JP5083268B2 - 基板支持装置 - Google Patents
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この支持部材に設けられ、前記裏面支持部に支持された基板の側面を囲み、基板の位置を規制する位置規制部と、
前記位置規制部に囲まれる基板の支持領域の外方から当該支持領域に向かって下降し、基板の周縁部を滑降させて、基板を裏面支持部上にガイドするための傾斜部と、
前記支持部材を支持する基体と、
前記基体に対して支持部材を移動させるための駆動機構と、
を備え、
前記裏面支持部、前記位置規制部及び前記傾斜部のうち少なくともいずれかは、多数のファイバをその先端がその表面に突出するように保持する基材を備え、
この基材を被覆する第1の膜と、その第1の膜上に積層された第2の膜とを含む、化学的浸食を防ぐためのダイヤモンドライクカーボンにより構成される保護膜が、前記裏面支持部、前記位置規制部、前記傾斜部のうち少なくともいずれかに前記基材の表面に突出した前記ファイバを被覆して設けられ、
前記保護膜がその表面に形成された前記基材は、基板の衝突による応力を基板が衝突した位置から分散させるために変形し、前記位置の応力が分散して弱まるとその復元力により元の形状に戻るように構成され、
前記保護膜は、前記基材に追従して変形するように構成され、
前記第1の膜を構成する主成分と、前記第2の膜を構成する主成分とが互いに異なり、前記第1の膜を構成する主成分としてフッ素が含まれ、第2の膜を構成する主成分としてシリコンが含まれ、
前記第1の膜の膜厚は1μm〜3μmであり、前記第2の膜の膜厚は5μm〜10μmであり、
基板搬送装置として構成されたことを特徴とする。
評価試験1−1として、図18に示すように4つのウエハ保持部材33を周方向に配置し、その裏面支持部34にウエハWを載置した。各ウエハ保持部材33は不図示の駆動部に接続され、各ウエハ保持部材33の間隔を保ったまま、図中矢印で示すように水平方向に往復移動できるようになっている。また、ウエハ保持部材33の下側側壁部35がウエハWの側面から若干離れるように各ウエハ保持部材33の位置は調整されている。ただし、このウエハ保持部材33には、実施の形態で説明したDLCからなる保護膜41が形成されていない。また、この試験で用いたウエハ保持部材33は、実施の形態で説明したPEEK樹脂の代わりに所定の樹脂により構成されている。前記樹脂中にはカーボンファイバが実施形態と同様に混入されている。ウエハWの載置後、ウエハ保持部材33を20万回往復移動させ、その下側側壁部35にウエハWを衝突させた。その後、下側側壁部35に形成された摩耗痕の深さについて顕微鏡を用いて測定した。
評価試験1−7として、評価試験1−3と同様の試験を行った。ただし、ウエハ保持部材33の往復移動回数は1000万回とし、摩耗痕の測定箇所は裏面支持部34とした。
評価試験1−8として、評価試験1−5と同様の試験を行った。ただし、ウエハ保持部材33の往復移動回数は1000万回とし、摩耗痕の測定箇所は裏面支持部34とした。
評価試験2−1として、ウエハ保持部材33にスルホン酸の原液を滴下し、形成された摩耗痕(浸食痕)の深さについて顕微鏡を用いて測定した。ただし、このウエハ保持部材33には保護膜41が形成されておらず、また、PEEK樹脂の代わりに評価試験1−1で用いた所定の樹脂により構成されたウエハ保持部材33を使用した。
評価試験2−4として、評価試験2−2と同様の試験を行った。この評価試験2−3でもウエハ保持部材に形成された保護膜は単層であり、その厚さは6μmである。
評価試験2−5として、既述の実施形態で説明した下層膜42と上層膜43とからなる保護膜41が形成されたウエハ保持部材33を用いて評価試験2−2と同様の試験を行った。下層膜42、上層膜43の厚さは夫々3μmであり、第1の保護膜を構成する各元素の比率と第2の保護膜を構成する各元素の比率とは互いに異なっている。
評価試験2−6として、評価試験2−2と同様の試験を行った。この評価試験2−3でもウエハ保持部材に形成された保護膜は単層であり、その厚さは6μmである。
評価試験2−10として、ポリイミドにより構成されたウエハ保持部材33を用いて評価試験2−2と同様の評価試験を行った。この評価試験2−10でもウエハ保持部材に形成された保護膜は単層であり、その厚さは3μmである。この評価試験2−10でウエハ保持部材33に形成された保護膜を構成する各元素の比率は、評価試験2−1〜2−4、2−6の保護膜41を構成する各元素の比率と同じである。
A3 搬送アーム
21 加熱モジュール
3,5 ウエハ搬送部
32 フレーム部
33 ウエハ保持部材
34 裏面支持部
35 下側垂直壁部
36 傾斜部
40 基材
41 保護膜
42 下層膜
43 上層膜
45 カーボンファイバ
46 金型
50 インターフェイスアーム
Claims (3)
- 基板の裏面を支持する裏面支持部を備えた支持部材と、
この支持部材に設けられ、前記裏面支持部に支持された基板の側面を囲み、基板の位置を規制する位置規制部と、
前記位置規制部に囲まれる基板の支持領域の外方から当該支持領域に向かって下降し、基板の周縁部を滑降させて、基板を裏面支持部上にガイドするための傾斜部と、
前記支持部材を支持する基体と、
前記基体に対して支持部材を移動させるための駆動機構と、
を備え、
前記裏面支持部、前記位置規制部及び前記傾斜部のうち少なくともいずれかは、多数のファイバをその先端がその表面に突出するように保持する基材を備え、
この基材を被覆する第1の膜と、その第1の膜上に積層された第2の膜とを含む、化学的浸食を防ぐためのダイヤモンドライクカーボンにより構成される保護膜が、前記裏面支持部、前記位置規制部、前記傾斜部のうち少なくともいずれかに前記基材の表面に突出した前記ファイバを被覆して設けられ、
前記保護膜がその表面に形成された前記基材は、基板の衝突による応力を基板が衝突した位置から分散させるために変形し、前記位置の応力が分散して弱まるとその復元力により元の形状に戻るように構成され、
前記保護膜は、前記基材に追従して変形するように構成され、
前記第1の膜を構成する主成分と、前記第2の膜を構成する主成分とが互いに異なり、前記第1の膜を構成する主成分としてフッ素が含まれ、第2の膜を構成する主成分としてシリコンが含まれ、
前記第1の膜の膜厚は1μm〜3μmであり、前記第2の膜の膜厚は5μm〜10μmであり、
基板搬送装置として構成されたことを特徴とする基板支持装置。 - 前記基材は樹脂からなることを特徴とする請求項1記載の基板支持装置。
- 前記保護膜は、前記位置規制部、裏面支持部または傾斜部の摩耗を防ぐことを特徴とする請求項2に記載の基板支持装置。
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