JP5143151B2 - 研磨加工方法 - Google Patents
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Description
図1に示すように、バックパッド1は、ポリウレタン樹脂で形成された軟質プラスチックシートとしてのポリウレタンシート4を備えている。ポリウレタンシート4は、被研磨物に当接する保持面P側に、図示しない緻密な微多孔が形成されたスキン層4aを有しており、スキン層4aの保持面Pと反対側(内側)には、ナップ層4b(発泡層)を有している。ナップ層4bには、ポリウレタンシート4の厚さ方向に沿って丸みを帯びた断面略三角状の発泡3が連続して形成されている。発泡3の空間体積は、スキン層4aに形成された図示しない微多孔より大きく、保持面P側の大きさが保持面Pの反対面側より小さく形成されている。発泡3は、該発泡3の空間体積の平均直径より小さい図示を省略した連通孔で立体網目状に連通している。ポリウレタンシート4は、保持面Pの反対面側が、ポリウレタンシート4の厚さ(図1の縦方向の長さ)がほぼ一様となるようにバフ処理されている(詳細後述)。このため、発泡3の一部が反対面側の表面で開口している。
バックパッド1は、図2に示す各工程を経て製造される。まず、準備工程では、ポリウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂を溶解可能な水混和性の有機溶媒のN,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略記する。)、添加剤及び孔形成剤を混合してポリウレタン樹脂を溶解させる。ポリウレタン樹脂には、100%モジュラスが20MPa以下のポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系等の樹脂から選択して用い、例えば、ポリウレタン樹脂が30%となるようにDMFに溶解させる。添加剤としては、発泡3の大きさや量(個数)を制御するため、カーボンブラック等の顔料、発泡を促進させる親水性活性剤及びポリウレタン樹脂の凝固再生を安定化させる疎水性活性剤等を用いることができる。
次に、本実施形態のバックパッド1を用いた研磨加工の作用等について説明する。
実施例1では、ポリウレタン樹脂として、100%モジュラスが10MPaのポリエステルMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)ポリウレタン樹脂を用いた。セルロース誘導体としてセルロースアセテートブチレートを、ポリウレタン樹脂を30%含むDMF溶液100部に対して0.2部添加した。更に、粘度調整用のDMFの50部、顔料のカーボンブラックを30%含むDMF分散液の20部を混合してポリウレタン樹脂溶液45を調製した。このとき、セルロースアセテートブチレートは固形物(固体)であるので、均一に混合させるために予め少量の粘度調整用のDMFで溶解して添加した。ポリウレタン樹脂溶液45を塗布する際に塗布装置のクリアランスを1mmに設定した。洗浄工程での洗浄効果を高めるために凝固再生後の洗浄を温水で行った。ポリウレタンシート4のバフ処理量を0.25mmとしてバフ番手♯180のサンドペーパーを用いてバフ処理し実施例1のバックパッド1を製造した。
実施例2では、セルロースアセテートブチレートの添加量をポリウレタン樹脂のDMF溶液100部に対して2.0部とする以外は実施例1と同様にした。
比較例1では、セルロース誘導体を添加しない以外は実施例1と同様にして比較例1のバックパッドを製造した。
次に、実施例及び比較例のバックパッドについて、多孔2の孔径をスキン層4a表面の電子顕微鏡観察により測定し平均孔径を算出した。エア貯留の有無は、以下の方法で測定した。図6(A)、(B)に示すように、直径660mmに裁断したバックパッド1を表面が略平坦な定盤81に貼着し、バックパッド1の表面(保持面P)に水を霧吹きで吹き付けた後、表面の水をワイパで軽く除く。次に、バックパッド1上に縦370mm×横470mm×厚さ0.7mmのガラス板82を置き、ガラス板82に80g/cm2の荷重がかかるようにおもり83を載せる。おもり83を載せてから1分後及び5分後におもり83を取り除き、エア貯留の有無を目視にて判定した。平均孔径及びエア貯留の有無の測定結果を下表1に示した。
1 バックパッド
2 多孔
3 発泡
4 ポリウレタンシート(軟質プラスチックシート)
4a スキン層
4b ナップ層(発泡層)
71 加圧定盤(第1の定盤)
72 回転定盤(第2の定盤)
78 被研磨物
Claims (5)
- 一面側に配されたスキン層と、前記スキン層より内側に配され発泡が連続して形成された発泡層とを有し、他面側が第1の定盤に固着され前記一面側に被研磨物を当接させて前記第1の定盤に前記被研磨物を保持するための軟質プラスチックシートを用いて前記被研磨物を研磨加工する研磨加工方法であって、
前記被研磨物との間に咬み込まれたエアの入り込みを許容し0.05mm以下の孔径を有する多孔が前記軟質プラスチックシート作製用の軟質プラスチック溶液に添加された孔形成剤により前記スキン層の表面に形成され、該多孔が前記発泡層に形成された発泡と連通した軟質プラスチックシートと、前記発泡層側に支持層を介して貼り合わされた両面テープとを備えたバックパッドを、前記発泡層側に貼り合わされた両面粘着テープで前記第1の定盤に装着する装着ステップと、
前記装着ステップで装着されたバックパッドを構成する軟質プラスチックシートの前記スキン層側に水を介して前記被研磨物の一面側を当接させ、該被研磨物を前記第1の定盤側に押圧し保持させる保持ステップと、
前記保持ステップで保持された被研磨物の他面側を、前記第1の定盤と対向配置された第2の定盤に装着された研磨パッドにより、加圧しながら研磨加工する研磨加工ステップと、
を含むことを特徴とする研磨加工方法。 - 前記保持ステップにおいて、前記スキン層および前記被研磨物間に咬み込まれたエアが前記発泡層に形成された発泡内に収容されるように前記被研磨物を押圧することを特徴とする請求項1に記載の研磨加工方法。
- 前記軟質プラスチックシートは、前記発泡層側が、前記軟質プラスチックシートの厚さがほぼ一様となるようにバフ処理されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨加工方法。
- 前記孔形成剤は、前記軟質プラスチック溶液に可溶性であり、水に難溶性又は不溶性であることを特徴とする請求項1に記載の研磨加工方法。
- 前記被研磨物は、液晶ディスプレイ用ガラス基板であることを特徴とする請求項1に記載の研磨加工方法。
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