JP5150387B2 - インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5150387B2 JP5150387B2 JP2008168630A JP2008168630A JP5150387B2 JP 5150387 B2 JP5150387 B2 JP 5150387B2 JP 2008168630 A JP2008168630 A JP 2008168630A JP 2008168630 A JP2008168630 A JP 2008168630A JP 5150387 B2 JP5150387 B2 JP 5150387B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- film forming
- forming apparatus
- substrate
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 112
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 81
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 71
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 29
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 8
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001149 41xx steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005435 FeTaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002918 Fraxinus excelsior Nutrition 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- -1 alumocarbon Chemical compound 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002956 ash Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910000938 samarium–cobalt magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
(1) 成膜処理を行う複数の成膜室と、
前記複数の成膜室内で成膜対象となる基板を縦置きで保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数の成膜室の間で順次搬送させる搬送機構とを備え、
前記搬送機構は、前記キャリアを非接触状態で駆動するリニアモータ駆動機構と、前記キャリアの側面部に接触可能に設けられて、前記リニアモータ駆動機構により駆動されるキャリアを水平方向にガイドする水平ガイド機構と、前記キャリアの下端部に接触可能に設けられて、前記リニアモータ駆動機構により駆動されるキャリアを鉛直方向にガイドする鉛直ガイド機構とを有し、
前記水平ガイド機構又は前記鉛直ガイド機構は、前記キャリアの搬送方向に並ぶ複数の支軸に制振部材を介して回転自在に取り付けられた複数のベアリングを有し、且つ、前記制振部材を介して前記支軸と前記ベアリングとの非接触状態が維持され、
前記制振部材がOリングであることを特徴とするインライン式成膜装置。
(2) 前記支軸と前記ベアリングとの接触を検知するセンサを有することを特徴とする前項(1)に記載のインライン式成膜装置。
(3) 前記鉛直ガイド機構を構成する複数のベアリングの1個当たりに加わる荷重が0N、又は前記キャリアが接触したベアリングの1個当たりに加わる荷重が9.8N以下であることを特徴とする前項(1)又は(2)に記載のインライン式成膜装置。
(4) 前記水平ガイド機構を構成する複数のベアリングのうち、前記キャリアが接触したベアリングの1個当たりに加わる荷重が98N以下であることを特徴とする前項(1)〜(3)の何れか一項に記載のインライン式成膜装置。
(5) 前記リニアモータ駆動機構は、前記キャリアの側面部に設けられた磁性体と、前記磁性体と対向する位置において前記キャリアの搬送方向に並ぶ複数の電磁石とを有して構成されていることを特徴とする前項(1)〜(4)の何れか一項に記載のインライン式成膜装置。
(6) 前記磁性体が永久磁石であることを特徴とする前項(5)に記載のインライン式成膜装置。
(7) 前項(1)〜(6)の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
本実施形態では、複数の成膜室の間で成膜対象となる基板を順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置を用いて、ハードディスク装置に搭載される磁気記録媒体を製造する場合を例に挙げて説明する。
2…基板供給ロボット室
3…基板カセット移載ロボット
3A…アッシング室
4、7、14、17…コーナー室
5、6、8〜13、15、16、18〜20…処理チャンバ
22…基板取り外しロボット室
23…第1成膜用基板
24…第2成膜用基板
25…キャリア
26…支持台
27…基板装着部
28…板体
29…円形状の貫通穴
30…支持部材
34…基板供給ロボット
49…基板取り外しロボット
52…基板取り付け室
54…基板取り外し室
80…非磁性基板
81…軟磁性層
82…中間層
83…記録磁性層
84…保護層
85…潤滑膜
810…磁性層
200…搬送機構
201…リニアモータ駆動機構
202…磁性体
203…電磁石
204…フレーム
205…電磁石カバー
206…水平ガイド機構
207…鉛直ガイド機構
208a,208b…サブフレーム
209…支軸
210…ベアリング
211…支軸
212…ベアリング
213…制振部材
217…センサ
217a…モニター用端子
223…センサ
224a,224b…モニター用端子
Claims (7)
- 成膜処理を行う複数の成膜室と、
前記複数の成膜室内で成膜対象となる基板を縦置きで保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数の成膜室の間で順次搬送させる搬送機構とを備え、
前記搬送機構は、前記キャリアを非接触状態で駆動するリニアモータ駆動機構と、前記キャリアの側面部に接触可能に設けられて、前記リニアモータ駆動機構により駆動されるキャリアを水平方向にガイドする水平ガイド機構と、前記キャリアの下端部に接触可能に設けられて、前記リニアモータ駆動機構により駆動されるキャリアを鉛直方向にガイドする鉛直ガイド機構とを有し、
前記水平ガイド機構又は前記鉛直ガイド機構は、前記キャリアの搬送方向に並ぶ複数の支軸に制振部材を介して回転自在に取り付けられた複数のベアリングを有し、且つ、前記制振部材を介して前記支軸と前記ベアリングとの非接触状態が維持され、
前記制振部材がOリングであることを特徴とするインライン式成膜装置。 - 前記支軸と前記ベアリングとの接触を検知するセンサを有することを特徴とする請求項1に記載のインライン式成膜装置。
- 前記鉛直ガイド機構を構成する複数のベアリングの1個当たりに加わる荷重が0N、又は前記キャリアが接触したベアリングの1個当たりに加わる荷重が9.8N以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のインライン式成膜装置。
- 前記水平ガイド機構を構成する複数のベアリングのうち、前記キャリアが接触したベアリングの1個当たりに加わる荷重が98N以下であることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のインライン式成膜装置。
- 前記リニアモータ駆動機構は、前記キャリアの側面部に設けられた磁性体と、前記磁性体と対向する位置において前記キャリアの搬送方向に並ぶ複数の電磁石とを有して構成されていることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のインライン式成膜装置。
- 前記磁性体が永久磁石であることを特徴とする請求項5に記載のインライン式成膜装置。
- 請求項1〜6の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008168630A JP5150387B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
US12/491,887 US8414968B2 (en) | 2008-06-27 | 2009-06-25 | In-line film forming apparatus and manufacturing method of magnetic recording medium |
SG200904377-9A SG153869A1 (en) | 2008-06-27 | 2009-06-25 | In-line film forming apparatus and manufacturing method of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008168630A JP5150387B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010007139A JP2010007139A (ja) | 2010-01-14 |
JP5150387B2 true JP5150387B2 (ja) | 2013-02-20 |
Family
ID=40901951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008168630A Active JP5150387B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8414968B2 (ja) |
JP (1) | JP5150387B2 (ja) |
SG (1) | SG153869A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5717439B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2015-05-13 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置及び真空処理装置 |
KR20130049080A (ko) * | 2011-11-03 | 2013-05-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 회전식 박막 증착 장치 및 그것을 이용한 박막 증착 방법 |
SG11201403609QA (en) * | 2011-12-27 | 2014-07-30 | Intevac Inc | System architecture for combined static and pass-by processing |
KR20150052996A (ko) * | 2013-11-07 | 2015-05-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 장치 |
JP7307329B2 (ja) * | 2019-08-20 | 2023-07-12 | 澁谷工業株式会社 | キャリア搬送装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5207513A (en) * | 1990-11-30 | 1993-05-04 | Ntn Corporation | Rolling bearing with solid lubricant |
JP2555059Y2 (ja) * | 1991-08-09 | 1997-11-19 | 日新電機株式会社 | イオン注入装置 |
JP3732250B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2006-01-05 | キヤノンアネルバ株式会社 | インライン式成膜装置 |
JPH08335620A (ja) | 1995-06-06 | 1996-12-17 | Nikon Corp | 偏平物体の自動搬送装置 |
CH691680A5 (de) * | 1996-10-15 | 2001-09-14 | Unaxis Deutschland Gmbh | Transportvorrichtung für Werkstücke in einer Vakuumanlage. |
US6517691B1 (en) | 1998-08-20 | 2003-02-11 | Intevac, Inc. | Substrate processing system |
JP2000337391A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-05 | Minebea Co Ltd | 軸受装置 |
JP4222589B2 (ja) | 2001-03-26 | 2009-02-12 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置及びそれを用いた基板処理装置 |
WO2006026886A1 (en) | 2004-09-10 | 2006-03-16 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Substrate processing system |
JP2007270188A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Hoya Corp | 成膜装置 |
US20080063330A1 (en) * | 2006-09-07 | 2008-03-13 | Orlowski David C | Bearing monitoring method |
WO2009107740A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造装置および製造方法 |
-
2008
- 2008-06-27 JP JP2008168630A patent/JP5150387B2/ja active Active
-
2009
- 2009-06-25 SG SG200904377-9A patent/SG153869A1/en unknown
- 2009-06-25 US US12/491,887 patent/US8414968B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG153869A1 (en) | 2009-07-29 |
JP2010007139A (ja) | 2010-01-14 |
US8414968B2 (en) | 2013-04-09 |
US20090324813A1 (en) | 2009-12-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2011074415A1 (ja) | インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法、及びゲートバルブ | |
JP5150387B2 (ja) | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5566669B2 (ja) | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2010113771A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
JP5427572B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置、インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法 | |
WO2009139381A1 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 | |
JP5264549B2 (ja) | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2010092523A (ja) | インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法、及びゲートバルブ | |
WO2009107740A1 (ja) | 磁気記録媒体の製造装置および製造方法 | |
JP6188224B2 (ja) | 炭素膜の形成装置、炭素膜の形成方法、及び、磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2011231347A (ja) | 無電解めっき装置及び磁気回転伝動機構 | |
JP5318434B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造装置および製造方法 | |
JP2013175277A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置および製造方法 | |
JP5248141B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造装置および製造方法 | |
JP4979650B2 (ja) | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5364455B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置及びインライン式成膜装置 | |
JP5328462B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置、インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2015117400A (ja) | 炭素膜の形成装置、炭素膜の形成方法、及び、磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2010020841A (ja) | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2010257515A (ja) | マグネトロンスパッタ装置、インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置 | |
JP2011023086A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
JP2011065715A (ja) | 炭素膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2010088970A (ja) | 処理装置、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP2010192056A (ja) | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2011065714A (ja) | 炭素膜の形成方法、磁気記録媒体の製造方法、及び炭素膜の形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120703 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120911 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121010 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5150387 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |