JP5134634B2 - 気体脱臭用の装置及び方法 - Google Patents
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Description
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本明細書においては、用語「ディスパージョン(dispersion)」は、すぐには一緒に混合及び溶解しない少なくとも二つの区別可能な物質(又は「相」)を含む液化混合物を指す。本明細書においては、「ディスパージョン」は「連続的な(continuous)」相(又は「基質」)を含み、それはその中に他の相又は物質の不連続な液滴、気泡、及び/又は粒子を保持する。したがって用語ディスパージョンは、連続する液相に懸濁された気泡を含む泡、第一の液体が混合しない第二の液体を含む連続相全体に第一の液体の液滴が分散されているエマルジョン、及び全体に固体粒子が分散された連続する液相を指すことができる。本明細書において用語「ディスパージョン」は、全体に気泡が分散された連続する液相、全体に固体粒子(例えば固形触媒)が分散された連続する液相、連続相にほぼ溶解しない第二の液体の液滴が全体に分散された第一の液体の連続相、並びに固体粒子、非混和性液体の液滴、及び気泡の一つ又は組み合わせが全体に分散された液相を包含する。それ故、ディスパージョンはいくつかの場合においては均一な混合物(例えば液相/液相)として、又は組み合わせに選択された物質の性質に応じた不均一な混合物(例えば気体/液体、固体/液体、又は気体/固体/液体)として存在することができる。
液体、気体及び固体を含む化学反応の速度は、接触時間、温度及び圧力に依存する。異なる相(例えば、固体及び液体;液体及び気体;固体、液体及び気体)の二つ以上の原材料を反応させたい場合、反応速度を制御する律速因子の一つは反応物の接触時間を含む。不均一に触媒された反応の場合、触媒の表面から反応生成物を除去することで触媒が更なる反応物に触媒作用を及ぼすことを可能にするという別の速度の律速因子が存在する。多くの場合、反応物及び/又は触媒の接触時間は、化学反応に関与する二つ以上の反応物を接触させる混合によって制御されている。
高剪断気体脱臭装置が、硫化水素を含有する気体ストリームから硫化水素を除去するための高剪断装置1の一実施形態の工程図である図1に関連して説明される。高剪断硫黄除去装置1は、変換装置(吸収装置)、高剪断装置/酸化装置、酸化装置/硫黄分離、及び硫黄処理の四つのプロセスゾーンを有すると考えることができる。液体還元酸化脱硫用の代表的な高剪断装置の基本的な構成要素には、変換装置30、外部高剪断装置(HSD)40、容器10、及びポンプ5が含まれる。図1に示されるように、高剪断装置40は容器/反応機10の外側に配置されている。これらの各構成要素は以下においてより詳細に更に説明される。ライン25は硫化水素を含有する気体を変換装置30へと導入する。いくつかの応用において、高剪断ガス脱臭装置1は、例えばノックアウトポット24などの酸性ガス供給ストリームの前処理をさらに有する。ノックアウトポット24は、酸性ガスが高剪断ガス脱臭装置1に供給される導入ライン23を介して供給可能である。ライン25はノックアウトポット24を変換装置30に接続可能である。
変換装置30は、酸性ガスが均一な液体触媒溶液と接触される接触器を有する。変換装置30は吸収装置とも呼ばれる。ある実施形態においては、硫黄原子を生成するために硫化水素の酸化に適した任意の液体還元酸化触媒が使用される。例えば、これらにはキレート鉄又は他の有機金属を含む触媒が含まれる。ある実施形態においては、脱硫反応は触媒試薬としてキレート鉄を用いて水相中で行われる。キレート試薬は、二つ以上の非鉄原子と鉄原子との間に化学結合を形成するよう鉄イオンの周囲を爪のように取り囲む有機化合物である。一般に装置は、弱アルカリ性の液体触媒溶液へのH2Sの良好な吸収を保証するために弱アルカリのpH範囲で作動される。好適な触媒は、ガス テクノロジー プロダクツ エルエルシーのLoCAT溶液である。均一な液体触媒溶液21は、ポンプ5及び変換装置の導入ライン12を介して変換装置30へと導入可能である。ある実施形態において、液体触媒溶液は変換装置30を通って酸性ガスフローへと逆流して流れる。ある実施形態においては、変換装置30は分散吸収装置である。そのような実施形態においては、ライン25からの酸性ガスは変換装置30内へと分散される。酸性ガス中の硫化水素は触媒との反応によって酸化されることで硫黄原子を形成し、触媒は還元される。触媒は、例えば分散によって生じるリフトによって変換装置30を通って循環される。硫化水素が除去された処理済の気体は、ライン35を介して変換装置30から出る。硫黄原子及び還元状態の触媒を含む変換装置液体生成物は、ライン13を通って変換装置30から出る。
高剪断装置又は高剪断混合装置とも時に呼ばれる外部高剪断装置(HSD)40は、変換装置液体生成物及び酸化剤を含む導入ストリームをライン13を介して受容するよう構成されている。酸化剤は、HSD40の上流にあるライン13へと酸化剤を注入可能な分散性ガスライン22を介して高剪断装置40へと導入される。若しくは、HSD40は分離導入ライン(図示しない)を介して液体及び酸化剤反応物ストリームを受容するよう構成可能である。図1には一つの高剪断装置のみが示されているが、装置のいくつかの実施形態は、直列又は並列の流れに配置された二つ以上の高剪断混合装置を有することが可能であることが理解されるべきである。HSD40は、ロータ/固定子の組み合わせを備える一つ以上の生成機を利用する機械装置であり、前記生成機のそれぞれが固定子とロータとの間に隙間を有している。それぞれの生成機セットにおけるロータと固定子との間の隙間は固定されていても良いし、調整可能であってもよい。HSD40は、装置を通って流れる反応混合物中にサブミクロン及びミクロンサイズの気泡を生成することができるように構成されている。高剪断装置はエンクロージャ又はハウジングを有することによって、反応混合物の圧力及び温度が制御可能である。
容器又は酸化装置10は、硫黄生成物のスラリーがそこから分離可能であり且つ均一な触媒の酸化を内部で広めることができるあらゆる種類の容器である。例えば、連続的若しくは半連続的な攪拌タンク反応装置、又は一つ以上のバッチ式反応装置が直列又は並列に使用可能である。ある使用においては、容器10は酸化装置である。酸化剤は、送風機90及びライン15を介して任意の二次空気源から容器10へと導入可能である。酸化剤は、硫黄スラリーが沈殿する容器の底部の上に容器10の断面を描く(line)分散装置を介して導入することができる。硫黄スラリーは容器の円錐型の底部から除去することができる。容器10への多数の導入ラインが想定されており、図1に三つが示されている(ライン14、15及び52)。導入ライン14は、硫黄沈殿槽60に連結されており且つ硫黄スラリー生成物から分離された液体触媒溶液を容器10に戻すように設計された導入ラインであってもよい。導入ライン15は、送風機90を介して任意の二次空気を提供するように利用することができる。ライン52はライン51におけるポンプ50の排出口を容器10に連結できる。容器10は換気ガス用の流出ライン17と、液体溶液中に硫黄のスラリーを含有する生成物ストリーム用の生成物排出ラインとを有することが可能である。ある実施形態において、容器10は複数の反応装置生成物ライン16を有する。ライン21は容器/酸化装置10をポンプ5及びライン12を介して変換装置30に接続することができる。
また、前述の容器10の加熱/冷却機能に加えて、処理ストリームを加熱又は冷却するための他の外部又は内部熱伝達装置が図1に図示される実施形態の変形において想定されている。例えば、希望に応じて、当業者に周知の方法によって熱は容器10へと加えるか、又は容器10から取り除くことができる。また、外部加熱及び/又は冷却熱伝達装置の使用も想定される。一つ以上のそのような熱伝達装置に適したいくつかの場所は、ポンプ5と変換装置30との間、HSD40と容器10との間、及び容器10とポンプ5との間である。そのような熱伝達装置のいくつかの非限定的な例は、当業者に周知である殻、管、板、及びコイル状の熱交換機である。
ポンプ5は、連続又は半連続稼動するよう構成されており、202.65kPa(2気圧)より大きい圧力、好ましくは303.975kPa(3気圧)より大きな圧力を提供可能であることによって、HSD40及び装置1を通る流れの制御を可能にする任意の適切なポンプ装置であってもよい。例えば、ローパーポンプカンパニー(Roper Pump Company)(ジョージア州コマース(Commerce Georgia))のローパー1型ギアポンプ(Roper Type 1 gear pump)、又はデイトン エレクトリック カンパニー(Dayton Electric Co)(イリノイ州ナイルズ(Niles, IL))のデイトン プレッシャー ブースター ポンプ(Dayton Pressure Booster Pump)モデル2P372Eは一つの好適なポンプである。ポンプの全ての接触部品はステンレス鋼、例えば316ステンレス鋼であることが好ましい。装置のある実施形態においては、ポンプ5は約2026.5kPa(20気圧)より大きな圧力とすることができる。ポンプ5に加えて、一つ以上の追加高圧ポンプ(図示しない)が図1に示される装置に含まれてもよい。例えば、ポンプ5に類似のブースターポンプが、容器10への圧力を高めるためにHSD40と容器10との間に含まれていてもよい。他の例として、ポンプ5に類似の追加供給ポンプが容器10に追加の反応物又は触媒を導入するために含まれていてもよい。さらに別の実施例として、コンプレッサ型のポンプが、容器10からHSD40にガスを循環させるためにライン17とHSD40との間に配置されていても良い。沈殿槽ポンプ50は、容器10から硫黄スラリーを取り出すのに適したいかなるポンプであっても良い。
図3は、高剪断ガス脱臭法における工程を示したボックス図である。ブロック400において、H2Sは液相触媒の還元に合わせて硫黄原子へと変換される。ブロック500において、鉄触媒の酸化剤(例えば、O2、空気、富化空気)との高剪断混合は液体還元酸化触媒を含む液体中に酸化剤のディスパージョンを生成する。ブロック600において、鉄触媒の増進された酸化が、容器10内、HSD40内、又はライン18、任意のベンチャースパージャ45、及び/又はライン19において起こる。ブロック700において、H2S変換装置30への再生された(酸化された)触媒溶液の回帰は、ライン21、ポンプ5及びライン12を介して起こる。ブロック800において、硫黄原子の回収及び硫黄回収ユニット(例えば、硫黄沈殿槽60)から酸化装置10への回収された触媒溶液の循環が示されている。
H2S(g)+1/2O2(g)⇔H2O+S゜ (1)
である。ライン25内の酸性ガスストリームは、ガスストリームを含有する任意の硫化水素又は硫黄であり、例えば、ライン25内の酸性ガスストリームは空気、天然ガス、二酸化炭素、アミノ酸ガス、埋立地ガス、合成ガス、地熱ガス、バイオガス、製油所ガス又はそれらの任意の組み合わせを含んでもよい。ライン23内の酸性ガスストリームは当業者に周知のように前処理されてもよい。例えば図1において、ライン23内の酸性ガスストリームはノックアウトポット24を通される。ノックアウトポット24から出たライン25内の硫化水素含有ガスストリームは、変換装置30へと送られる。変換装置30内において、H2Sは硫黄原子へと変換される。ライン35内の処理された(すなわち、脱臭された)ガスストリームは更なる処理又は利用のために輸送される(図示しない)。ある実施形態においては、高剪断ガス脱臭装置1は、99%を超えて酸性ガスから硫化水素を除去する効果がある。ある実施形態においては、高剪断ガス脱臭装置1は99.9%を超えて酸性ガスから硫化水素を除去する効果がある。
