JP5083825B2 - 液体中プラズマ放電装置 - Google Patents
液体中プラズマ放電装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5083825B2 JP5083825B2 JP2008169374A JP2008169374A JP5083825B2 JP 5083825 B2 JP5083825 B2 JP 5083825B2 JP 2008169374 A JP2008169374 A JP 2008169374A JP 2008169374 A JP2008169374 A JP 2008169374A JP 5083825 B2 JP5083825 B2 JP 5083825B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- discharge
- discharge electrodes
- solution
- recess
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
高井治、「ソルーションプラズマによるナノ微粒子合成と界面制御」、粉砕、ホソカワ粉体技術研究所、2007年12月28日、No.51、p.30−36
図1は本発明の実施の形態1に係るソリューションプラズマ放電装置21を示す断面図である。シリコンゴム製の基板2を、2つの放電電極1・1が貫通するように固定されている。2つの放電電極1・1の間隔は下部Aが狭く、上部Bに向かって広くなるように配置されている。さらに2つの放電電極1・1の上部Bは、基板2の下面に設けられた凹部3で囲まれた空間の内部にある。凹部3は耐熱性・絶縁性のあるセラミックで形成された被覆材4で覆われている。また2つの放電電極1・1のそれぞれは、シリコンゴムを貫通する部分をセラミックチューブ10・10で覆われている。基板2に固定されたこれら2つの放電電極1・1が容器11内の溶液(液体)12に浸されている。凹部3は溶液12の液面より下にある。
図2は本発明の実施の形態2に係るソリューションプラズマ放電装置22を示す断面図である。実施の形態1と同一の構成のものは同じ符号を付しその説明を省略する。凹部3は四角形状の断面をもち、放電電極1aは基板2に対して垂直に固定され凹部に挿入されている。一方、放電電極1bは基板2に対して水平に固定され凹部に挿入されている。放電電極1bは水平方向に位置を動かすことができ、放電電極1aとの距離を調整できるようになっている。放電電極1bは水平に容器11を貫通するように配置されているので、溶液が漏れないようにシールされている。
図3は本発明の実施の形態3に係るソリューションプラズマ放電装置23を示す断面図である。実施の形態1と同一の構成のものは同じ符号を付しその説明を省略する。凹部3は四角形状の断面をもち、2つの放電電極1c・1cは、容器11の下面を貫通し互いに平行になるよう凹部3に挿入されている。2つの放電電極1c・1cは容器11を貫通する部分を絶縁性のチューブ10で覆われている。そして2つの放電電極1c・1cはチューブ10から露出した部分(中間部D)でそれぞれ反対側に曲げられており、中間部Dの放電電極間の距離は小さく、凹部3で囲まれた内部にある上部Eの放電電極間の距離は大きくなっている。放電電極1c及びチューブ10が容器11を貫通している部分はシールされている。また2つの放電電極1c・1cの周囲を囲うように、上下が開口した円錐形状の整流部材5が配置されている。
図4は本発明の実施の形態4に係るソリューションプラズマ放電装置24を示す断面図である。実施の形態1と同一の構成のものは同じ符号を付しその説明を省略する。凹部3は四角形状の断面をもち、2つの放電電極1d・1dは、基板2に固定され、互いが平行になるように配置されている。
図5は本発明の実施の形態5に係るソリューションプラズマ放電装置25を示す断面図である。実施の形態1と同一の構成のものは同じ符号を付しその説明を省略する。凹部3は四角形状の断面をもち、2つの放電電極1e・1eは、基板2に固定され、互いが平行になるように配置されている。さらに容器11の底面に加熱装置6が設置されている。容器11内の、加熱装置6が配置された上部に、上下が開口した円錐形状の整流部材5が配置されている。
2 基板
3 凹部
4 被覆材
5 整流部材
6 加熱装置
10 チューブ
11 容器
12 溶液(液体)
A 下部
B 上部
C 領域
D 中間部
E 上部
F 領域
G 領域
H 領域
I 位置
21、22、23、24、25 ソリューションプラズマ放電装置
Claims (8)
- 液体中に配置した2つの放電電極間に電圧を印加し、放電させる液体中プラズマ放電装置において、
上記2つの放電電極の上部に配置された基板を備え、
上記基板はその下面に、上記2つの放電電極間の放電により発生した気泡を蓄える凹部を有し、
上記2つの放電電極のそれぞれの上部は、上記凹部に囲まれた気泡を蓄える空間内に配置されており、
上記2つの放電電極のそれぞれの下部は、上記凹部に囲まれた気泡を蓄える上記空間の外に配置されており、
上記2つの放電電極の放電電極間距離は、上記2つの放電電極の上記下部より上記上部において広く、上記凹部に向かうにつれ広がるようになっており、
上記空間の外の、上記2つの放電電極の上記下部の間においてプラズマ放電を発生させ、
気泡が蓄えられた上記空間内の、上記2つの放電電極の上記上部の間において上記プラズマ放電を維持することを特徴とする液体中プラズマ放電装置。 - 上記2つの放電電極は、それぞれ棒状の電極であり、鉛直方向から互いに反対側に傾いて配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液体中プラズマ放電装置。
- 上記液体を加熱し気泡を発生させるための加熱装置をさらに備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の液体中プラズマ放電装置。
- 上記液体中で発生した上記気泡を上記凹部へ導く整流部材をさらに備えていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の液体中プラズマ放電装置。
- 上記凹部は、放電により発生する熱により上昇した上記気泡の温度に耐える材料で構成されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の液体中プラズマ放電装置。
- 上記凹部は、絶縁性の材料で構成されることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の液体中プラズマ放電装置。
- 上記凹部は、セラミックで構成されることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の液体中プラズマ放電装置。
- 上記凹部は、シリコンゴムで構成されることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の液体中プラズマ放電装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008169374A JP5083825B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | 液体中プラズマ放電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008169374A JP5083825B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | 液体中プラズマ放電装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010009993A JP2010009993A (ja) | 2010-01-14 |
JP5083825B2 true JP5083825B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=41590220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008169374A Expired - Fee Related JP5083825B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | 液体中プラズマ放電装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5083825B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9023214B2 (en) * | 2010-02-10 | 2015-05-05 | Aic, Llc | Method and apparatus for applying plasma particles to a liquid and use for disinfecting water |
JP5678493B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-03-04 | 国立大学法人名古屋大学 | 液中プラズマ用電極および液中プラズマ装置 |
JP5817960B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2015-11-18 | 国立大学法人北海道大学 | 金属回収方法及び金属回収装置 |
JP5796999B2 (ja) * | 2011-05-02 | 2015-10-21 | 友信工機株式会社 | 水中放電装置 |
