JP5114270B2 - 誘導加熱式浸炭処理装置のワーク支持具 - Google Patents
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Description
この浸炭処理装置は、浸炭性ガスが供給される浸炭室(チャンバあるいは処理室)30中に配置された略円板状のワークW(被処理物)に高周波浸炭処理を行うためのものであり、ワークWは、昇降することによりこのワークWを浸炭室30内に挿入することのできる支持具31の上に載置されている。
図1は、本発明の第1実施形態における誘導加熱式浸炭処理装置のワーク支持具の使用状態を示す図である。また、図2(a)は第1実施形態のワーク支持具の支持台を上から見た図であり、図2(b)はそのワーク支持具の支持台の横断面図である。
図4は、本発明の第2実施形態における誘導加熱式浸炭処理装置のワーク支持具の構造を示す斜視図である。
11 シャフト
12 支持台
12a 中央部 12b 腕部 12c 凸部 12d ガイド柱
2 ワーク支持具
21 シャフト
22 支持台
22a 中央部 22b 腕部 22c セラミックボール(凸部)
22d ガイド柱
30 浸炭室
31 支持具
32 誘導コイル
33 シャッター
34 ガス供給管
Claims (2)
- 浸炭ガスが供給される処理室内にワークを配置し、その周囲に配設された誘導コイルに高周波電流を流して該ワークを誘導加熱することにより、前記ワークに浸炭処理を施す誘導加熱式浸炭処理装置に用いられるワーク支持具であって、
前記ワーク支持具は、シャフトと、このシャフトの上端に配設されてその上面に前記ワークを載置することのできる支持台とからなり、
この支持台の上面における前記ワークと接触する領域に、載置されたワークとの間に隙間を形成する複数の凸部が形成されており、
前記ワーク支持具の支持台が、小径円板状の中央部と、この中央部から周方向に等間隔の角度で径方向外側に突出する3つ以上の腕部とからなり、前記凸部が、これら各腕部における前記中央部の中心から同一半径上にあたる位置に形成されており、
前記ワーク支持具は、導電物質であるカーボンを用いて成形されているとともに、前記凸部は、絶縁体であるセラミックにより形成されていることを特徴とする誘導加熱式浸炭処理装置のワーク支持具。 - 前記凸部は、各腕部に設けられた穴に嵌め入れられたボールにより形成されていることを特徴とする請求項1に記載の誘導加熱式浸炭処理装置のワーク支持具。
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