H2S(g)+H2O(l)⇔H2S(l)+H2O (2)
と表される。
H2S(l)⇔H++HS− (3)
の反応によって表される。
HS−+2Fe3+→S゜(s)+2Fe2++H+ (4)
と表される。
H2S(g)+2Fe3+→2H++S゜+2Fe2+ (5)
である。
1/2O2(g)+H2O(l)⇔1/2O2(l)+H2O (6)
で表される。
1/2O2(l)+H2O+2Fe2+→2OH−+2Fe3+ (7)
に従う。
1/2O2(g)+H2O+2Fe2+→2OH−+2Fe3+ (8)
である。
ある実施形態においては、HSD40のような又は異なる構成をされた二つ以上の高剪断装置が一列に並べられており、反応を更に促進するために使用される。それらの作動はバッチ又は連続モードのいずれであっても良い。一度の通過又は「ワンススルー(once through)法が望まれる場合、一列に並んだ複数の高剪断装置の使用が有益であろう。例えばある実施形態においては、ライン18内の排出ディスパージョンは第二の高剪断装置へと供給可能である。複数の高剪断装置40が連続して作動されると、追加の酸化剤ガスが各高剪断装置の導入供給ストリームへと注入可能である。ある実施形態においては、複数の高剪断装置40が並列に作動され、そこからの排出ディスパージョンが一つ又は複数の容器10へと導入される。
HSD40によって促進された反応物の混合の利用は、液体触媒の効率的な再生を実現する可能性がある。ある実施形態において、促進された混合は方法のストリームの生成量の増加を促す。ある実施形態においては、高剪断混合装置は従来の方法に導入され、それによって生産の向上(すなわち、より多くの生産量)を実現できる。大容量酸化装置によって再生を向上するよう試みる方法とは対照的に、外部高剪断混合による優れた分散及び接触は、脱硫速度を維持又はさらに向上する一方で、多くの場合においてサイズ及び/又は容器10内の滞留時間を減少可能である。特別な理論に限定されることなく、高剪断混合のレベル又は程度は物質移動速度を向上させるのに十分であり、反応を起こすことができる局所的な理想的でない条件であって、そうでなければギブス自由エネルギーの予測に基づいて起こることが予測できないであろう条件を同様に生じると考えられる。局所的な理想的でない条件は高剪断装置内で生じると考えられ、局所的な圧力中において最も顕著に増加すると考えられる温度及び圧力の上昇をもたらす。高剪断装置内における圧力及び温度の上昇は、瞬間的及び局所的であり、高剪断装置から出ると、大部分の条件又は平均的な装置の条件へと急速に戻る。ある場合には、高剪断混合装置は一つ以上の反応物をフリーラジカルへと分離させるのに十分な強度のキャビテーションを誘導することができ、前記フリーラジカルは化学反応を促進するか、別の場合に求められるであろう条件よりもより厳しくない条件で反応が起こるようにできる。また、キャビテーションは、局所的な乱流及び液体のマイクロ循環(音響流)を生じることによって、輸送段階の速度を向上できる。化学/物理的な処理用途におけるキャビテーション現象の使用の概要は、ゴゲイト(Gogate)らの「Cavitation: A technology on the horizon」 Current Science 91、No.1、35−46、2006年によって提供されている。本システム及び方法のある実施形態における高剪断混合装置はキャビテーションを起こし、それによって酸化剤と還元状態の液体触媒とがフリーラジカルへと分離し、それはその後に反応して触媒を再生する。
Claims (12)
- 硫化水素を包含する酸性ガスストリームから硫化水素を除去する方法であって、
酸性ガスストリームを水性触媒溶液と接触させることによって、変換装置内の硫化水素を酸化し、それによって脱硫ガスストリームと、還元状態の触媒及び硫黄原子を含む液体ストリームとを生成する段階、
酸化剤と、還元状態の触媒及び硫黄原子を含む液体ストリームとを高剪断装置に導入してディスパージョンを生成する段階、
硫黄含有スラリーが除去され且つ再生触媒ストリームが除去される容器へとディスパージョンを導入する段階、及び
再生触媒ストリームの少なくとも一部を変換装置へと循環する段階
を有し、ディスパージョン中の酸化剤ガスの気泡の平均直径は5μm未満であり、硫黄含有スラリーは硫黄原子及び水性液体を含む方法。 - 硫黄含有スラリーから水性溶液の少なくとも一部を除去する段階と、回収された水性溶液の少なくとも一部を容器へと循環する段階とを更に有する請求項1の方法。
- 酸性ガスから硫化水素を除去する方法であって、
変換装置において酸化触媒を含む液体に酸性ガスを接触させて硫化水素ガスを酸化することによって、硫黄及び還元状態の触媒を含有する変換装置液体生成物ストリームを生成する段階、
変換装置液体生成物ストリーム及び酸化剤ガスを含む流体混合物を形成する段階、
流体混合物を少なくとも20,000s-1の剪断速度で処理することによって、液体の連続相中に酸化剤ガスの気泡のディスパージョンを生成する段階、及び
硫黄スラリーが除去され且つ再生酸化液体触媒を含む液体ストリームが変換装置へと循環される容器へとディスパージョンを導入する段階
を有する方法。 - スラリー中の水性液体が硫黄から除去される分離装置に硫黄スラリーを導入する段階、及び
スラリーから除去された水性液体を容器に循環する段階
を有する請求項3の方法。 - ディスパージョン中の酸化剤ガスの気泡の平均直径が1μm未満である請求項3の方法。
- 流体混合物を少なくとも20,000s-1の剪断速度で処理することが、少なくとも二つの生成機を有する高剪断装置へと流体を導入することを含む請求項3の方法。
- 酸性ガスストリームから硫化水素を除去する装置であって、
酸性ガス用の導入口と、酸化触媒を含む液体ストリーム用の導入口と、硫黄及び還元状態の液体触媒を含む変換装置液体生成物用の排出ラインとを有する変換装置、
酸化剤を排出ラインに導入可能な分散性ガス導入口、
分散性ガス導入口の下流に位置する外部高剪断装置であって、変換装置排出ラインに流体連通する導入口と、高剪断装置排出口とを有する外部高剪断装置、
高剪断装置排出口と流体連通する酸化装置、及び
酸化装置と変換装置の液体ストリーム用導入ラインとを流体接続し且つ再生酸化触媒が変換装置へと循環可能にする循環ライン
を有する装置。 - 外部高剪断装置はロータ及び固定子を備える少なくとも一つの生成機セットを有する歯付きリムの分散装置を有し、ロータ及び固定子はロータ及び固定子の間に微小隙間として規定される剪断間隙幅を有し、ロータは先端速度で回転可能であるため、剪断間隙幅によって分離される先端速度として規定される剪断速度は少なくとも100,000s-1である請求項7の装置。
- 外部高剪断装置は20.3m/s(4000ft/分)を超える先端速度を有する請求項8の装置。
- 外部高剪断装置は水性触媒溶液中に酸化剤の気泡のディスパージョンを生成することができ、酸化剤の気泡はサブマイクロメートル(1/10μm)スケールの気泡の平均直径を有する請求項7の装置。
- 少なくとも二つの高剪断装置を有する請求項7の装置。
- 外部高剪断装置は少なくとも二つの生成機を有しており、一つの生成機の剪断速度は別の生成機の剪断速度より大きい請求項7の装置。
Applications Claiming Priority (3)
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Publications (2)
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