JP5109715B2 - ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ - Google Patents
ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5109715B2 JP5109715B2 JP2008046402A JP2008046402A JP5109715B2 JP 5109715 B2 JP5109715 B2 JP 5109715B2 JP 2008046402 A JP2008046402 A JP 2008046402A JP 2008046402 A JP2008046402 A JP 2008046402A JP 5109715 B2 JP5109715 B2 JP 5109715B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas barrier
- film
- barrier film
- substrate
- sealing body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims description 597
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims description 128
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 156
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 150
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 64
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 60
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 43
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 38
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 36
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 30
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 29
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 23
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 20
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 17
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 581
- 239000010408 film Substances 0.000 description 548
- 239000002585 base Substances 0.000 description 73
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 54
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 description 52
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 49
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 49
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 37
- 230000006870 function Effects 0.000 description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 25
- -1 various cards Substances 0.000 description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 24
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 16
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 14
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 13
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 12
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 6
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920013639 polyalphaolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical class C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical class C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical class NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCXSIWGFOQDEG-UHFFFAOYSA-N [Zn].[Sn].[In] Chemical compound [Zn].[Sn].[In] WGCXSIWGFOQDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000005266 diarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCO GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004050 hot filament vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N indium zinc Chemical compound [Zn].[In] NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical group 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
図1は本発明のガスバリア性シートの一例を示す模式的な断面図である。
図2は、本発明のガスバリア性シートの他の一例を示す模式的な断面図である。
図3は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
図7は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
図8は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
図9は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。具体的には、ガスバリア性シート1Fは、図8に示すガスバリア性シート1Eのように、基材2の両面にガスバリア膜(ガスバリア膜3A及び第3のガスバリア膜17)が存在する態様の他の一例を示している。
ガスバリア性シート1Aは、図1に示すとおり、基材2上にガスバリア膜3Aを所定の大きさに形成するものであり、ガスバリア性シート1Bは、図2に示すとおり、基材2上の全面に接着剤用アンカー膜4を形成し、接着剤用アンカー膜4上にガスバリア膜3Aを所定の大きさに形成したものであり、ガスバリア性シート1Cは、図3に示すとおり、基材2上に、第1のガスバリア膜15及び第2のガスバリア膜16を有するガスバリア膜3Bを所定の大きさに形成したものである。また、ガスバリア性シート1Dは、図7に示すとおり、基材2上にガスバリア膜3Cを設け、ガスバリア膜3Cとほぼ同一又は基材2の全面を覆うような透明導電膜8をさらに設けたものである。また、ガスバリア性シート1Eは、図8に示すとおり、基材2の一方の面に所定の大きさのガスバリア膜3A及び透明導電膜8をこの順に設け、基材2の他方の面の全面に第3のガスバリア膜17(第1のガスバリア膜15及び第2のガスバリア膜16から構成される)を設けている。さらに、ガスバリア性シート1Fは、図9に示すとおり、基材2の一方の面に所定の大きさのガスバリア膜3C及び透明導電膜8をこの順に設け、基材2の他方の面の全面に第3のガスバリア膜17(ガスバリア膜3Aと同様の構成)を設けている。
図4は本発明の封止体の一例を示す模式的な断面図である。
図5は本発明の封止体の他の一例を示す模式的な断面図である。
図6は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
図10は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
図11は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
図12は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
本発明の有機ELディスプレイは、本発明の封止体を有する。これにより、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板とが接着されることになるために接着性も良好となり、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の有機ELディスプレイを提供することができる。
基板として厚さ0.7mmのガラス基板を用い、被封止物として有機ELディスプレイ素子を用いた。具体的には、上記のガラス基板上に、ITOをスパッタリング法で成膜した後、エッチングによりパターンニングして透明電極(陽極)を形成した。そして、陽極上に蒸着法により正孔輸送層、発光層、及び金属電極(陰極)を順次形成した。ここで、正孔輸送層の材料としてはα−ナフチルフェニルジアミン(α−NPD)を、発光層の材料としてはトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3)を、金属電極(陰極)の材料としてカルシウム及び銀を用いた。
こうして得た封止体に対し、20℃/30%RHの環境下で、有機ELディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、24時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
水蒸気透過率は、測定温度37.8℃、湿度100%Rhの条件下で、水蒸気透過率測定装置(米国MOCON社製、PERMATRAN−W 3/31:商品名)を用いて測定した。測定に用いた水蒸気透過率測定装置の検出限界は、0.05g/m2・dayである。測定の結果、水蒸気透過率は、0.03g/m2・dayであり、測定限界値以下であった。
酸素透過率は、測定温度23℃、湿度90%Rhの条件下で、酸素ガス透過率測定装置(米国MOCON社製、OX−TRAN 2/20:商品名)を用いて測定した。測定に用いた酸素ガス透過率測定装置の検出限界は、0.05cc/m2・day・atmである。測定の結果、酸素透過率は、0.05cc/m2・day・atmであり、測定限界値以下であった。
ガスバリア性シートの製造において、金属マスクは用いず、真空中で、グラビア印刷法を用いて、高沸点のフッ素オイルであるパーフルオロポリエーテルを基材上にパターン印刷した後に、基材全面にガスバリア膜を成膜し、パーフルオロポリエーテルがパターン印刷されていない部分にガスバリア膜を形成することにより所定の大きさのガスバリア膜(酸窒化珪素膜)を得たこと以外は、実施例1と同様にして封止体を製造した。
ガスバリア性シートの製造において、金属マスクは用いず、基材全面にガスバリア膜(酸窒化珪素膜)を形成した後、有機ELディスプレイの上面と側面とを覆う部分以外を弱アルカリエッチングで除去して、所定の大きさのガスバリア膜を得たこと以外は、実施例1と同様にして封止体を製造した。
ガスバリア性シートの製造において、基材とガスバリア膜との間に接着剤用アンカー膜を設け、図2に示すガスバリア性シート1Bを得たこと、以外は実施例2と同様にして封止体を製造した。
ガスバリア性シートの製造において、第1のガスバリア膜を設ける工程をさらに行って図3に示すガスバリア性シート1Cを得たこと、以外は実施例2と同様にして封止体を製造した。
ガスバリア性シートの製造において、ガスバリア膜を基材の全面に設けたこと、以外は、実施例1と同様にして封止体を製造した。
ガスバリア性シートの製造において、基材2上にガスバリア膜3C及び透明導電膜8をこの順に設け、図7(a)に示すガスバリア性シート1Dを用いたこと、レジストを用いてエッチングでパターン層を形成したこと、以外は実施例1と同様にして、図10(a)に示す封止体10Dを製造した。
製造方法:イオンプレーティング法
材料:ITO粒(20%Sn)
成膜時圧力:0.1Pa
Ar流量:20sccm、酸素流量:10sccm、水素流量:5sccm
印加電力:3.5kW
ガスバリア性シートの製造において、基材2の一方の面に第3のガスバリア膜17が設けられ、基材2の他方の面にガスバリア膜3A及び透明導電膜8がこの順に設けられていたガスバリア性シート1E(図8参照)を得たこと、を用いたこと、以外は実施例1と同様にして、図11に示す封止体10Eを製造した。
製造方法:イオンプレーティング法
材料:SiO
成膜時圧力:0.1Pa
Ar流量:10sccm、窒素流量:5sccm、アンモニア流量:15sccm
印加電力:5.6kW
製造方法:イオンプレーティング法
材料:SiO
成膜時圧力:0.1Pa
Ar流量:10sccm、窒素流量:5sccm、アンモニア流量:15sccm
印加電力:5.6kW
製造方法:イオンプレーティング法
材料:ITO粒(15%Sn)
成膜時圧力:0.1Pa
Ar流量:20sccm、酸素流量:10sccm
印加電力:3.5kW
ガスバリア性シートの製造において、基材2の一方の面に第3のガスバリア膜17が設けられ、基材2の他方の面にガスバリア膜3C及び透明導電膜8がこの順に設けられたガスバリア性シート1F(図9参照)を用いたこと、以外は実施例1と同様にして、図12に示す封止体10Fを製造した。
製造方法:イオンプレーティング法
材料:SiOxNy(x=0.2、y=1.0)
成膜時圧力:0.1Pa
Ar流量:10sccm、窒素流量:10sccm、酸素流量:5sccm
印加電力:6.8kW
製造方法:イオンプレーティング法
材料:ITO粒(20%Sn)
成膜時圧力:0.1Pa
Ar流量:10sccm、酸素流量:30sccm
印加電力:4.0kW
2 基材
3,3A,3B,3C ガスバリア膜
4 接着剤用アンカー膜
5 被封止物(有機ELディスプレイ素子)
6 接着剤膜
7 基板
8 透明導電膜
10,10A,10B,10C,10D,10E,10F 封止体
11 陽極
12 正孔輸送層
13 発光層
14 陰極
15 第1のガスバリア膜
16 第2のガスバリア膜
17 第3のガスバリア膜
30 従来の封止体
31 フィルム基板
32 発光機能層
33 封止フィルム
34 接着剤
Claims (9)
- 基板と、該基板上に設けられた被封止物と、該被封止物を覆うように設けられたガスバリア性シートと、を有する封止体であって、
前記ガスバリア性シートが、前記被封止物の上面及び側面だけを被覆するガスバリア膜と、該ガスバリア膜を支持する基材と、をこの順に有し、
前記ガスバリア膜の端部が前記基板と接触し、
前記基材における前記ガスバリア膜が形成されていない領域と、前記基板とが接着剤膜により接着されていることを特徴とする封止体。 - 少なくとも前記基材における前記ガスバリア膜が形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜が設けられており、
前記アンカー膜と前記基板とが、前記接着剤膜により接着されている、請求項1に記載の封止体。 - 前記ガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも1つを含有する、請求項1又は2に記載の封止体。
- 前記ガスバリア膜が、第1のガスバリア膜と第2のガスバリア膜とを有し、
前記第1のガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第2の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有し、
前記第2のガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも1つを含有する、請求項1又は2に記載の封止体。 - 前記ガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第2の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する、請求項1又は2に記載の封止体。
- 前記基材の両面のうち、前記ガスバリア膜が設けられていない方の面側に第3のガスバリア膜が設けられている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の封止体。
- 前記ガスバリア膜上に透明導電膜を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の封止体。
- 前記被封止物が、有機ELディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の封止体。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の封止体を有することを特徴とする有機ELディスプレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008046402A JP5109715B2 (ja) | 2007-07-11 | 2008-02-27 | ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007182290 | 2007-07-11 | ||
JP2007182290 | 2007-07-11 | ||
JP2008046402A JP5109715B2 (ja) | 2007-07-11 | 2008-02-27 | ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009038003A JP2009038003A (ja) | 2009-02-19 |
JP5109715B2 true JP5109715B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=40439701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008046402A Expired - Fee Related JP5109715B2 (ja) | 2007-07-11 | 2008-02-27 | ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5109715B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6383682B2 (ja) * | 2015-02-26 | 2018-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003297550A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 発光素子およびこれを用いた表示装置並びに照明装置 |
JP2005227450A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置とその製造方法、及び電子機器 |
JP4373270B2 (ja) * | 2004-05-13 | 2009-11-25 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリア性フィルム、ならびにこれを用いて構成された液晶表示素子およびel表示素子 |
JPWO2008032526A1 (ja) * | 2006-09-15 | 2010-01-21 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 可撓性封止フィルムの製造方法及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 |
-
2008
- 2008-02-27 JP JP2008046402A patent/JP5109715B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009038003A (ja) | 2009-02-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5532557B2 (ja) | ガスバリア性シート、ガスバリア性シートの製造方法、封止体、及び有機elディスプレイ | |
JP4717674B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP5463771B2 (ja) | ガスバリア性シート、ガスバリア性シートの製造方法、封止体、及び装置 | |
JP2009095989A (ja) | ガスバリアフィルムおよび環境感受性デバイス | |
WO2008007770A1 (en) | Transparent conducting layer coated film and its use | |
JP2004299230A (ja) | ガスバリア性基板 | |
JP2000323273A (ja) | エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2009090634A (ja) | ガスバリア性フィルムおよびこれを用いた有機デバイス | |
JP2009023331A (ja) | ガスバリア性シート | |
JP2009226914A (ja) | ガスバリア性シート、ガスバリア性シートの製造方法 | |
JP6597619B2 (ja) | 透明電極、透明電極の製造方法、及び、電子デバイス | |
JP6648752B2 (ja) | 封止構造体 | |
KR20090030227A (ko) | 발광 소자 또는 표시 소자 및 이들의 제조 방법 | |
JP5246082B2 (ja) | ガスバリア性シート、ガスバリア性シートの製造方法、封止体、及び装置 | |
JP5567934B2 (ja) | 非晶質窒化珪素膜とその製造方法、ガスバリア性フィルム、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法および封止方法 | |
JP5453719B2 (ja) | ガスバリア性シート | |
JP6319095B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法 | |
JP5109715B2 (ja) | ガスバリア性シート、封止体、及び有機elディスプレイ | |
JP2014083690A (ja) | ガスバリアーフィルムの製造方法及びガスバリアーフィルム | |
JP2015080855A (ja) | 封止フィルム、その製造方法及び封止フィルムで封止された機能素子 | |
JP5114961B2 (ja) | 透明導電膜付きフィルムおよびこの透明導電膜付きフィルムからなるディスプレイ用基板、ディスプレイ、液晶表示装置ならびに有機el素子 | |
JP5259247B2 (ja) | 表示素子の封止方法およびガスバリアフィルムで封止された表示素子の製造方法 | |
JP2009094051A (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法および透明導電性フィルム | |
WO2016084791A1 (ja) | 封止フィルム、機能素子及び封止フィルムの製造方法 | |
EP2103645A1 (en) | Barrier laminate and method for producing same, device and optical component |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100528 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120911 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120924 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |