JP5171088B2 - レーザ表面改質装置及びその方法 - Google Patents
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Description
液体で覆われた被照射材料の表面に照射してアブレーションによりこの被照射材料の表面
層の改質を行うレーザ表面改質装置において、前記パルスレーザ光を発生させるレーザ発
振器と、前記液体が貯溜される貯蔵タンクと、前記液体が液体供給配管を経由して移送さ
れる液体移送ポンプと、この液体供給配管に介在し前記液体より粒子を除去する除去手段
と、前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記
除去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料
に噴射するレーザ照射装置と、を有し、前記液体として、酸素を含まない液体を用いるこ
とを特徴とするものである。
液体で覆われた被照射材料の表面に照射してアブレーションによりこの被照射材料の表面
層の改質を行うレーザ表面改質方法において、レーザ発振器により前記パルスレーザ光を
発生させるステップと、貯蔵タンクに前記液体が貯溜されるステップと、この貯溜された
液体より除去手段を介して粒子が除去されるステップと、前記レーザ発振器より伝達され
たパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除去手段により前記粒子が除去され
た液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に噴射するステップと、を有し、前
記液体が酸素を含まない液体であることを特徴とする。
ろ過器16によりろ過された液体6は、このレーザ照射装置10を介して被照射材料3上のレーザ照射点Aに噴射される。一方、レーザ発振器12で発生したパルスレーザ光1は、光ファイバ13を経由してレーザ照射装置10に伝送され、被照射材料3上のレーザ照射点Aに噴射される。
Claims (6)
- パルスレーザ光をレーザ光の波長に対して透明な液体で覆われた被照射材料の表面に照
射してアブレーションによりこの被照射材料の表面層の改質を行うレーザ表面改質装置に
おいて、
前記パルスレーザ光を発生させるレーザ発振器と、
前記液体が貯溜される貯蔵タンクと、
前記液体が液体供給配管を経由して移送される液体移送ポンプと、
この液体供給配管に介在し前記液体より粒子を除去する除去手段と、
前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除
去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に
噴射するレーザ照射装置と、を有し、
前記液体として、酸素を含まない液体を用いることを特徴とするレーザ表面改質装置。 - パルスレーザ光をレーザ光の波長に対して透明な液体で覆われた被照射材料の表面に照
射してアブレーションによりこの被照射材料の表面層の改質を行うレーザ表面改質装置に
おいて、
前記パルスレーザ光を発生させるレーザ発振器と、
前記液体が貯溜されこの液体の中に被照射材料が浸漬された施工槽と、
この液体が液体供給配管を経由して移送される液体移送ポンプと、
この液体供給配管に介在し前記液体より粒子を除去する除去手段と、
前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除
去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に
噴射するレーザ照射装置と、を有し、
前記液体として、酸素を含まない液体を用いることを特徴とするレーザ表面改質装置。 - パルスレーザ光をレーザ光の波長に対して透明な液体で覆われた被照射材料の表面に照
射してアブレーションによりこの被照射材料の表面層の改質を行うレーザ表面改質装置に
おいて、
前記パルスレーザ光を発生させるレーザ発振器と、
前記液体が貯溜される貯蔵タンクと、
前記液体が液体供給配管を経由して移送される液体移送ポンプと、
この液体供給配管に介在し前記液体より粒子を除去する除去手段と、
前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除
去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に
噴射するレーザ照射装置と、を有し、
前記液体として、液体窒素を用いることを特徴とするレーザ表面改質装置。 - パルスレーザ光をレーザ光の波長に対して透明な液体で覆われた被照射材料の表面に照
射してアブレーションによりこの被照射材料の表面層の改質を行うレーザ表面改質装置に
おいて、
前記パルスレーザ光を発生させるレーザ発振器と、
前記液体が貯溜されこの液体の中に被照射材料が浸漬された施工槽と、
この液体が液体供給配管を経由して移送される液体移送ポンプと、
この液体供給配管に介在し前記液体より粒子を除去する除去手段と、
前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除
去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に
噴射するレーザ照射装置と、を有し、
前記液体として、液体窒素を用いることを特徴とするレーザ表面改質装置。 - パルスレーザ光をレーザ光の波長に対して透明な液体で覆われた被照射材料の表面に照
射してアブレーションによりこの被照射材料の表面層の改質を行うレーザ表面改質方法に
おいて、
レーザ発振器により前記パルスレーザ光を発生させるステップと、
貯蔵タンクに前記液体が貯溜されるステップと、
この貯溜された液体より除去手段を介して粒子が除去されるステップと、
前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除
去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に
噴射するステップと、
を有し、前記液体が酸素を含まない液体であることを特徴とするレーザ表面改質方法。 - パルスレーザ光をレーザ光の波長に対して透明な液体で覆われた被照射材料の表面に照
射してアブレーションによりこの被照射材料の表面層の改質を行うレーザ表面改質方法に
おいて、
レーザ発振器により前記パルスレーザ光を発生させるステップと、
貯蔵タンクに前記液体が貯溜されるステップと、
この貯溜された液体より除去手段を介して粒子が除去されるステップと、
前記レーザ発振器より伝達されたパルスレーザ光を前記被照射材料に噴射しかつ前記除
去手段により前記粒子が除去された液体を前記パルスレーザ光と同軸に前記被照射材料に
噴射するステップと、
を有し、前記液体が液体窒素であることを特徴とするレーザ表面改質方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007086733A JP5171088B2 (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | レーザ表面改質装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007086733A JP5171088B2 (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | レーザ表面改質装置及びその方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008238260A JP2008238260A (ja) | 2008-10-09 |
JP5171088B2 true JP5171088B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=39910218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007086733A Active JP5171088B2 (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | レーザ表面改質装置及びその方法 |
Country Status (1)
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JPH11285868A (ja) * | 1998-04-01 | 1999-10-19 | Toshiba Corp | レーザ照射による部材の補修方法および装置およびこの装置に補修方法を実行させるプログラムを記録した媒体 |
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-
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- 2007-03-29 JP JP2007086733A patent/JP5171088B2/ja active Active
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---|---|
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