て、新たな機能を有するフラーレン誘導体を製造することができる。以下、その有機基の導入方法に関して代表例を記すが、以下の例に限定されるものではない。
(1)本発明の水酸基含有フラーレン誘導体をエステル化剤と反応させて、エステル化する。
(2)本発明の水酸基含有フラーレン誘導体をカーボネート化剤と反応させて、カーボネート化する。
(3)本発明の水酸基含有フラーレン誘導体をエーテル化剤と反応させて、エーテル化する。
(4)本発明の水酸基含有フラーレン誘導体をウレタン化剤と反応させて、ウレタン化する。
臭化銅(I)ジメチルスルフィド錯体(6.48g、31.5mmol)のTHF懸濁液(56mL)を5℃まで冷却した後、4−OTHP−C6H4MgBr/THF溶液(1mol/L、34mL)を加え、25℃まで昇温した。そこにC60(2.0g、2.78mmol)のODCB溶液(90mL)を加え、2時間攪拌した。そこに、アリルブロマイド(3mL、35mmol)を加え、更に3時間攪拌した。反応液を濾過し、THFを除去した後、トルエンで希釈し、アルミナカラムクロマトグラフィー(展開液:トルエン)を行なった。溶液を濃縮し、メタノール(500mL)、ヘキサン(200mL)で晶析を行ない、50℃で真空乾燥を行なうことで、C60(4−OTHP−C6H4)5(−CH2−CH=CH2)をオレンジ色固体(3.82g、2.32mmol、収率83.3%)の生成物として得た。
カラムサイズ:150mm×4.6mmφ
溶離液:トルエン/メタノール=2/8
検出器:UV290nm
ガス流量:窒素ガス、200mL/min
パン:Pt
昇温速度:10℃/min
測定温度:30〜900℃
これにより製膜したフラーレン誘導体薄膜の膜厚を測定し補正に使用するため、一部をアセトンにて剥離させ、剥離部分と健全部の段差を段差計(テンコール社製、alfa step500)にて測定した。次に、膜が形成された石英板を、可視・紫外分光光度計(島津社製、UV−17010)にて、190nm〜1500nmの領域をダブルビーム方式、光源はハロゲンランプと重水素ランプの切替方式、検出器はシリコンフォトダイオードにて測定した。そのデータを、測定した膜厚を使って、50nm膜厚の吸光データへ補正した。その結果を図3に示す。
臭化銅(I)ジメチルスルフィド錯体(6.48g、31.5mmol)のTHF懸濁液(56mL)を5℃まで冷却した後、4−OTHP−C6H4MgBr/THF溶液(1mol/L、34mL)を加え、25℃まで昇温した。そこにC60(2.0g、2.78mmol)のODCB溶液(90mL)を加え、1時間攪拌した。そこに、クロチルブロマイド(8mL、78mmol)を加え、更に10時間攪拌した。反応液を濾過し、THFを除去した後、トルエンで希釈し、アルミナカラムクロマトグラフィー(展開液:トルエン)を行なった。溶液を濃縮し、メタノール(500mL)、ヘキサン(200mL)で晶析を行ない、50℃で真空乾燥を行なうことで、C60(4−OTHP−C6H4)5(−CH2−CH=CH(CH3))をオレンジ色固体(3.72g、2.24mmol、収率80.6%)の生成物として得た。
臭化銅(I)ジメチルスルフィド錯体(6.48g、31.5mmol)のTHF懸濁液(56mL)を5℃まで冷却した後、4−OTHP−C6H4MgBr/THF溶液(1mol/L、34mL)を加え、25℃まで昇温した。そこにC60(2.0g、2.78mmol)のODCB溶液(90mL)を加え、2時間攪拌した。そこに、シンナミルブロマイド(7.70g、39mmol)のODCB溶液(10mL)を加え、更に10時間攪拌した。反応液を濾過し、THFを除去した後、トルエンで希釈し、アルミナカラムクロマトグラフィー(展開液:トルエン)を行なった。溶媒を濃縮し、メタノール(500mL)、ヘキサン(100mL)で晶析を行ない、50℃で真空乾燥を行なうことで、C60(4−OTHP−C6H4)5(−CH2−CH=CH(C6H5))をオレンジ色固体(4.45g、2.58mmol、収率93.0%)の生成物として得た。
臭化銅(I)ジメチルスルフィド錯体(6.48g、31.5mmol)のTHF懸濁液(56mL)を5℃まで冷却した後、3−OCH3−C6H4MgBr/THF溶液(1mol/L、34mL)を加え、25℃まで昇温した。そこにC60(2.0g、2.78mmol)のODCB溶液(90mL)を加え、2時間攪拌した。そこに、クロチルブロマイド(10mL、98mmol)を加え、更に10時間攪拌した。反応液を濾過し、THFを除去した後、トルエンで希釈し、シリカカラムクロマトグラフィー(展開液:トルエン)を行なった。溶媒を濃縮し、メタノール(700mL)で晶析を行ない、50℃で真空乾燥を行なうことで、C60(3−OCH3−C6H4)5(−CH2−CH=CH(CH3))をオレンジ色固体(2.78g、2.12mmol、収率76.3%)の生成物として得た。
臭化銅(I)ジメチルスルフィド錯体(6.48g、31.5mmol)のTHF懸濁液(56mL)を5℃まで冷却した後、3,4−OCH2O−C6H3MgBr/THF溶液(1mol/L、34mL)を加え、25℃まで昇温した。そこにC60(2.0g、2.78mmol)のODCB溶液(90mL)を加え、7時間攪拌した。そこに、クロチルブロマイド(7mL、68mmol)を加え、更に10時間攪拌した。反応液を濾過し、THFを除去した後、トルエンで希釈し、シリカカラムクロマトグラフィー(展開液:トルエン)を行なった。溶液を濃縮し、メタノール(500mL)で晶析を行ない、50℃で真空乾燥を行なうことで、C60(3,4−OCH2O−C6H3)5(−CH2−CH=CH(CH3))をオレンジ色固体(3.31g、2.40mmol、収率86.3%)の生成物として得た。
カラム種類:L−Column(ODS:3μm)
カラムサイズ:100mm×4.6mmφ
溶離液:メタノール/水/リン酸 = 950/50/1
検出器:UV290nm
カラム種類:L−Column(ODS:3μm)
カラムサイズ:100mm×4.6mmφ
溶離液:メタノール/水/トリフルオロ酢酸 = 950/50/1
検出器:UV290nm
MS :TOF−MS ES−
Nature, 419, 702−705, 2002(以下「Nature文献」という。)のSupplementary Informationに記載の方法で、C60(4−OTHP−C6H4)5(H)を合成した。この水素化体に対して、特許文献2(実施例8)に記載の方法(THF中でカリウム−t−ブトキシド(tBuOK)を作用させた後、ヨウ化メチル(MeI)を添加)によってメチル基を導入し、上記Nature文献に記載の方法で脱保護反応を行ない、上記表題化合物を合成した。
HPLC測定サンプルの溶媒をTHFに変えた以外は、実施例1と同様にして、得られた生成物をHPLC及び1H−NMRにて測定した。
[1H−NMR(DMSO−d6,270MHz)]
9.60ppm(s,OH,4H),9.48ppm(s,OH,1H),7.58ppm(m,Ph,8H),6.96ppm(d,Ph,2H),6.77ppm(m,Ph,8H),6.49ppm(d,Ph,2H),1.47ppm(s,Me,3H)
また、比較例1で製造した化合物を用いて実施例1と同様に薄膜を形成しようとしたが、比較例1の化合物は溶解性が不足していたため、成膜ができなかった。
Claims (15)
- フラーレンC 60 又はC 70 骨格の下記式(I)で表わされる部分構造において、C1が、下記式(II)で表わされる構造の有機基と結合しており、C6〜C8が各々独立に、下記式(III)で表わされる構造の有機基と結合していることを特徴とするフラーレン誘導体。
- 式(III)中のnが1であることを特徴とする、請求項1記載のフラーレン誘導体。
- 式(I)中のC6〜C10が各々独立に、式(III)で表わされる構造の有機基と結合していることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のフラーレン誘導体。
- R 3 が水素原子であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載のフラーレン誘導体。
- R1及びR2のうち何れか一方が水素原子であることを特徴とする、請求項4記載のフラーレン誘導体。
- R1及びR2がともに水素原子であることを特徴とする、請求項5記載のフラーレン誘導体。
- フラーレン骨格がフラーレンC60であることを特徴とする、請求項1〜6の何れか一項に記載のフラーレン誘導体。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載のフラーレン誘導体がエステル溶媒に溶解してなることを特徴とする、フラーレン誘導体溶液。
- 前記エステル溶媒がプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテートであることを特徴とする、請求項8記載のフラーレン誘導体溶液。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載のフラーレン誘導体を製造する方法であって、フラーレン及び/又はフラーレン中間体の式(I)の部分構造のC 6 〜C 8 に式(III)の有機基を付加する反応を行う工程、次いで、得られた付加反応物と少なくとも一種の遷移金属とが存在している反応系にアルケニル化剤を作用させる工程を少なくとも有することを特徴とする、フラーレン誘導体の製造方法。
- 前記フラーレン及び/又は前記フラーレン中間体にグリニャール試薬を作用させることにより、式(I)の部分構造のC 6 〜C 8 に式(III)の有機基を付加する反応を行うことを特徴とする、請求項10記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 前記遷移金属が長周期型周期表の第10族及び第11族に属する金属から選択されることを特徴とする、請求項10又は請求項11に記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 前記遷移金属が銅金属であることを特徴とする、請求項12記載のフラーレン誘導体の製造方法。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載のフラーレン誘導体を含むことを特徴とする、膜。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載のフラーレン誘導体を含むことを特徴とする、フォトレジスト用膜、半導体製造用ナノインプリント膜、低誘電率絶縁膜、太陽電池用膜、又は半導体膜。
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