JP5110996B2 - 積層型半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
かかる積層型半導体装置の側面配線は、図14に示す様に、半導体素子100,100・・を積層して形成した積層体Aの側面に沿って、ノズル102から導電性粒子が含有された導電性ペーストを吐出して導電性ペーストから成る線状部104,104・・を形成した後、線状部104,104・・に加熱処理を施すことによって形成できる。
しかし、図14に示す様に、ノズル102から導電性ペーストを吐出して形成される側面配線の太さは、ノズル102のノズル口径によって決定される。一方、ノズル102のノズル口径は、口径を過大に細化すると、導電性ペーストの粘度によっては連続吐出ができ難くなるおそれがある。このため、ノズル102のノズル口径の細化には限界が存在し、形成される側面配線の細化にも限界がある。
一方、近年、積層型半導体装置でも、大容量化、高密度化が求められており、側面配線も狭ピッチで形成することが要望されており、図14に示すノズル102を用いることができなくなりつつある。
そこで、本発明は、ノズルから導電性ペーストを吐出して太い側面配線を巾広ピッチでしか形成できないという、従来の積層型半導体装置の製造方法の課題を解決し、細い側面配線を狭ピッチで形成できる積層型半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、複数個の半導体素子を積層して積層体を形成した後、前記積層体の側面に側面配線を形成して、前記半導体素子の各々を電気的に接続した積層型半導体装置を製造する際に、前記半導体素子として、その電極端子に一端が接続された配線の少なくとも一部が側面側に延出又は露出している半導体素子を用い、前記半導体素子の各側面側に延出又は露出された配線を接続するように、転写ワイヤの所定長さに亘って付着させた導電性粒子を含有する導電性ペーストを、前記転写ワイヤに張力を付与しつつ回転させて前記積層した半導体素子の側面に転写して、前記側面配線を形成することを特徴とする積層型半導体装置の製造方法にある。
特に、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面に当接状態で延出されている半導体素子を好適に用いることができる。
金属ワイヤの導電性ペーストに対する濡れ性が良好であるため、半導体素子の側面に延出された金属ワイヤと導電性ペーストとが接触したとき、導電性ペーストが金属ワイヤの周面に集合され易く、隣接する側面配線との接触が避けられ、最終的に得られる積層型半導体装置の信頼性を向上できる。
この半導体素子は、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤを半導体素子の側面に当接するように前記半導体素子を回転し、次いで、前記金属ワイヤを所定箇所で切断することによって得ることができる。
この半導体素子は、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤが半導体素子の側面に当接し且つ前記電極端子形成面に対して反対側面に当接するように半導体素子を回転又はスライドした後、前記金属ワイヤを所定箇所で切断して形成できる。
尚、本発明においては、転写ワイヤとして、金属製の転写ワイヤを好適に用いることができる。
かかる半導体素子10には、一面側に形成された電極端子14に一端が接続された金属ワイヤとしての金ワイヤ16が、側面に当接状態で延出されている。これらの半導体素子10,10,10を積層して積層体Pを形成する際には、半導体素子10の側面に延出されている金ワイヤ16が直線上に配設されるように各半導体素子10の位置を調整する。
図1に示す半導体素子10を形成するには、図2に示す様に、吸着板20上にアルミ箔等の金属箔22を載置すると共に、金属箔22に形成した貫通孔24上に半導体素子10を載置する。金属箔22に載置された半導体素子10は、その電極端子14が形成された電極端子形成面が上面となるように載置する。
更に、この金属箔22及び半導体素子10を、吸着板20の吸着力を発現して、吸着板20の所定箇所に各々所定箇所に固定する。この際に、半導体素子10は、金属箔22の貫通孔24を介して吸着板30の所定箇所に吸着固定される。
この様に、吸着板20の吸着力で固定されている金属箔22の半導体素子10の近傍に、ワイヤボンダーによって金ワイヤ16の一端を接続した後、金ワイヤ16をキャピラリーから引き出して半導体素子10の電極端子14上に金ワイヤ16の他端を接続して引き千切る。
このため、図3(b)に示す様に、半導体素子10を180°回転し、電極端子形成面を金属箔22の方向(下面方向)を向くようにする。
次いで、図3(c)に示す様に、半導体素子10の金ワイヤ16の一端を接続した電極端子14側の側面が金ワイヤ16に当接するように、半導体素子10を90°回転した後、半導体素子10の電極端子形成面の反対側面近傍の箇所[図3(c)に示す矢印の箇所]で金ワイヤ16を切断することによって、電極端子14に一端が接続された金ワイヤ16が側面に当接状態で延出された半導体素子10を得ることができる。
一方、図4(a)に示す如く、金ワイヤ16を、半導体素子10の電極端子14から金属箔22への方向、いわゆる打ち落し方式でボンディングすると、半導体素子10の電極端子14上での金ワイヤ16の立ち上がりが大きくなる。このため、図4(b)に示す如く、半導体素子10を180°回転して、電極端子形成面を金属箔22の方向(下面方向)に向かせたとき、金属箔22によって電極端子14近傍の金ワイヤ16を押し潰す。押し潰された金ワイヤ16は、隣接する電極端子14に一端が接続された金ワイヤ16と接触するおそれがある。
この金ワイヤ16の導電性ペーストとの濡れ性が良好であるため、半導体素子10の側面に延出した金ワイヤ16と導電性ペーストとが接触したとき、導電性ペーストが金ワイヤ10の周面に集合され易く、隣接する側面配線との接触が避けられ、最終的に得られる積層型半導体装置の信頼性を向上できる。
かかる導電性ペーストの塗布は、図5に示す様に、転写ワイヤ30を用いて行う。この転写ワイヤ30としては金属製の転写ワイヤ、特にタングステン製の転写ワイヤを好適に用いることができる。
この転写ワイヤ30を用いて積層体Pの側面に導電性ペーストを塗布する際には、先ず、図5(a)に示す様に、台32上に滴下した導電性ペーストの液滴34中に転写ワイヤ30を接触させて、液滴34を形成する導電性ペーストの表面張力で転写ワイヤ30の表面に付着させる。この際に、転写ワイヤ30は一端側から他端側方向[図5(a)に示す矢印方向]に移動させて、転写ワイヤ30の所定長さに亘って導電性ペーストを付着させる。
ここで、転写ワイヤ30を積層体Pの側面に押し付けて導電性ペースト36を積層体Pの側面に転写する際には、転写ワイヤ30に張力を付与しつつ回転することによって、形成される側面配線の太さ等を一定とすることができる。
この様にして積層体Pの側面に側面配線を形成した状態を図6に示す。図6は、厚さ200μmの4枚の半導体素子10を接着層12を介して積層した図1に示す積層体Pに、太さ43μmの転写ワイヤ30によって導電性ペーストを転写して側面配線40,40・・を形成した状態を示す顕微鏡写真である。
この側面配線40,40・・は、厚さ200μmの半導体素子10よりも細い。このため、側面配線40,40・・のピッチは520μmであるが、260μmのピッチでも形成可能である。
このことを図8に示す。図8は、厚さ200μmの4枚の半導体素子10を接着層12を介して積層した図1に示す積層体Pに、塗布装置50の口径150μmのノズル50aから導電性ペーストを吐出して形成した側面配線40′,40′・・の顕微鏡写真である。図8から明らかな様に、側面配線40′の最大巾は、厚さ200μmの半導体素子10よりも巾広に形成されている。このため、側面配線40′,40′・・のピッチを260μmとすることは極めて困難である。
図9に示す半導体素子10を形成するには、図2に示す様に、吸着板20上に載置した金属箔22の貫通孔24上に半導体素子10を載置し、吸着板20の吸着力を発現して固定した金属箔22の半導体素子10の近傍に、ワイヤボンダーによって金ワイヤ16の一端を接続した後、金ワイヤ16をキャピラリーから引き出して半導体素子10の電極端子14上に金ワイヤ16の他端を接続して引き千切る。
次いで、図3(a)に示す様に、吸着板20の吸着を解除して、半導体素子10及び金属箔22を吸着板20から取り出した後、図10(a)に示す様に、半導体素子10を金ワイヤ16の方向[図10(a)の矢印方向]にスライドし、金ワイヤ16が半導体素子10の側面に当接状態で横断するように、半導体素子10の側面を金ワイヤ16に当接させる。
図10(a)に示す状態の半導体素子10は、図3(c)に示す様に、金属箔22に対して垂直に立設されている半導体素子10を、その電極端子形成面が上面となるように90°回転することによっても得ることができる。
その後、図10(b)に示す様に、金属箔22の一部を折り曲げて、半導体素子10の電極端子形成面に対して反対側面側に延出されている金ワイヤ16を露出し、半導体素子10の反対側面に延出されている金ワイヤ16の部分[半導体素子10の反対側面の角部近傍の部分(矢印で示す部分)]をカッター等で切断することによって、電極端子14に一端が接続された金ワイヤ16が側面に密着状態で横断し、電極端子形成面に対して反対側面まで延出されている半導体素子10を得ることができる。
ところで、図10(a)に示す様に、半導体素子10をスライドして半導体素子10の側面に金ワイヤ16を延出する際には、半導体素子10の電極端子形成面の反対面側に金ワイヤ16を延出させることなく、電極端子形成面側の角部で金ワイヤ16を引き千切ってもよい。この様に金ワイヤ16を引き千切る場合には、金ワイヤ16の所定箇所に予めクリップ等で傷を付けておくことによって、容易に所定箇所で金ワイヤ16を切断できる。
その後、図5に示す様に、積層体Pの側面に転写ワイヤ30によって導電性ペーストから成る線状部38を転写した後、加熱処理を施して側面配線40を形成する。
かかる半導体素子10は、図3(b)に示す様に、半導体素子10を180°回転して電極端子形成面を金属箔22の方向(下面方向)を向かせた状態で、図12に示す様に、金ワイヤ16の直線状部分が半導体素子10の側面側から突出する部分[半導体素子10の電極端子形成面の角部近傍(矢印で示す部分)]をカッター等で切断することによって得ることができる。
以上、説明した図1〜図12に示す半導体素子10としては、一面側に形成された電極端子14に一端が接続された金ワイヤ16を側面側に延出した半導体素子10を用いていたが、図13に示す様に、電極端子14に一端が接続された配線の他端15が側面に露出されている半導体素子10を用いることができる。
また、図1、図9及び図11に示す積層半導体装置Pでは、半導体素子10,10・・の各々は電極端子形成面が上面を向くように積層されているが、電極端子形成面が対向するように半導体素子10,10を積層してもよい。
更に、転写ワイヤ30として、金属製の転写ワイヤ30を用いたが、樹脂製の転写ワイヤであってもよく、表面に粗面加工等の加工が施されている転写ワイヤを用いてもよい。
12 接着層
14 電極端子
16 金ワイヤ(金属ワイヤ)
20 吸着板
22 金属箔
24 貫通孔
30 転写ワイヤ
34 液滴
36 導電性ペースト
38 線状部
40 側面配線
50 塗布装置
50a ノズル
P 積層体
Claims (7)
- 複数個の半導体素子を積層して積層体を形成した後、前記積層体の側面に側面配線を形成して、前記半導体素子の各々を電気的に接続した積層型半導体装置を製造する際に、
前記半導体素子として、その電極端子に一端が接続された配線の少なくとも一部が側面側に延出又は露出している半導体素子を用い、
前記半導体素子の各側面側に延出又は露出された配線を接続するように、転写ワイヤの所定長さに亘って付着させた導電性粒子を含有する導電性ペーストを、前記転写ワイヤに張力を付与しつつ回転させて前記積層体の側面に転写して、前記側面配線を形成することを特徴とする積層型半導体装置の製造方法。 - 半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤの少なくとも一部が側面側に延出されている半導体素子を用いる請求項1記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面に当接状態で延出されている半導体素子を用いる請求項1又は請求項2記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 電極端子に一端が接続された金属ワイヤが側面に当接状態で延出されている半導体素子として、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤを半導体素子の側面に当接するように前記半導体素子を回転し、次いで、前記金属ワイヤを所定箇所で切断して得た半導体素子を用いる請求項3記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面を当接状態で横断して、前記一面側に対して反対側面まで延出している半導体素子を用いる請求項1又は請求項2記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 側面に当接状態で横断した金属ワイヤが電極端子形成面に対して反対側面まで延出されている半導体素子として、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤが半導体素子の側面に当接し且つ前記電極端子形成面に対して反対側面に当接するように半導体素子を回転又はスライドした後、前記金属ワイヤを所定箇所で切断して得た半導体素子を用いる請求項5記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 転写ワイヤとして、金属製の転写ワイヤを用いる請求項1〜6のいずれか一項記載の積層型半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007190040A JP5110996B2 (ja) | 2007-07-20 | 2007-07-20 | 積層型半導体装置の製造方法 |
KR1020080066802A KR20090009709A (ko) | 2007-07-20 | 2008-07-10 | 측면 배선의 형성 방법 |
US12/175,650 US7807561B2 (en) | 2007-07-20 | 2008-07-18 | Method for forming side wirings |
TW097127270A TW200905767A (en) | 2007-07-20 | 2008-07-18 | Method for manufacturing semiconductor apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007190040A JP5110996B2 (ja) | 2007-07-20 | 2007-07-20 | 積層型半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009027041A JP2009027041A (ja) | 2009-02-05 |
JP5110996B2 true JP5110996B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=40265162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007190040A Expired - Fee Related JP5110996B2 (ja) | 2007-07-20 | 2007-07-20 | 積層型半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7807561B2 (ja) |
JP (1) | JP5110996B2 (ja) |
KR (1) | KR20090009709A (ja) |
TW (1) | TW200905767A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5112275B2 (ja) * | 2008-12-16 | 2013-01-09 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2011023709A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-02-03 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP5215244B2 (ja) * | 2009-06-18 | 2013-06-19 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置 |
JP7195208B2 (ja) | 2019-04-12 | 2022-12-23 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2559471B2 (ja) * | 1988-09-09 | 1996-12-04 | コーア株式会社 | チツプ抵抗の製造方法 |
WO1999010925A1 (en) * | 1997-08-22 | 1999-03-04 | Cubic Memory, Inc. | Vertical interconnect process for silicon segments with thermally conductive epoxy preform |
US6207474B1 (en) * | 1998-03-09 | 2001-03-27 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a stack of packaged memory die and resulting apparatus |
JP3476383B2 (ja) * | 1999-05-27 | 2003-12-10 | シャープ株式会社 | 半導体積層パッケージ |
JP3879351B2 (ja) * | 2000-01-27 | 2007-02-14 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体チップの製造方法 |
JP2003142518A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-16 | Nec Electronics Corp | 半導体製造装置、半導体製造方法、半導体装置及び電子装置 |
JP4081666B2 (ja) * | 2002-09-24 | 2008-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
JP2004303884A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Seiko Epson Corp | 三次元実装モジュールの製造方法とその方法で得られる三次元実装モジュール |
-
2007
- 2007-07-20 JP JP2007190040A patent/JP5110996B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-07-10 KR KR1020080066802A patent/KR20090009709A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-07-18 US US12/175,650 patent/US7807561B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-18 TW TW097127270A patent/TW200905767A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090023247A1 (en) | 2009-01-22 |
KR20090009709A (ko) | 2009-01-23 |
US7807561B2 (en) | 2010-10-05 |
TW200905767A (en) | 2009-02-01 |
JP2009027041A (ja) | 2009-02-05 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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