JP5121521B2 - セラミックス被覆グラファイトおよびその製造方法 - Google Patents
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図1〜図3は、本発明の実施形態1を説明するものであって、図1はセラミックス被覆グラファイトの模式的な断面図であり、図2は当該セラミックス被覆グラファイトに含まれている、グラファイトの一例としてのグラファイト構造体の製造フロー図であり、図3は実施の形態1のセラミックス被覆グラファイトの製造フロー図である。
(CH3)3−n
| (1)
n・a−Si−r−b
ここで、nは1〜3の整数であり、aは炭素数が1〜12のアルコキシ基、クロル基、アセトキシ基、イソプロペキシ基、アミノ基からなる群から選ばれた1種であり、rは炭素数が1〜10のアルキル基、bはアミノ基である。
CaF2、K2SiF6、MoO3、CeO2、Co3O4、As2O3、NaF、SiF4、LF3、AlF3、Na2SiF6、NiO、CuO、ZnO、PbO、MnO2、Cr2O3、Fe2O3のなどの化合物類が例示される。上記の無機物類中から選ばれた2種以上の組合わせ物をセラミックス前駆体と称し、以下において好ましいセラミックス前駆体を例示する。
MgO:5.2%、CaO:7.3%、Na2O:16.6%、B2O3:35.3%、Al2O3:2.1%およびSiO2:33.6%からなるもの、
MgO:5.0%、CaO:6.9%、Na2O:15.9%、B2O3:33.7%、Al2O3:4.0%およびSiO2:34.5%からなるもの、
MgO:5.3%、CaO:7.4%、Na2O:17.0%、B2O3:36.1%、Al2O3:1.1%およびSiO2:33.1%からなるもの、
MgO:4.4%、CaO:6.1%、Na2O:14.0%、B2O3:29.8%、Al2O3:8.8%およびSiO2:36.8%からなるもの、
MgO:4.0%、CaO:5.6%、Na2O:12.7%、B2O3:27.0%、Al2O3:12.3%、およびSiO2:38.4%からなるもの、
MgO:2.0%、CaO:8.8%、Na2O:10.1%、B2O3:21.4%、Al2O3:12.4%、およびSiO2:45.2%からなるもの、
MgO:3.6%、CaO:8.4%、Na2O:9.6%、B2O3:20.4%、Al2O3:13.2%およびSiO2:44.8%からなるもの、
MgO:5.2%、CaO:8.0%、Na2O:9.1%、B2O3:19.4%、Al2O3:14.1%、およびSiO2:44.2%からなるもの、
MgO:4.9%、CaO:7.4%、Na2O:8.5%、B2O3:17.9%、Al2O3:14.1%、およびSiO2:47.3%からなるもの、および
MgO:4.4%、CaO:6.7%、Na2O:7.9%、B2O3:16.3%、Al2O3:14.1%およびSiO2:50.5%からなるもの、
などの、MgO、CaO、Na2O、B2O3、Al2O3、およびSiO2からなるもの、などである。
、B2O3:15.3%、Al2O3:14.1%およびSiO2:52.5%からなるもの、
MgO:3.7%、CaO:5.7%、Na2O:6.5%、K2O:0.5%、B2O
3:13.7%、Al2O3:14.1%およびSiO2:55.8%からなるもの、
MgO:4.1%、CaO:6.7%、Na2O:5.8%、K2O:1.1%、B2O
3:12.3%、Al2O3:17.6%およびSiO2:52.4%からなるもの、
MgO:3.6%、CaO:6.7%、Na2O:5.1%、K2O:1.6%、B2O
3:10.9%、Al2O3:17.0%およびSiO2:55.0%からなるもの、
MgO:3.3%、CaO:6.8%、Na2O:4.7%、K2O:1.9%、B2O
3:9.9%、Al2O3:16.6%、およびSiO2:56.8%からなるもの、
MgO:2.9%、CaO:6.8%、Na2O:4.2%、K2O:2.2%、B2O
3:8.8%、Al2O3:16.2%およびSiO2:58.9%からなるもの、
MgO:2.4%、CaO:6.8%、Na2O:3.5%、K2O:2.7%、B2O
3:7.4%、Al2O3:15.6%およびSiO2:61.6%からなるもの、
MgO:2.1%、CaO:6.9%、Na2O:2.9%、K2O:3.0%、B2O
3:6.2%、Al2O3:15.1%、およびSiO2:63.7%からなるもの、
MgO:1.7%、CaO:6.9%、Na2O:2.4%、K2O:3.4%、B2O
3:5.1%、Al2O3:14.7%およびSiO2:65.8%からなるもの、
MgO:5.3%、CaO:7.4%、Na2O:17.0%、B2O3:36.1%、Al2O3:1.1%、およびSiO2:33.1%からなるもの、MgO:1.1%、CaO:7.0%、Na2O:1.5%、K2O:4.0%、B2O
3:3.2%、Al2O3:13.9%およびSiO2:69.4%からなるもの、
MgO:0.8%、CaO:7.0%、Na2O:1.1%、K2O:4.2%、B2O
3:2.4%、Al2O3:13.6%、およびSiO2:70.9%からなるもの、
MgO:0.5%、CaO:7.0%、Na2O:0.7%、K2O:4.5%、B2O
3:1.6%、Al2O3:13.2%およびSiO2:72.4%からなるもの、
MgO:0.4%、CaO:7.0%、Na2O:0.5%、K2O:4.6%、B2O
3:1.1%、Al2O3:13.0%、およびSiO2:73.3%からなるもの、
MgO:0.2%、CaO:7.0%、Na2O:0.3%、K2O:4.7%、B2O
3:0.7%、Al2O3:12.9%およびSiO2:74.1%からなるもの、
MgO:0.1%、CaO:7.0%、Na2O:0.2%、K2O:4.9%、B2O
3:0.3%、Al2O3:12.7%、およびSiO2:74.8%からなるもの、
などのMgO、CaO、Na2O、K2O、B2O3、Al2O3、およびSiO2からなるもの、などである。
CaO:6.3%、K2O:4.4%、Al2O3:12.8%、およびSiO2:76.6%からなるもの、
CaO:5.6%、K2O:4.0%、Al2O3:12.9%、およびSiO2:77.5%からなるもの、
CaO:5.1%、K2O:3.6%、Al2O3:13.0%、およびSiO2:78.2%からなるもの、CaO:4.3%、K2O:3.0%、Al2O3:13.2%、およびSiO2:79.4%からなるもの、
CaO:3.7%、K2O:2.6%、Al2O3:13.4%、およびSiO2:80.2%からなるもの、
CaO:3.3%、K2O:2.3%、Al2O3:13.5%、およびSiO2:80.9%からなるもの、
CaO:3.0%、K2O:2.1%、Al2O3:13.6%、およびSiO2:81.4%からなるもの、
CaO:2.6%、K2O:1.8%、Al2O3:13.7%、およびSiO2:82.0%からなるもの、
CaO:2.2%、K2O:1.6%、Al2O3:13.7%、およびSiO2:82.4%からなるもの、
CaO:2.0%、K2O:1.4%、Al2O3:13.8%、およびSiO2:82.8%からなるもの、
CaO:1.8%、K2O:1.2%、Al2O3:13.9%、およびSiO2:83.2%からなるもの、
CaO:1.6%、K2O:1.1%、Al2O3:13.9%、およびSiO2:83.4%からなるもの、
CaO:1.4%、K2O:1.0%、Al2O3:13.9%、およびSiO2:83.7%からなるもの、
CaO:0.8%、K2O:0.5%、Al2O3:14.1%、およびSiO2:84.6%からなるもの、
CaO:0.3%、K2O:0.2%、Al2O3:14.2%、およびSiO2:85.3%からなるもの、
などのMgO、K2O、Al2O3、およびSiO2からなるもの、
などである。
Al2O3:17.2%、およびSiO2:82.8%からなるもの、
Al2O3:21.7%、およびSiO2:78.3%からなるもの、
Al2O3、およびSiO2からなるもの、
などである。
図4は、本発明の実施形態2を説明するものであって、実施の形態2におけるセラミックス被覆グラファイトの製造フロー図である。実施の形態2は、焼結を一回の加熱を済ませる点で図3に示す実施の形態1と異なる。セラミックス前駆体として、後記の実施例7〜10で使用するような、焼結温度が700℃未満のものを使用する場合には一回の加熱でグラファイト構造体3とセラミックス前駆体のセラミックス化とを得ることができる。上記の加熱は、周知のアチソン炉やLEG炉を用いて行うことが可能である。実施の形態2においても、塗布乾燥後におけるアミノ基含有珪素化合物の厚みおよびセラミックススラリーの乾燥後の厚みは、いずれも本発明の目的が達成される限り特に制限はないが、それぞれ前者が0.1μm〜30μm程度、後者が20μm〜2mm程度、が適当である。後記の各実施例では当該各厚みを明記していないが、数例に就き両者の厚みを投影機による断面観察の方法で実測したところ、乾燥アミノ基含有珪素化合物の厚みはグラファイトに浸透した領域を含み0.3mm〜1.2mm内にあり、乾燥セラミックススラリーの厚みは0.5mm〜1.1mm内であった。
実施例1
実施例1においては、グラファイト構造体3の製造にフィラーが仮焼石油コークスであり、バインダーがコールタールピッチからなるものを使用し、これを混錬して押出成形し、得られた成形品を1200℃の窒素中で炭素化したのちに、アチソン炉を用いて窒素中で2500℃に加熱してグラファイト化させ、次いで200Mpaの静水圧(CIP)方式にて成形して、板の形状並びに50×50×5mmの寸法の、図1に示すグラファイト構造体3を作製した。一方、MgOが0.1%、CaOが7.0%、Na2Oが0.2%、K2Oが4.9%、B2O3が0.3%、Al2O3が12.7%、SiO2が74.8%からなるセラミックス前駆体の粉末混合物を使用し、その100部あたり水30部、カルボキシルメチルセルロース0.02部、解膠剤として珪酸ソーダ(水ガラス)を6部、および二リン酸ナトリウムを0.01部添加して得た混合物をボールミルにて24時間混合してセラミックススラリーを得た。また、アミノ基含有珪素化合物として3−アミノプロピルトリエトキシシランを用い、当該シランの80%濃度の水溶液のシラン溶液を使用した。
グラファイト構造体3して、フィラーが仮焼ピッチコークスであり、バインダーがコールタールピッチからなるものを使用し、セラミックス前駆体として、CaOが6.3%、K2Oが4.4%、Al2O3が12.8%、SiO2が76.6%からなる粉末混合物を使用し、アミノ基含有珪素化合物として、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシランを用い、焼結2における焼結温度を1250℃とした以外は実施例1と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、平均21μmの接合層2の存在が確認された。
グラファイト構造体3として、フィラーが仮焼石油コークスであり、バインダーがコールタールピッチからなるものを使用し、セラミックス前駆体として、CaOが3.7%、K2Oが2.6%、Al2O3が13.4%、SiO2が80.2%からなる粉末の混合物を使用し、アミノ基含有珪素化合物として、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシランを用い、焼結2における焼結温度を1350℃とした以外は実施例1と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、その表面破壊強度を上記の方法で測定したところ、平均20μmの接合層2の存在が確認された。
グラファイト構造体3として、フィラーが仮焼石油コークスであり、バインダーがコールタールピッチからなるものを使用し、セラミックス前駆体として、CaOが3.0%、K2Oが2.1%、Al2O3が13.6%、SiO2が81.4%からなる粉末の混合物を使用し、アミノ基含有珪素化合物として、3−アミノプロピルトリメトキシシランを用い、焼結2における焼結温度を1410℃とした以外は実施例1と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、平均20μmの接合層2の存在が確認された。
アミノ基含有珪素化合物として、3−アミノプロピルトリエトキシシランを用いた以外は実施例4と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、その表面破壊強度を上記の方法で測定したところ、平均21μmの接合層2の存在が確認された。
アミノ基含有珪素化合物として、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミンを用いた以外は実施例4と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、平均20μmの接合層2の存在が確認された。
実施例7においては、前記図4に示す製造フローに従った。即ち、グラファイト構造体3として実施例1と同じものを使用した。またセラミックス前駆体として、MgOが5.2%、CaOが7.3%、Na2Oが16.6%、B2O3が35.3%、Al2O3が2.1%、SiO2が33.6%からなる粉末混合物を使用し、その100部あたり水30部、カルボキシルメチルセルロース0.02部、解膠剤として珪酸ソーダを6部、および二リン酸ナトリウムを0.01部添加して得た混合物原料をボールミルにて24時間混合してセラミックススラリーを作製した。
グラファイト構造体3として、フィラーが仮焼ピッチコークスであり、バインダーがコールタールピッチからなるものを使用し、セラミックス前駆体として、MgOが5.3%、CaOが7.4%、Na2Oが17.0%、B2O3が36.1%、Al2O3が1.1%、SiO2が33.1%からなる粉末の混合物を採用し、アミノ基含有珪素化合物として、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシランを用い、セラミックス前駆体の焼結温度を650℃とした以外は実施例7と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、平均19μmの接合層2の存在が確認された。
グラファイト構造体3として、フィラーが仮焼ピッチコークスであり、バインダーがコールタールピッチからなるものを使用し、セラミックス前駆体として、MgOが5.2%、CaOが7.3%、Na2Oが16.6%、B2O3が35.3%、Al2O3が2.1%、SiO2が33.6%からなる粉末の混合物を採用し、アミノ基含有珪素化合物として、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシランを用い、セラミックス構造体3の焼結温度を670℃とした以外は実施例7と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、平均20μmの接合層2の存在が確認された。
アミノ基含有珪素化合物として、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを用いた以外は実施例9と同様の方法にてセラミックス被覆グラファイトを得た。上記の方法で、そのセラミックス被覆グラファイトを200℃の空気中雰囲気で2時間保持したところ、セラミックス被覆の剥離は生じなかった。また、上記の方法で接合部を断面観察したところ、平均20μmの接合層2の存在が確認された。
アミノ基含有珪素化合物としての3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、アミノ基を含まずビニル基を含むビニルトリメトキシシランを用いた以外は前記実施例4と同じ条件で、セラミックス被覆グラファイトの形成を試みたが、セラミックス被覆が容易に剥離された。上記の方法でグラファイト表層部を断面観察したところ観察したところ、接合層2の存在が確認されなかった。
ビニルトリメトキシシランに代えて、エポキシ基を含む3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用いた以外は比較例1と同じ条件で、セラミックス被覆グラファイトの形成を試みたが、セラミックス被覆が容易に剥離された。上記の方法でグラファイト表層部を断面観察したところ観察したところ、接合層2の存在が確認されなかった。
グラファイト構造体3のフィラーが仮焼ピッチコークス、バインダーがコールタールピッチからなり、セラミックス前駆体が前記実施例7と同じであり、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えてテトラエトキシシランを用いた以外は上記実施例9同様の方法で、セラミックス被覆グラファイトの形成を試みたが、セラミックス被覆が容易に剥離された。上記の方法でグラファイト表層部を断面観察したところ、接合層2の存在が確認されなかった。
Claims (4)
- グラファイト、上記グラファイトの表面に設けられたセラミックス層、上記グラファイトと上記セラミックス層との間に層状で存在すると共に上記グラファイトと上記セラミックス層とを化学的に接合する接合層を含み、上記接合層は、上記グラファイトの層間にインターカレートしたセラミックスとグラファイトとから形成されたアミノ基含有珪素化合物に由来する珪素を含む層間物質にて形成されることを特徴とするセラミックス被覆グラファイト。
- グラファイトの表面にアミノ基含有珪素化合物またはその溶液を塗布する第一工程、上記第一工程で形成された上記アミノ基含有珪素化合物層の上に珪素と固溶体を生成する元素を含むセラミックスのスラリーを塗布してセラミックス層を形成する第二工程、上記第二工程で得られたセラミックス層を有するグラファイトを加熱して上記グラファイトと上記セラミックス層とを化学的に接合する接合層を形成する第三工程を含むことを特徴とするセラミックス被覆グラファイトの製造方法。
- 上記第三工程において、酸素濃度が0.1容量%以上の雰囲気中で500℃以上700℃未満の温度で加熱する請求項2に記載のセラミックス被覆グラファイトの製造方法。
- 上記第三工程において、酸素濃度が0.1容量%未満の雰囲気中で700℃以上2000℃以下温度で加熱する請求項2に記載のセラミックス被覆グラファイトの製造方法。
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