JP5096641B1 - 有機elパネル及びその製造方法 - Google Patents
有機elパネル及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5096641B1 JP5096641B1 JP2012513384A JP2012513384A JP5096641B1 JP 5096641 B1 JP5096641 B1 JP 5096641B1 JP 2012513384 A JP2012513384 A JP 2012513384A JP 2012513384 A JP2012513384 A JP 2012513384A JP 5096641 B1 JP5096641 B1 JP 5096641B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating film
- functional layer
- organic
- edge
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 79
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 11
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 68
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 23
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 16
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 16
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000292 Polyquinoline Chemical class 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical class C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical class [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Chemical class 0.000 description 1
- -1 polyphenylene vinylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
- H10K59/8051—Anodes
- H10K59/80516—Anodes combined with auxiliary electrodes, e.g. ITO layer combined with metal lines
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【構成】基板の表面内において矩形の凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜を基板上に形成し、絶縁膜上においてこの絶縁膜の縁部よりも内側の領域に機能層を形成する。
【選択図】図2
Description
2 陽極
3 絶縁膜
Claims (7)
- 基板と、前記基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された有機機能層を含む有機EL積層体と、を含む有機ELパネルであって、
前記有機機能層はストライプ状に形成された複数の発光層を含み、且つ前記絶縁膜上において前記絶縁膜の縁部よりも内側の領域に形成されており、
前記発光層のストライプの長手方向における一方の端部同士を結ぶ線に沿った前記絶縁膜の縁部、及び前記ストライプの長手方向における他方の端部同士を結ぶ線に沿った前記絶縁膜の縁部が、凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す凹凸形状を有し、
前記凹形状部の長さと前記凸形状部の長さとが同一であることを特徴とする有機ELパネル。 - 夫々が前記絶縁膜からの突出部及び窪み部である前記凸形状部及び前記凹形状部は前記発光層を挟んで互いに対向した位置に形成されていることを特徴とする請求項1記載の有機ELパネル。
- 前記ストライプ状の発光層は、前記絶縁膜に開けられた開口部に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機ELパネル。
- 基板と、前記基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された有機機能層を含む有機EL積層体と、を含む有機ELパネルの製造方法であって、
前記基板の表面内において周期的な凹凸形状を有する縁部を含む前記絶縁膜を前記基板上に形成する絶縁膜形成ステップと、液滴射出ヘッドを前記絶縁膜の縁部よりも内側の機能層領域の一端及び前記一端に対向する前記機能層領域の他端の間で移動させつつ有機材料を含む液滴を前記絶縁膜の表面に向けて射出させることにより前記絶縁膜上に前記有機機能層を形成する機能層形成ステップと、を有し、
前記機能層領域の一端に沿った前記絶縁膜の縁部及び前記機能層領域の他端に沿った前記絶縁膜の縁部は前記基板の表面内において周期的な凹凸形状を有し、前記凹凸形状の縁部における前記絶縁膜からの突出部である凸形状部及び前記凹凸形状の縁部における前記絶縁膜の窪み部である凹形状部は互いに同一長であり且つ、前記機能層領域を挟んで互いに対向した位置に形成されており、
前記機能層形成ステップは、前記機能層領域の一端であって前記凹凸形状の縁部における前記凸形状部に対応する位置から前記機能層領域の他端に向けて前記液滴射出ヘッドを移動させつつ前記液滴を射出せしめる第1ステップと、
前記液滴射出ヘッドが前記機能層領域の他端の位置に到達したら前記液滴射出ヘッドを前記機能層領域の他端であって前記凹凸形状の縁部における凸形状部に対応する位置まで移動せしめる第2ステップと、
前記液滴射出ヘッドを前記機能層領域の一端に向けて移動させつつ前記液滴を射出せしめる第3ステップと、を含むことを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 前記液滴射出ヘッドの移動方向に直交する方向における前記液滴射出ヘッドの液滴射出幅は前記凸形状部の長さと同一であるように設定されていることを特徴とする請求項4に記載の有機ELパネルの製造方法。
- 前記絶縁膜形成ステップは、前記基板上に形成した絶縁膜に開口部を形成するステップを含み、
前記機能層形成ステップは、前記開口部に発光層を含む機能層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項4記載の有機ELパネルの製造方法。 - 前記発光層のストライプの長手方向に沿った前記絶縁膜の縁部は、前記凹凸形状を有することを特徴とする請求項1記載の有機ELパネル。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2011/070159 WO2013035145A1 (ja) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 有機elパネル及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012086680A Division JP2013055032A (ja) | 2012-04-05 | 2012-04-05 | 有機elパネル及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5096641B1 true JP5096641B1 (ja) | 2012-12-12 |
JPWO2013035145A1 JPWO2013035145A1 (ja) | 2015-03-23 |
Family
ID=47469537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012513384A Expired - Fee Related JP5096641B1 (ja) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 有機elパネル及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5096641B1 (ja) |
WO (1) | WO2013035145A1 (ja) |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999010862A1 (fr) * | 1997-08-21 | 1999-03-04 | Seiko Epson Corporation | Afficheur a matrice active |
JP2000068071A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-03-03 | Casio Comput Co Ltd | 発光素子及びその製造方法 |
JP2001319778A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-16 | Toyota Motor Corp | 有機el素子 |
JP2002056972A (ja) * | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Sharp Corp | 有機発光素子の製造方法および有機発光素子 |
JP2002289344A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
