JP5087883B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
Etching)を行うことにより、レジストマスクに被覆されていない部分のハードマスク膜2を除去して、Si基板1裏面において後に開口部の形成位置となる部分のみを露出させた露出部3を形成した後、レジストマスクを除去する。
2 ハードマスク膜
3 露出部
4 凸部
5 支持台
6 第1の犠牲層
7 振動子膜
8 第2の犠牲層
9 電極膜
10 POST層
11 表面保護膜
12 開口部
13 マイクロフォン
Claims (5)
- 基板の表面上に電子素子が設けられ、基板の裏面側に開口部を備えた半導体装置の製造方法において、
前記基板全体を被覆するようにハードマスク膜を形成するハードマスク膜形成ステップと、
前記基板裏面側における前記ハードマスク膜の所定部分を除去することによって、前記開口部の形成位置に、前記基板を露出させた露出部を形成する露出部形成ステップと、
前記露出部に、前記基板の裏面側における前記ハードマスク膜の表面よりも突出させた凸部を形成する凸部形成ステップと、
前記凸部により前記基板を支持した状態で、前記基板の表面上に前記電子素子を形成する電子素子形成ステップと、
前記ハードマスク膜をマスクとしてエッチングを行うことにより、前記開口部を形成する開口部形成ステップと、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記基板は、シリコン基板であり、
前記凸部は、前記シリコン基板の前記露出部を酸化することにより形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記開口部形成ステップは、
フッ酸を用いたエッチングにより前記凸部を除去するステップと、
前記基板における前記凸部を除去した部分を、水酸化テトラメチルアンモニウムを用いてエッチングすることにより、前記開口部を形成するステップと、
を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記凸部形成ステップは、
前記基板裏面側の前記ハードマスク膜と前記露出部との表面に、前記基板裏側の前記ハードマスク膜の膜厚よりも厚い所定の膜を形成するステップと、
前記ハードマスク膜の表面に形成された前記所定の膜を除去することによって、前記露出部の表面に、前記基板裏面側における前記ハードマスク膜の膜厚よりも厚い前記所定の膜を残すステップと、
を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記電子素子形成ステップでは、
支持台に前記凸部を当接させることにより、前記支持台と前記基板裏面側との間に間隙を形成した状態で、前記電子素子を形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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