JP5099472B2 - ガスバリア性積層体およびこの積層体からなるディスプレイ用基板 - Google Patents
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Description
本発明による基材は、特に制限なく用いることができる。従って、基板は、具体的用途や目的等に応じて、ガラス基板や硬質樹脂基板、好ましくは例えばウエハー、プリント基板、また様々なカードやボトル等成型された樹脂からなる非フレキシブル基板、あるいはフレキシビリティを有する樹脂基板、好ましくは例えばポリエチレンテレフタレート(PEN)やポリアミド、ポリオレフィン、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、ポリシルセスキオキサン、ポリノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、環状ポリオレフィン等によって形成することができる。樹脂基板である場合、好ましくは100℃以上、特に好ましくは150℃以上の耐熱性を有するものが適当である。
本発明のガスバリア膜は、主として、酸素、水蒸気等の気体の透過を遮断する機能をするものである。そのようなガスバリア膜は、従来公知の各種のガスバリア材料によって形成することが可能である。
<ポリマー層>
本発明のポリマー層は、少なくとも1つのカルボキシル基または水酸基を有するポリマーと沸点が50℃以上90℃未満である液体の混合物とから形成されたものである。
ガスバリア性は、Mocon社製のPARMATRAN3/31を用い、37.8℃100%Rhの条件で測定したときのものである。
平坦性は、東レエンジニアリング社製の表面形状測定装置(SP−500)を用い、レンズ倍率50倍、分解能1376×1040pixelの条件で、0.13mm×0.17mmの範囲を測定したときのものである。そのときの最大値と最小値の差を最大高低差P−Vとした。
乾燥機で160℃で1時間乾燥させた厚さ100μmのPEN樹脂(帝人デュポン製Q65)からなるプラスチックフィルム基材を透明フィルム基材とし、これの両方の面に、膜厚100nmの酸化窒化珪素膜(Si3N4ターゲット:豊島製作所製(4N)、成膜圧力:0.3Pa、パワー5kW)を、スパッタ法により形成した。これにより、無機化合物層が形成された。
その表面の最大高低差を測定したところP−V=8nmであった。
次いで、有機EL素子用蛍光体(シグマアルドリッチ社製、品番;ADS228GE)をトルエン中に1.0%(質量比)になるよう混合した発光層形成用溶液を準備し、この溶液を、上記で得られたPEDOT/PSSの薄膜上に、やはりグローブボックス内にてスピンコーティングによって塗布し、塗布後、温度;130℃のホットプレート上に載せて1時間加熱して乾燥させ、厚みが80nmの発光層を形成した。
実施例1と同様の方法により無機化合物層を形成した。その後、カルボキシル基含有メタアクリレート樹脂を(ザインクテック製:平均分子量75000:Tg=95℃)と硬化剤(ザインクテック製:脂肪族エポキシ硬化剤)とイソプロピルアルコール:酢酸エチル=1:1の希釈液(沸点80℃)の希釈液とを5:1:6の割合で希釈し、スピンコート法により塗布し、160℃、30秒、乾燥を行ったが、十分な乾燥を行うことはできなかった。160℃、60分で乾燥を行ったところ、塗膜を硬化させることはできたが、その表面の最大高低差を測定したところP−V=32nmであった。また、硬化時間が長く実用に適さないものであった。
実施例1と同様の方法により無機化合物層を形成した。その後、カルボキシル基を含有しないアクリル樹脂(ザインクテック製:平均分子量70000:Tg=90℃)を塗布し、160℃30秒、乾燥を行ったが、塗布むらの生じる膜となりその表面の最大高低差を測定したところP−V=82nmであった。
実施例1と同様の方法により有機EL素子を作製したが、発光はおこらなかった。
実施例1と同様の方法により無機化合物層を形成した。その後、水酸基、カルボキシル基含有しないアクリル樹脂(ザインクテック製:平均分子量75000:Tg=77℃)と硬化剤(ザインクテック製:脂肪族エポキシ硬化剤)とイソプロピルアルコール:酢酸エチル=1:1の希釈液(沸点80℃)の希釈液とを5:1:6の割合で希釈し、スピンコート法により塗布したところ、加工中に蒸発、ゲル化が進み、実用に適さないものであった。
Claims (6)
- フィルム基材に、ガスバリア層およびポリマー層が順次形成されたガスバリア性積層体であって、
前記ポリマー層が、アクリル酸またはメタクリル酸の重合体を主成分とするものであり、平均分子量が5万以上10万未満でありかつガラス転移温度(Tg)が100℃以上200℃未満であるポリマーと、沸点が50℃以上90℃未満である二種類以上の溶媒からなる混合溶媒との混合物とから形成されたことにより、このポリマー層の表面の最大高低差が1nm以上10nm以下であることを特徴とする、ガスバリア性積層体。 - 前記ポリマー層が、160℃にて3秒以上30秒以下の硬化条件により形成されたものである、請求項1に記載のガスバリア性積層体。
- 前記ガスバリア層が、珪素を主体分とする無機化合物からなる、請求項1または2に記載のガスバリア性積層体。
- 前記ポリマー層の上に、さらに透明無機化合物層が形成された、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスバリア性積層体。
- 160℃の温度雰囲気中に1時間曝すことからなる加熱処理を3回経た後においてもクラックの発生が認められない、請求項1〜4のいずれか1項に記載のガスバリア性積層体。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のガスバリア性積層体からなることを特徴とする、ディスプレイ用基板。
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