JP2004030974A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 電子発光素子及びその製造方法 |
JP2005507153A (ja) * | 2001-10-26 | 2005-03-10 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 有機エレクトロルミネセンスディスプレイ |
JP2006172791A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Seiko Epson Corp | 電気光学素子、電気光学素子の製造方法、電気光学装置 |
JP2006221865A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Denso Corp | 有機el素子およびその製造方法 |
JP2006526263A (ja) * | 2003-05-30 | 2006-11-16 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | Oledを製作するためのプロセス |
JP2006332036A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-12-07 | Showa Denko Kk | 表示装置の製造方法 |
JP2007194062A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Nippon Seiki Co Ltd | 有機elパネル |
JP2008041381A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JP2008091070A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Seiko Epson Corp | 発光装置及び電子機器 |
JP2010027502A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Tdk Corp | 有機el表示装置 |
-
2011
- 2011-09-05 WO PCT/JP2011/070159 patent/WO2013035145A1/ja active Application Filing
- 2011-09-05 JP JP2012513384A patent/JP5096641B1/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999010862A1 (fr) * | 1997-08-21 | 1999-03-04 | Seiko Epson Corporation | Afficheur a matrice active |
JP2000068071A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-03-03 | Casio Comput Co Ltd | 発光素子及びその製造方法 |
JP2001319778A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-16 | Toyota Motor Corp | 有機el素子 |
JP2002056972A (ja) * | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Sharp Corp | 有機発光素子の製造方法および有機発光素子 |
JP2002289344A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
JP2005507153A (ja) * | 2001-10-26 | 2005-03-10 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 有機エレクトロルミネセンスディスプレイ |
JP2004030974A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 電子発光素子及びその製造方法 |
JP2006526263A (ja) * | 2003-05-30 | 2006-11-16 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | Oledを製作するためのプロセス |
JP2006172791A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Seiko Epson Corp | 電気光学素子、電気光学素子の製造方法、電気光学装置 |
JP2006221865A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Denso Corp | 有機el素子およびその製造方法 |
JP2006332036A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-12-07 | Showa Denko Kk | 表示装置の製造方法 |
JP2007194062A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Nippon Seiki Co Ltd | 有機elパネル |
JP2008041381A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JP2008091070A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Seiko Epson Corp | 発光装置及び電子機器 |
JP2010027502A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Tdk Corp | 有機el表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013035145A1 (ja) | 2013-03-14 |
JPWO2013035145A1 (ja) | 2015-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3229285B1 (en) | Display panel with pixel definition layer | |
US7503823B2 (en) | Method of producing an organic EL light-emitting device | |
JP4612741B2 (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
KR20180125629A (ko) | 고해상도 유기 발광 다이오드 소자 | |
US20170287993A1 (en) | Display panel and method for manufacturing same | |
JPWO2012001741A1 (ja) | 有機el表示パネルとその製造方法 | |
JP2018139211A (ja) | 気相流を制御して作製された光電子デバイス | |
WO2021249158A1 (zh) | 显示基板、其制作方法及显示装置 | |
JP2010277944A (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
JPWO2015072063A1 (ja) | 有機el表示パネルとその製造方法及び有機el表示装置 | |
CN111192979B (zh) | 显示面板的制造方法及功能层形成装置 | |
WO2017204150A1 (ja) | 有機el表示パネル、有機el表示装置、及び、その製造方法 | |
CN107331780B (zh) | 喷墨打印方法、显示基板及oled的制备方法 | |
WO2016063471A1 (ja) | 表示パネル | |
JP4755314B2 (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
JP5352536B2 (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
JP5096641B1 (ja) | 有機elパネル及びその製造方法 | |
JP4864041B2 (ja) | 有機デバイスの製造装置 | |
CN113871440B (zh) | 有机发光二极管基板及其制造方法 | |
JP2013055032A (ja) | 有機elパネル及びその製造方法 | |
WO2013111300A1 (ja) | 有機elパネル及びその製造方法 | |
JP2005183184A (ja) | 有機el表示装置の製造方法 | |
JP2013052351A (ja) | ノズルプリンティング装置 | |
JP7540880B2 (ja) | 有機el表示パネルの製造方法及び機能層形成装置 | |
JP4922244B2 (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120904 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120920 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5096641 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150928 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |