JP6126414B2 - 基板搬送装置、基板研磨装置 - Google Patents
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Description
1つの基板載置部において、基板の一端側が第1傾斜面に沿って上方に向けてずれたとしても、当該一端側が第2傾斜面に当接することによって、当該一端側がそれ以上、上方に向けてずれることがない。その結果、他の基板載置部において、基板の他端側が第1傾斜面からずれ落ちることがない。すなわち、基板の落下を抑制できる。
図1は、本発明の一例としてのCMP研磨装置の全体構成を示す平面図であり、図2は、図1に示す研磨装置の概要を模式的に示す斜視図である。図1に示すように、研磨装置は、略矩形状のハウジング1を備えており、ハウジング1の内部は、隔壁1a,1b,1cによって、ロード/アンロード部2と研磨部3(3a,3b)と洗浄部4とに区画されている。これらのロード/アンロード部2、研磨部3a,3bおよび洗浄部4は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。
向と垂直な方向)に隣接して配列されている。フロントロード部20には、オープンカセット、SMIF(Standard Manufacturing Interface)ポッドまたはFOUP(Front Opening Unified Pod)を搭載することができる。
置TP5から反転機41へ、第1リニアトランスポータ5の第4搬送位置TP4から反転機41へ、それぞれウェハを搬送できるようになっている。
S1(被駆動側の搬送ステージ)の支持部51に連結され、他端には、ストッパ571が設けられている。また、シャフト58の一端は、第3搬送ステージTS3(被駆動側の搬送ステージ)の支持部53に連結され、他端には、ストッパ581が設けられている。シャフト57には、第1搬送ステージTS1の支持部51と第2搬送ステージTS2の支持部52との間にスプリング572が介装されており、同様にシャフト58には、第2搬送ステージTS2の支持部52と第3搬送ステージTS3の支持部53との間にスプリング582が介装されている。第1リニアトランスポータ5の両端部には、それぞれ第1搬送ステージTS1の支持部51および第3搬送ステージTS3の支持部53に当接するメカストッパ501,502が設けられている。
第5搬送位置TP5と第7搬送位置TP7との間でウェハを搬送する。詳しい説明は省略するが、第2リニアトランスポータ6は、リニアトランスポータ5と同様の構成によって、搬送ステージTS5,TS6,TS7の移動およびウェハの支持を行う。
cにウェハW2が載置される場合についても同様である。
および第4傾斜面154b,154cを備えている。第1傾斜面151b,151cの上方には、水平方向に対して垂直な垂直面152b,152cが形成されている。かかるピン150b,150cでは、図中の矢印の方向に向かう方向にピン150b,150cを移動させてウェハを搬送する場合、第3傾斜面153b,153cに載置されたウェハW3が当該ウェハの搬送時、特に、停止時に衝撃を受けた際に、ウェハW3の一端側が垂直面152cに沿って制限なく上方に移動可能となるので、ウェハW4として示すように、他端側がピン150bから落下する状況が生じ得る。上述した実施例としてのピン50a〜50dによれば、このようなウェハの落下を抑制できる。
B−1.変形例1:
第1傾斜面51cと第2傾斜面52cとの間には、水平方向と直交する垂直面が形成されていてもよい。こうしても、上述の実施例と同様の効果を奏する。ただし、ウェハの移動範囲を一層小さく規制するためには、上述した実施例の構成がより望ましい。
第1傾斜面51cは、1つの傾斜角度のみで形成されていてもよい。こうしても、上述の実施例と同様に、ウェハの落下抑制効果を奏する。この場合、第2傾斜面52cは、直線方向において、第1傾斜面51cの下端点55c(図6参照)よりも、ウェハが載置される側と反対側に位置していてもよいし、直線方向において、第1傾斜面51cの中央の位置よりも、ウェハが載置される側と反対側に位置していてもよい。こうすれば、上述の実施例と同様に、ウェハの載置を行いやすい。
第1傾斜面51cおよび第2傾斜面52cは、ピン50cの周方向の全体に亘って形成されている必要はなく、少なくとも、ウェハが載置される領域に亘って形成されていればよい。
1a,1b,1c…隔壁
2…ロード/アンロード部
3,3a,3b…研磨部
4…洗浄部
5,6…リニアトランスポータ
7…スイングトランスポータ
20…フロントロード部
21…走行機構
22…搬送ロボット
30A〜30D…研磨ユニット
31…反転機
32…リフタ
33,34,37,38…プッシャ
41…反転機
42…洗浄機
46…搬送ユニット
50a〜50d…ピン(基板載置部)
51,52,53,54…支持部
51b,51c…第1傾斜面
52b,52c…第2傾斜面
53b,53c…第3傾斜面
54b,54c…第4傾斜面
55…エアシリンダ
55a…ロッド
55c…下端点
56…連結部材
56c…上端点
57…シャフト
57c…上端点
58…シャフト
300A,300B,300C,300D…研磨テーブル
301,301A,301B,301C,301D…トップリング
302A,302B,302C,302D…研磨液供給ノズル
303A,303B,303C,303D…ドレッサ
304A,304B,304C,304D…アトマイザ
501,502…メカストッパ
571,581…ストッパ
572,582…スプリング
590…エアシリンダ
W1〜W4…ウェハ
TP1〜TP7…搬送位置
TS1〜TS7…搬送ステージ
Claims (5)
- 基板を搬送するための基板搬送装置であって、
水平方向に移動可能に構成された搬送ステージと、
前記搬送ステージから鉛直方向上方に向けて突出するように3つ以上設けられた基板載置部と
を備え、
前記基板載置部は、
前記水平方向に対して傾斜し、上方側に向けられた第1傾斜面であって、前記3つ以上の基板載置部の内側において前記基板を載置するための第1傾斜面と、
前記水平方向に対して傾斜し、下方側に向けられた第2傾斜面であって、前記第1傾斜面の上方に形成された第2傾斜面と
を備え、
前記3つ以上の基板載置部は、相対的に移動できないように前記搬送ステージ上で位置が固定されており、基板の面内方向に力を与えないように基板を載置する、
基板搬送装置。 - 請求項1に記載の基板搬送装置であって、
前記第2傾斜面は、前記第1傾斜面と連続する位置に形成された
基板搬送装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板搬送装置であって、
前記3つ以上の基板載置部のうちの任意の2つの前記基板載置部の各々の中心点を通る直線方向において、前記第1傾斜面の下端は、前記第2傾斜面の上端よりも、前記基板が載置される側に位置する
基板搬送装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の基板搬送装置であって、
前記第1傾斜面は、
前記水平方向に対して第1の傾斜角度を有する第3傾斜面と、
前記第3傾斜面よりも上方に形成され、前記第1の傾斜角度よりも大きな第2の傾斜角度を有する第4傾斜面と
を備えた基板搬送装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の基板搬送装置を備えた基板研磨装置。
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