JP5159271B2 - 水処理装置 - Google Patents
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Description
本発明に係る水処理装置は、上水道の脱臭、殺菌、下水道の殺菌、脱色、産業排水の有機物分解、原子力発電所での除染工程水や、界面活性剤排水などの酸化処理を行う水処理装置に適用される。
図1は本発明の第1の実施形態に係る水処理装置の構成図である。
本水処理装置はオゾン発生器2、加圧過流ポンプ3、加圧配管4、圧力計5、反応槽7、及び反応槽7の下方に設けられた調圧部材(気泡破砕ノズル)6から構成される。
被処理水1とオゾン含有ガス2−1は、加圧過流ポンプ3にて吸引によって導入されることから、被処理水1とオゾン含有ガス2−1の高い供給圧を必要としないため、被処理水1とオゾン含有ガス2−1の加圧操作や他の加圧手段を必要としない。このため、反応原料の導入時の装置負荷を軽減した水処理が行える。
図2は、本発明の第2の実施形態に係る水処理装置の構成図である。
第1の実施形態に係る水処理装置において、オゾンマイクロバブルの気泡径が小さい場合は、気泡の反応槽7における気泡上昇速度が小さくエアリフト効果による攪拌機能が小さい。
図3は、本発明の第3の実施形態に係る水処理装置の構成図である。
反応槽7に導入されたオゾンマイクロバブルによる酸化作用は、溶解オゾンによる直接酸化の他に、難分解な有機物などを酸化処理するケースでは溶解オゾンから副生成するヒドロキシラジカルが作用する反応を用いる場合があり、前者が主体の場合は、高いオゾン溶解性を確保することが望ましいが、後者の場合、ヒドロキシラジカルとの反応速度が高い環境で、反応槽7を運用することが望ましい。
そのために、本第3の実施形態に係る水処理装置は反応槽7に、反応槽を取り巻く配管と温度制御装置からなる調温装置20を配備したものである。
図4は、本発明の第4の実施形態に係る水処理装置の構成図である。
図4に示された水処理装置が上記第2の実施形態に係る水処理装置(図2)と異なる点は、反応槽7の循環水配管経路に薬液注入装置30を設けたこと、及び同経路上の循環水調圧部材15の下流側に微細気泡破砕器31を配置したことである。
Claims (8)
- オゾン含有ガスを含んだ被処理水を少なくとも1つ以上の反応槽に導入し、前記反応槽において被処理水の少なくとも1種類以上の含有成分を酸化処理する水処理装置において、
オゾン発生器で生成したオゾン含有ガスと被処理水を吸引しオゾン含有ガスを粗破砕して反応槽へ送出する加圧過流ポンプと、前記反応槽の下方に設けられ前記加圧過流ポンプで粗破砕されたオゾン含有ガスを含む処理水が導入されるベンチュリー管又は旋回流式の気泡破砕ノズルからなる調圧部材と、前記加圧過流ポンプと前記調圧部材との間に設けられ前記オゾン含有ガスを含んだ被処理水の加圧を行う加圧配管と、
前記反応槽の貯水を循環させる少なくとも1つ以上の貯水循環経路と、前記貯水循環経路に設けられ、前記貯水とオゾン含有ガスを吸引し前記反応槽へ送出する循環加圧過流ポンプと、前記反応槽の下方に設けられたベンチュリー管又は旋回流式の気泡破砕ノズルからなる循環水調圧部材と、前記循環加圧過流ポンプと前記循環水調圧部材の間に設けられ前記オゾン含有ガスを含んだ貯水の加圧を行う循環加圧配管と、を具備し、
前記循環加圧過流ポンプに導入する前記オゾン含有ガスは、反応槽排ガス中に含まれるオゾン含有ガスであることを特徴とする水処理装置。 - 前記加圧配管は、水平に又は傾斜して配置されていることを特徴とする請求項1記載の水処理装置。
- 前記被処理水中に含まれる成分は、イオン分、無機物、有機物又は微生物であることを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記反応槽に2〜10%のオゾン含有ガスを含んだ被処理水を導入することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記少なくとも1つ以上の反応槽に調温機構を設けたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記被処理水は、原子力発電所の除染工程水又は界面活性剤含有の排水であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記反応槽にpH調整剤又は過酸化水素水からなる薬液を添加することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の水処理装置
- 前記循環水調圧部材の下流側に微細気泡破砕器を設けたことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の水処理装置。
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