JP2014010931A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Nippon Menaade Keshohin Kk | プラズマ処理方法及び処理装置 |
KR101716392B1 (ko) * | 2015-04-24 | 2017-03-14 | 한국기계연구원 | 플라즈마 분광 분석 장치 및 플라즈마 분광 분석 방법 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3257682B2 (ja) * | 1990-08-01 | 2002-02-18 | 亮拿 佐藤 | アーク処理装置及びアーク処理した水 |
JPH1057832A (ja) * | 1996-08-21 | 1998-03-03 | Komatsu Ltd | 放電衝撃破壊方法及び放電衝撃破壊装置 |
JP4041224B2 (ja) * | 1998-09-25 | 2008-01-30 | 正之 佐藤 | 液体処理方法及び液体処理装置 |
JP2002045684A (ja) * | 2000-08-01 | 2002-02-12 | Ryoda Sato | 超微粒子物質の製造方法および超微粒子物質のコーティング方法 |
JP2005058887A (ja) * | 2003-08-11 | 2005-03-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 高電圧パルスを利用した廃水処理装置 |
JP4446030B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2010-04-07 | 国立大学法人愛媛大学 | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
JP2008013810A (ja) * | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Univ Of Tokyo | 金属ナノ粒子生成方法および金属ナノ粒子生成装置 |
JP4784624B2 (ja) * | 2007-12-20 | 2011-10-05 | 三菱電機株式会社 | 殺菌装置とその装置を用いた空調機、手乾燥機及び加湿器 |
JP5182989B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2013-04-17 | 株式会社豊田自動織機 | 液中プラズマ成膜装置、液中プラズマ用電極および液中プラズマを用いた成膜方法 |
-
2008
- 2008-06-27 JP JP2008169374A patent/JP5083825B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010009993A (ja) | 2010-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5083825B2 (ja) | 液体中プラズマ放電装置 | |
AU2008253584B2 (en) | Method and apparatus for producing hydrogen and oxygen gas | |
Ayan et al. | Nanosecond-pulsed uniform dielectric-barrier discharge | |
US20150102255A1 (en) | Liquid treatment device and liquid treatment method | |
WO2014077181A1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
Vanraes et al. | The essential role of the plasma sheath in plasma–liquid interaction and its applications—A perspective | |
US9593030B2 (en) | Liquid treatment apparatus and liquid treatment method | |
US20150352516A1 (en) | Treatment liquid production device and treatment liquid production method | |
CN115605972A (zh) | 一种等离子体发生器 | |
WO2011099247A1 (ja) | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 | |
Abdelaziz et al. | Development and characterization of a wire-plate air bubbling plasma for wastewater treatment using nanosecond pulsed high voltage | |
WO2017110165A1 (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
Jiang et al. | Spatially resolved absolute densities of reactive species and positive ion flux in He-O2 RF-driven atmospheric pressure plasma jet: touching and non-touching with dielectric substrate | |
Chang et al. | Diagnostic studies of ac-driven plasmas in saline solutions: the effect of frequency on the plasma behavior | |
Shih et al. | Effects of Electrode Protrusion Length, Pre‐Existing Bubbles, Solution Conductivity and Temperature, on Liquid Phase Pulsed Electrical Discharge | |
Horikoshi et al. | Microwave-driven in-liquid plasma in chemical and environmental applications. III. Examination of optimum microwave pulse conditions for prolongation of electrode lifetime, and application to dye-contaminated wastewater | |
RU2702594C1 (ru) | Способ плазменной активации воды или водных растворов и устройство для его осуществления | |
JP2013152788A (ja) | 液中プラズマ発生装置及び液中プラズマ発生方法 | |
JP2016175820A (ja) | アンモニアの製造方法及び化合物製造装置 | |
Kumagai et al. | Plasma‐on‐Chip: device for non‐thermal atmospheric pressure plasma irradiation to single cells | |
JP5390315B2 (ja) | 金属担持物製造装置及び金属担持物製造方法 | |
JP2009110795A (ja) | 異極像結晶を用いたx線発生装置 | |
JP6121081B1 (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
Marken | Chemical and electro-chemical applications of in situ microwave heating | |
Wei et al. | Microplasma anode meeting molten salt electrochemistry: charge transfer and atomic emission spectral analysis |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101028 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120221 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20120309 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120309 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120515 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120731 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120829 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5083825 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |