JP5178617B2 - 光照射装置および検査装置 - Google Patents

Description

本発明は、光照射装置および検査装置に関する。

従来、光照射装置としては、特開２００４−２４９９９８号公報（特許文献１）に記載されているフロントライト方式の反射型液晶用照射装置がある。

この反射型液晶用照射装置は、導光体に溝部を形成しておいて、導光体から漏れ光を発生させて、その漏れ光を液晶パネルに照射するようになっている。そして、上記液晶パネルからの反射光を導光板の上面（反射体と反対面）側に照射するようになっている。

この反射型液晶用照射装置は、導光体の上記溝部の溝形状を変化させることにより、導光板の漏れ光を均一化するようになっており、液晶パネルを照射する照度を均一化するようになっている。

また、従来、他の光照射装置としては、特表２００６−５１１０５０号公報（特許文献２）に記載されている反射型液晶用照射装置がある。

この反射型液晶照射装置は、光源を、導光体の両側に配置し、さらに、導光体内部の溝の形状を中心対称に変化させて、照度を均一化するようになっている。

特開２００４−２４９９９８ 特表２００６−５１１０５０

上述のように、上記従来の光照射装置では、導光体からの漏れ光を反射体である反射型液晶パネルで反射させ、導光体からの出射光のみで、照射する照度の均一性を確保している。上記従来の光照射装置では、設計段階では照度ムラを最小にする構造を実現することができるが、設計段階で照度ムラが最小であったとしても、試作時の作製誤差の影響で照度ムラが発生することが避けがたく、この照度ムラを、調整することができない。そして、その結果、作製時に発生した照度ムラをそのまま残した光照射装置しか実現できない。加えて、従来の装置では、反射率の可変を行うことができず、かつ、特定の部分だけを照射することができないから、溝部からの漏れ光の反射も考慮して、照度ムラの均一化の調整を行うことができない。

また、従来の均一化原理を採用した反射型液晶用の光照射装置を、太陽電池の検査装置用光照射装置として用いると、照度調整を精度良く行うことが困難な構成であるから、照度均一性の低下により評価性能が落ちることになる。

そこで、本発明の課題は、照度の均一化の調整ができる光照射装置を提供することにある。また、本発明の課題は、そのような光照射装置を備える検査装置を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の光照射装置は、
光源と、
光が出射される光出射面と、この光出射面に対向すると共に、一方向に互いに間隔をおいて位置する複数の溝が形成された溝形成面とを有する導光体と、
上記光源からの光を上記導光体に案内する光学部材と、
上記導光体の上記溝形成面に対向する反射面を有する反射体と
を備え、
上記導光体の上記各溝は、上記一方向を法線とする平面に対して傾斜する傾斜面を有し、
上記光源からの光のうちの一部の光は、上記傾斜面で反射して上記反射面に到達すると共に、上記一部の光であって、上記反射面で反射した光の少なくとも一部は、上記導光体の上記光出射面に到達し、
上記反射体の上記反射面は、上記光源からの光の一部であって上記溝の上記傾斜面で反射する光が到達可能な第１部分と、この第１部分に対して間隔をおいて位置すると共に、上記傾斜面以外の面から反射された光が入射する第２部分とを有し、
上記第１部分の光の反射率は、上記第２部分の光の反射率と異なることを特徴としている。

本発明によれば、導光体の上記各溝は、上記一方向を法線とする平面に対して傾斜する傾斜面を有し、かつ、導光体の上記光出射面に対向する反射面を有する反射体を備えるから、傾斜面の傾斜を適宜適切な傾斜にすることにより、上記光源からの光であって導光体の溝から反射面に向かう光の拡がり角度を制限できる。したがって、その反射面に向かう光の上記反射体での反射光で、上記導光体の上記光出射面での所定の範囲（または、光照射装置が照射する照射面の所定の範囲）における光の照度を調整することができる。

また、一実施形態では、
上記光学部材は、上記光源からの光であって上記導光体に案内される光が上記導光体の上記光出射面に入射する際の最大の入射角が、上記光出射面の全反射の臨界角よりも大きくなるように、上記光源からの光の進路を制限し、
上記溝の上記斜面が上記導光体の上記光出射面に対してなす角の角度および上記最大の入射角の角度で、上記光源からの光の一部であって上記溝の上記傾斜面と上記反射面で反射して上記光出射面に到達した光の照射範囲を制限することによって、上記光出射面から出射される光が上記光出射面の出射位置によらずより一様に近づくように照射する。

上記実施形態によれば、上記溝の上記傾斜面で反射する調整光に基づく導光体の光出射面（光照射装置が照射する照射面）での照度の調整範囲を、更に局所化、細分化することができる。

また、本発明によれば、光源からの光であって反射体での反射光による調整の幅（自由度）を更に格段に拡げることができる。

また、本発明の光照射装置は、
光源と、
光が出射される光出射面と、この光出射面に対向すると共に、一方向に互いに間隔をおいて位置する複数の溝が形成された溝形成面とを有する導光体と、
上記光源からの光を上記導光体に案内する光学部材と、
上記導光体の上記溝形成面に対向する反射面を有する反射体と
を備え、
上記導光体の上記各溝は、上記一方向を法線とする平面に対して傾斜する傾斜面を有し、
上記光源からの光のうちの一部の光は、上記傾斜面で反射して上記反射面に到達すると共に、上記一部の光であって、上記反射面で反射した光の少なくとも一部は、上記導光体の上記光出射面に到達し、
上記反射体の上記反射面は、上記光源からの光の一部であって上記溝の上記傾斜面で反射する光が到達可能な第１部分と、この第１部分に対して間隔をおいて位置すると共に、上記傾斜面以外の面から反射された光が入射する第２部分とを有し、
上記第１部分の反射率は、上記第１部分に入射する光の入射角に基づいて変動する角度依存性を有すると共に、上記第２部分の反射率は、上記第２部分に入射する光の入射角に基づいて変動する角度依存性を有し、
上記第１部分の反射率の角度依存性は、上記第２部分の反射率の角度依存性と異なることを特徴としている。

本発明によれば、溝からの漏れ光を反射して照射面に再度照射する際の照射範囲をさらに狭めることが可能になり、精度の高い照度調整を行うことができる。

また、一実施形態では、
上記光源からの光であって上記傾斜面で反射して上記反射面に向かう光の一部が、上記反射面に到達することを防止する防止部を備える。

上記実施形態によれば、上記光源からの光であって溝の上記傾斜面で反射した光の光量を低減することができるから、照度調整時の照度調整幅を大きくすることができると共に、照度の微調整を行うことができる。

また、一実施形態では、
上記反射面は、
上記溝形成面において上記溝から間隔をおいて位置する部分との距離が、第１距離である第１距離部と、
上記溝形成面において上記溝から間隔をおいて位置する部分との距離が、第１距離よりも大きい第２距離である第２距離部と
を有する。

上記実施形態によれば、溝部からの漏れ光を反射して照射面に再度照射する際の光の照射範囲を適切に変動させることができて、照度の微調整を行うことができる。

また、本発明の検査装置は、
本発明の光照射装置と、
上記導光体の光の出射範囲内に位置すると共に、透明材料からなる測定物配置部材と、
上記光源からの光であって上記導光体を経由して上記測定物配置部材に到達する光の波長毎の強度を変動させる光学フィルタと
を備えることを特徴としている。

本発明によれば、検査光源の照度ムラを小さくすることができる。したがって、特に、照度ムラが小さければ有効に検査できる太陽電池の検査を精度高く行うことができる。

本発明の光照射装置によれば、局所的な照度の不均一性を調整して改善することができて、照度の均一性を向上することができる。

また、一実施形態の光照射装置によれば、上記導光体に導入する光の伝搬角、すなわち、導光体の入射面の法線に対して光の伝搬する方向がなす角度を、制限する光学部材を設けたり、反射体上に角度選択性（例えば、反射する角度を限定したり、入射する光の入射角度により反射率が異なることをいう）を有する反射ミラーを設置したり、あるいは、吸収体を設ける。このようにすれば、光源からの光であって溝の傾斜面で反射し、更に、上記反射体の反射面で反射されて照射面を照射する光において、照度調整領域をより限定的に制限できる。したがって、照度均一化のための調整を、より精度高いものにすることができる。

また、一実施形態の光照射装置によれば、反射体（例えば、反射型液晶）が、照射光の均一化を実現するための反射率可変機能や、特定の部分だけを照射する指向性付加機能を有しているから、照度ムラの均一化を溝からの漏れ光の反射も考慮して調整することができる。

また、本発明の検査装置で、太陽電池等の検査を行った場合、照度均一性の高い（照度ムラが平均に対して±２％以下）光を太陽電池等に照射することができるので、太陽電池等の検査精度を高くすることができる。

本発明の第１実施形態の光照射装置を示す模式図である。 導光体の側面図である。 第１実施形態の変形例の光照射装置を示す模式図である。 第２実施形態の光照射装置の側面図である。 図２Ａの部分拡大断面図である。 第３実施形態の光照射装置の側面図である。 図３Ａの部分拡大断面図である。 第４実施形態の光照射装置の側面図である。 図４Ａの変形例の光照射装置の部分拡大断面図である。 第５実施形態の検査装置を示す模式図である。

以下、本発明を図示の形態により詳細に説明する。

図１Ａは、本発明の第１実施形態の光照射装置の斜視図である。

この光照射装置は、面状照射するようになっている。詳しくは、この光照射装置は、光源１、リフレクタ２、集光レンズ３、導光体４および反射体６を備え、光源１から出射した光は、リフレクタ２および集光レンズ３によって集光されて導光体４の中に案内されるようになっている。

上記導光体４は、直方体状の形状を有し、光出射面７７と、溝形成面７８とを有する。上記溝形成面７８は、導光体４の底面を構成する。上記溝形成面７８は、溝部５を有し、溝部５は、複数の溝５５を有する。上記導光体４に入射した光は、溝部５で反射して、底面に対向する面側に進行し、光照射装置の照射面９に照射されるようになっている。上記導光体４の光源１側とは反対側の端面１０は、ミラー面となっている。この光照射装置は、１灯配置の構成を有している。

図１Ｂは、導光体４の側面図であり、導光体４の溝形状を示す図である。

図１Ｂに示すように、上記各溝５５の形状は、断面略二等辺三角形状であり、その二等辺三角形一方の底角φ１は、他方の底角φ２と等しくなっている。

例えば、上記底角φ１が、３０°である場合に、図１Ｂの側面において、溝形成面７８（他の表現をすると、導光体４と周囲との界面Ｓ）に略平行に進行する光について考える。上記導光体４の導光板材料が合成石英（屈折率Ｎｄ：１.４６）で臨界角が４３度である場合、溝部５への入射光（導光体４の伝搬光）Ｉｉｎは、溝５５の斜面に対する入射角θ１が全反射条件を満たし、全反射されて照射光Ｉｒ１となる。このような全反射した照射光は、各溝５５から発せられて、照射面９に照射する。このようにして、面状照射を行う。

上記各溝５５は、三角柱状の形状を有し、各溝５５の形状は、図１Ｂの紙面に垂直な方向に一様であり、導光体４の奥行き方向に一様である。断面二等辺三角形状の溝５５の深さを、０．１ｍｍに設定すると共に、導光体４の厚さを、１５ｍｍに設定した場合、上記溝を約５ｍｍ間隔で均等に配置することで、照射面において、平均照度±２％以下の照度均一性を、解析的に獲得できる。

第１実施形態では、上記反射体６を、導光体４の下に配置している。このようにして、導光体４の溝形成時の誤差等によって、反射体６を導光体４の下に配置しなかったならば顕著であったであろう照射面９（図１Ａ参照）での照度ムラを抑制し、設計通りの照度均一性を獲得するようにしている。

図１Ａに示すように、上記導光体４は、支持基板７に支持ピット８で支持されている。上記導光体４と、支持基板７との間には、スペースが存在している。上記反射体６は、上記スペースにおいて照射面９の照度調整をしたい部分の照度調整が可能な箇所に配置されている。詳しくは、上記光源１からの光であって反射体６で反射した反射光が、照射面９の所望の部分に照射されるように、反射体６を配置するようになっている。

光源１からの光であって導光体４内を進行する光は、導光体４の光出射面７７から抜け出る他、導光体４の溝形成面７８からも抜け出る。例えば、溝５５の斜面８８（図１Ｂ参照）の法線方向に進行して、斜面に入射する光は、導光体４の溝形成面７８から抜け出ることになる。

以下、図１Ｂにおいて紙面の右側に位置する部分を用いて、反射体６の機能について説明する。

上記導光体４内を進行する光の一部は、溝５５の光源１（図１Ａ参照）側の斜面を出た後、溝５５の他方の斜面から再度導光体４に入射する。この再度の導光体４への入射時に、反射光Ｉｒ２が発生する。この反射光Ｉｒ２は、反射体６で反射され、その反射光Ｉｒ３が照射面９（図１Ａ参照）に向けて照射されることになる。第１実施形態では、上記再度の導光体４への入射の際に発生する反射光Ｉｒ２を、照度均一化のために用いているのである。

上記反射体６は、反射光Ｉｒ３光が作製誤差による照射面９の照射ずれが大きい部分に向けて照射されるように配置する。例えば、溝が、導光体の伝搬光を５０％全反射する一方、他の伝搬光を溝５５の斜面から外に一旦出射するという条件、すなわち、導光体４の材料が合成石英で、屈折率Ｎｄが１．４６であり、溝の深さが０．１ｍｍであり、かつ、斜面の斜度φ１、φ２が３０°という条件の場合、反射体６から反射され、再度照射光として用いることのできる照射角度範囲、すなわち、溝５５で反射されて反射体６に到達し、さらに反射体６で反射後、再度導光体の出射面に到達した位置に、点光源があるとみなし、その到達位置の出射面に対する法線を中心に、導光体４から出射する光Ｉｒ３が照射面９を見込む厚さ方向の角度範囲は、角度選択、すなわち、溝の斜面の角度φ１、φ２を導光体の伝搬光が全て全反射とならないように設定するという角度選択を設けない場合に対して半分の±２２．５°の角度範囲となる。この場合、照射面９と導光体４との距離ｈが１００ｍｍで、かつ、反射体６で反射させる領域のサイズが０．１ｍｍ角である場合、１箇所の反射体が照射する範囲は、８２ｍｍ角の範囲になる。したがって、８２ｍｍ角の範囲を、その照度調整範囲として設定することができる。

このことを逆に考えれば、所望の照度調整範囲、例えば、８２ｍｍ角の調整範囲を、調整するべく、反射体６の位置を定めることで、この範囲での照度の調整をすることができる。

尚、上記第１実施形態では、１灯配置の構成を有していたが、この発明では、図１Ｃに示すように、２灯配置の構成を取ることもできる。すなわち、図１Ｃに示すように、光を、導光体１０４の両側から入射させることもできる。２灯配置のほうが照度均一化時の溝部の配置誤差の影響を受けにくくなる。したがって、２灯配置のほうが、均一化を行う溝部１０５の配置設計の際に、設計時の公差を大きく取ることができる。尚、図１Ｃにおいて、１０１は、光源であり、１０２は、リフレクタであり、１０３は、集光レンズである。また、１０６は、反射体であり、１０７は、支持基板であり、１０８は、支持ピットである。

また、上記第１実施形態では、導光体４は、直方体形状であったが、この発明では、導光体は、六面体等、直方体以外の如何なる形状をとることもできる。

図２Ａは、第２実施形態の光照射装置の側面図である。

第２実施形態では、集光レンズ２１３のＮＡを小さくして、光源２１１からの出射光を、リフレクタ２１２を介して導光体２０４に入射させるようにしている。使用するレンズは、焦点距離が２００ｍｍで、有効範囲が１１０ｍｍで、ＮＡ＝０.２６である。尚、ここで、ＮＡ（numerical aperture）は、レンズの開口数であり、レンズの分解能を表す指数である。http://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%95%E3%82%A1%E3%82%A4%E3%83%AB:Numerical_aperture.svg

このようにして、上記集光レンズ１３からの入射光の角度範囲を、導光体の光が入射する面の法線に対して、導光体の厚み方向になす角を±１５°の範囲に制限するようにしている。また、導光体を合成石英で形成して、導光体４の内部を伝搬する角度を、±１０°以下に制限している。

また、第２実施形態では、上記導光体２０４が合成石英からなり、かつ、溝部２１５の各溝の斜面の斜度φ１、φ２を、４５°にしている。このことから、図２Ａの部分拡大断面図である図２Ｂに示すように、反射体２０６の反射面２９０および導光体２０４の長手方向の両方に垂直な平面の法線方向に進行する伝搬光が、溝２５５で全反射して、導光体２０４の光出射面２７７の略法線方向に進行するようになっている。

上記溝２５５の斜度φ１、φ２が４５°の場合には、溝部２５５において全反射角で反射される成分Ｉｒ１は、溝部２０５に入射する光に対する割合は６５％であり、残りの成分は溝２５５の斜面から導光体２０４の外部に漏れる。この結果、導光体２０４の外部に漏れて再度、照射面に対して照射される角度範囲、すなわち、溝２５５面から漏れて、反射面２９０に到達、反射面２９０で反射後に導光体２０４の光出射面２７７に到達して、導光体２０４から出射される光Ｉｒ３が、その到達点における導光体２０４の光出射面２７７の法線に対して、導光板の厚さ方向になす角度の範囲が±６°以下（全角度成分、すなわち、導光体２０４に入射された時点で制限された伝搬角で決まる、導光板厚さ方向の角度成分、±１５°の３５％以下）に設定することができる。したがって、一旦導光体２０４の外部に漏れた後、再度照射面に入射する光を照度調整に用いた場合の光の照射範囲を、さらに絞ることができて、光の照度ムラを、より局所的にピンポイントに調整することができる。

例えば、反射体で反射される領域のサイズが０．１ｍｍ角である場合、照射面と導光体との距離が４００ｍｍの場合であっても、８４ｍｍ角の範囲を、その照度調整範囲とすることができる。

また、上記反射体２０６において導光体２０４からの出射方向が照射される部分において、多層膜反射ミラー２１６を用いることで、反射体２０６における反射光に角度選択性、すなわち、多層膜反射ミラー２１６への入射光のうち、全てを反射するのではなく、予め設定された入射角（多層反射ミラーに対する）に与えることができる。詳しくは、上記導光体４から反射体６へ向けて出射する光のうち、再度、導光体４へ反射する光Ｉｒ２が±６°以下に角度制限されている場合において、多層反射ミラー１６の多層膜の層数を増やし、反射時の角度選択性をさらに±３°以下に抑制する。このようにすると、照射面と導光体との距離が４００ｍｍの場合で、反射ミラー１６で反射される領域のサイズが０．１ｍｍ角である場合、照射面９における照射範囲を、４２ｍｍ角まで小さくできる。

尚、第２実施形態では、反射面を反射体６の全面に形成しておいて、一部に別の反射特性（入射角依存性）を持つ多層膜反射ミラー１６を配置する構造になっている。尚、この発明では、反射ミラーとして、多層膜反射ミラー以外のものを使用することもできる。

第２実施形態のように、反射ミラーを局所的に配置する場合は、反射体６が反射率、すなわち反射面２９０への入射光に対して、導光体側に反射される率を予め部分的に変えた反射体２０６を配置する場合に比べて以下の利点がある。すなわち、照度調整は設計からのずれに対応するもので、予測した照度ずれと異なる場合に、予め反射率を変えて、その状態が固定化するならば対応できない。一方で、反射体２０６全体で溝２５５からの反射光Ｉｒ２を一定の反射率で反射する構成にしておき、更に、照度調整したい照度範囲に対応する位置に、反射率を上下させた多層膜反射ミラー２１６を形成する。このようにすれば、照度調整を重点的に行う側と、重点的に行わない側の両方で、適切に照度調整を行うことができる。上記反射体２０６の反射面において多層膜反射ミラー２１６と間隔をおいて位置する部分は、第１部分を構成し、多層膜反射ミラー２１６の導光体２０６側の表面は、第２部分を構成している。

このように反射体６の反射率に角度依存性を持つ部位を形成した場合、照度調整範囲をより狭めることができ、より局所的な照度のばらつきを補正することができる。したがって、照度の均一化を好適に実現することができる。

尚、この発明では、図２Ｂにおける多層膜反射ミラー２１６の位置に、多層膜反射ミラー２１６の代わりに角度選択性のある吸収体を設ける構成にしても良い。このようにすると、反射体に入射した光のうち、ある角度範囲の光を吸収することができて、多層膜反射ミラー使用時と同じように、反射体での反射光を照度調整に利用する際に、特定角度範囲の光を減衰させる形で、照度調整範囲を狭くすることができる。尚、角度選択性のある吸収体としては、深溝（照射波長の３倍以上の深さ）の金属製グレーティングを形成した吸収素子等を使用することができる。

第２実施形態によれば、反射体２０６から図示しない照射面（図１Ａに９で示す面に対応する面）に向けて進行する光の立体角の範囲をより狭めることができて、照射面での照度の補正の範囲をより効果的に絞り込むことができる。

尚、多層膜反射ミラー１６の代わりに角度選択性のある吸収体を設ける構成にした場合、再反射光量は、反射強度Ｉｒ３から減衰して、（１−α）・Ｉｒ３（吸収率：α）になる。尚、このとき、照度調整時の変化量は、αＩｒ３となる。

図３Ａは、第３実施形態の光照射装置の側面図である。また、図３Ｂは、図３Ａの部分拡大断面図である。

第３実施形態では、図３Ｂに示すように、反射体３０６の一部に溝３５５から出た光の光路を直接に遮断する防止部の一例としての構造体３３６を、反射体３０６上に形成している。このようにして、直接に照射面（図示せず）を照射する光量を制限する。

このようにすると、反射体に入射する光の光量を変化させずに、反射体の反射率を変える場合よりも、大きい光量の範囲の調整を行うことができる。

詳しくは、反射体上に構造体が存在していない場合、調整用光の光量は、導光体材料が合成石英の場合で、溝の斜面から一旦導光体の外に出る光量が５０％の場合、最大でも調整光Ｉｒ３は、漏れ光の約２.５％である。一方、第３実施形態では、同じく一旦、溝３５５から導光体３０４の外に出る光量割合が５０％の場合であって、更に、反射体３０６がフレネル反射による損失だけで損失させる透明構造体である場合であっても、調整光Ｉｒ３、すなわち、反射面で反射した光の光量として、漏れ光の約５％の光量を確保できる。尚、構造体３３６による遮断率を上げれば、調整光量を大きくすることができる。

尚、第３実施形態では、反射体３０６上に形成した突出部としての構造体３３６によって光を遮断しているが、構造体３３６の反射体３０６の反射面からの高さを変えることでも、遮光量を変えることができる。

図４Ａは、第４実施形態の光照射装置の側面図である。また、図４Ｂは、図４Ａの変形例の部分拡大断面図である。

図４Ａ,４Ｂに示すように、反射体４０６上に、反射体４０６とは別体の第２反射体４１６を設けて、第２反射体４１６の高さを適宜変動させるようにしても良い。このようにしても、溝４５５で屈折するか、または、その他の部分で屈折するかを変更できて、照射面（図示せず）への照射範囲を変動させることができる。

すなわち、例えば、部分反射体４４６（図４Ｂ参照）から照射面に向かう光のうち、溝４５５を通る光、それ以外を通る光が存在するように、部分反射体４４６の高さを調整する。そして、反射光のうち溝４５５を通る光だけ、照射面側に出射し、それ以外のところを通る光は、遮光体４４７（図４Ｂ参照）で遮光する。この場合にも、照度調整のために、反射体４０６から反射する光の照射範囲を実効的に制限できて、照度調整範囲を絞り込むことができる。

このように、上記反射体４０６の反射位置の高さを変えることでも、照度調整範囲を変動させることができて、照度ムラを調整する調整精度を上げることができる。図４Ｂを参照して、溝形成面の溝４５５が形成されていない部分から紙面の左側の部分反射体４４６までの距離は、第１距離を構成し、溝形成面の溝４５５が形成されていない部分から紙面の右側の部分反射体４４６までの距離は、第２距離を構成している。

図５は、本発明の第５実施形態の検査装置を示す図である。

この検査装置は、太陽電池の検査を行うようになっている。この検査装置は、光照射装置５９０と、測定物配置部材の一例としての検査板５５７とを備え、光照射装置５９０は、反射部材５５０、二つの光源５５１、リフレクタ５５２、伝搬角変更テーパ部５５３、導光体（導光板）５５４、および、反射体５５６を有する。上記導光板５５４には、複数の溝５５５が形成されている。

上記各光源５５１は、棒状光源である。上記各光源５５１からの光を、集光用のリフレクタ５５２で集光する。また、集光された光が、導光体５５４に結合する前に、伝搬角変更用のテーパ部５５３で、集光された光の導光体５５４への入射角を制限している。このようにして、その集光された光の導光体５５４内での伝搬角の範囲も狭くなるようにしている。

上記テーパ部５５３は入射端の開口が出射端の開口よりも小さくなっている。この検査装置では、光源５５１から、導光体５５４までの光路途中に、波長特性（波長ごとに強度が変化する放射スペクトルに合わせた特性等）をコントロールする光学フィルタ（図示せず）を配置している。このようにして、導光板５５４に入る前に、光の波長特性を制御している。なお、光源の種類は複数種でも良く、また、光源として２灯以外の灯、例えば、３灯以上の灯を配置しても良い。このような場合であっても、光を導光体に導入する前に、反射部材のところに光路合成部材を用いることで、これら複数の光源の出射光を導光体に同時に入射することができる。

上記検査板５５７は、導光体５５４から４００ｍｍ離れた位置に配置されている。上記検査板５５７の上には、検査されるべき太陽電池５５８が搭載されるようになっている。光は、導光体５５４から太陽電池５５８に向けて照射されるようになっている。上記反射体５５６の一部に、反射率を変えた部分を形成することで、太陽電池５５８に向けて照射する照度の均一性を高くすることができる。

１,１０１,２１１,３１１,４１１,５５１ 光源
２,１０２,２１２,３１２,４１２,５５２ リフレクタ
３,１０３,２１３,３１３,４１３ 集光レンズ
４,１０４,２０４,３０５,４０４,５５４ 導光体
５ 溝部
６,１０６,２０６,３０６,４０６,５５６ 反射体
４６ 部分反射体
５５,２５５,３５５,４５５,５５５ 溝

Claims (6)

1. 光源と、
   光が出射される光出射面と、この光出射面に対向すると共に、一方向に互いに間隔をおいて位置する複数の溝が形成された溝形成面とを有する導光体と、
   上記光源からの光を上記導光体に案内する光学部材と、
   上記導光体の上記溝形成面に対向する反射面を有する反射体と
   を備え、
   上記導光体の上記各溝は、上記一方向を法線とする平面に対して傾斜する傾斜面を有し、
   上記光源からの光のうちの一部の光は、上記傾斜面で反射して上記反射面に到達すると共に、上記一部の光であって、上記反射面で反射した光の少なくとも一部は、上記導光体の上記光出射面に到達し、
   上記反射体の上記反射面は、上記光源からの光の一部であって上記溝の上記傾斜面で反射する光が到達可能な第１部分と、この第１部分に対して間隔をおいて位置すると共に、上記傾斜面以外の面から反射された光が入射する第２部分とを有し、
   上記第１部分の光の反射率は、上記第２部分の光の反射率と異なることを特徴とする光照射装置。
2. 光源と、
   光が出射される光出射面と、この光出射面に対向すると共に、一方向に互いに間隔をおいて位置する複数の溝が形成された溝形成面とを有する導光体と、
   上記光源からの光を上記導光体に案内する光学部材と、
   上記導光体の上記溝形成面に対向する反射面を有する反射体と
   を備え、
   上記導光体の上記各溝は、上記一方向を法線とする平面に対して傾斜する傾斜面を有し、
   上記光源からの光のうちの一部の光は、上記傾斜面で反射して上記反射面に到達すると共に、上記一部の光であって、上記反射面で反射した光の少なくとも一部は、上記導光体の上記光出射面に到達し、
   上記反射体の上記反射面は、上記光源からの光の一部であって上記溝の上記傾斜面で反射する光が到達可能な第１部分と、この第１部分に対して間隔をおいて位置すると共に、上記傾斜面以外の面から反射された光が入射する第２部分とを有し、
   上記第１部分の反射率は、上記第１部分に入射する光の入射角に基づいて変動する角度依存性を有すると共に、上記第２部分の反射率は、上記第２部分に入射する光の入射角に基づいて変動する角度依存性を有し、
   上記第１部分の反射率の角度依存性は、上記第２部分の反射率の角度依存性と異なることを特徴とする光照射装置。
3. 請求項１または２に記載の光照射装置において、
   上記光源からの光であって上記傾斜面で反射して上記反射面に向かう光の一部が、上記反射面に到達することを防止する防止部を備えることを特徴とする光照射装置。
4. 請求項１から３までのいずれか一項に記載の光照射装置において、
   上記反射面は、
   上記溝形成面において上記溝から間隔をおいて位置する部分との距離が、第１距離である第１距離部と、
   上記溝形成面において上記溝から間隔をおいて位置する部分との距離が、第１距離よりも大きい第２距離である第２距離部と
   を有することを特徴とする光照射装置。
5. 請求項１から４までのいずれか一項に記載の光照射装置において、
   上記光学部材は、上記光源からの光であって上記導光体に案内される光が上記導光体の上記光出射面に入射する際の最大の入射角が、上記光出射面の全反射の臨界角よりも大きくなるように、上記光源からの光の進路を制限し、
   上記溝の上記斜面が上記導光体の上記光出射面に対してなす角の角度および上記最大の入射角の角度で、上記光源からの光の一部であって上記溝の上記傾斜面と上記反射面で反射して上記光出射面に到達した光の照射範囲を制限することによって、上記光出射面から出射される光が上記光出射面の出射位置によらずより一様に近づくように照射することを特徴とする光照射装置。
6. 請求項１から５までのいずれか一項に記載の光照射装置と、
   上記導光体から出射される光の出射範囲内に位置すると共に、透明材料からなる測定物配置部材と、
   上記光源からの光であって上記導光体を経由して上記測定物配置部材に到達する光の波長毎の強度を変動させる光学フィルタと
   を備えることを特徴とする検査装置。

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